公开(公告)号：CN112420554B

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202010860335.6

申请日：2020-08-24

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金俊镐 ,  申景湜 ,  安迎曙 ,  辛辰基 ,  姜湾圭 ,  史允基

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：工艺腔室，在所述工艺腔室中具有工艺空间；支承单元，其在所述工艺空间中支承所述基板；加热构件，其加热支承于所述支承单元上的所述基板；和排放单元，其抽排所述工艺空间。所述排放单元包括排放管和热量保持单元，所述热量保持单元具有保持从所述工艺空间释放的热量的保持空间。所述保持空间围绕所述排放管中邻近所述工艺腔室的邻近区域。

公开(公告)号：CN110854037B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN201910724640.X

申请日：2019-08-07

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 申景湜 ,  姜湾圭 ,  金俊镐

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 提供一种在接近销形成孔，并连接接近销的孔与真空孔，而防止在基板的热处理时产生气流的加热板、具备其的基板热处理装置及加热板的制造方法。本发明的加热板包括：主体部，在内部具有用于加热基板的加热器；多个第一孔，由主体部的上部向下方贯通主体部形成；多个接近销，形成于主体部的上部，以基板未与主体部的上部接触的方式支撑基板；及多个第二孔，形成于多个接近销中的至少一部分的接近销，并由接近销的表面向下方贯通接近销而形成，第一孔与第二孔相互连接，将第一孔与第二孔的内部制造为真空状态而固定基板。

公开(公告)号：CN114334715A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202111152937.7

申请日：2021-09-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金俊镐 ,  李相勋 ,  徐钟锡

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供一种冷却单元。在一个实施方式中，冷却单元包括：冷却板，其具有安置表面；销构件，其设置在冷却板处并支撑基板；减压孔，其形成在安置表面上；减压路径，其形成在冷却板内并与减压孔连接；减压构件，其用于对减压路径进行减压；和控制器，其用于控制减压构件，其中控制器控制减压构件以对基板与冷却板的安置表面之间的空间进行减压，从而调节基板与冷却板的安置表面之间的距离。

公开(公告)号：CN112687579A

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN202011119329.1

申请日：2020-10-19

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 申景湜 ,  金俊镐 ,  辛辰基

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：工艺腔室，所述工艺腔室在内部具有工艺空间；支承单元，所述支承单元在所述工艺空间中支承所述基板；加热单元，所述加热单元设置在所述支承单元内部并加热所述基板；排放单元，所述排放单元排空所述工艺空间；和气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应到所述工艺空间中，并且所述气体供应单元供应处于选自第一温度和第二温度的温度的所述气体。

公开(公告)号：CN114171429A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202111051488.7

申请日：2021-09-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金俊镐 ,  李相勋 ,  徐钟锡 ,  张镐镇 ,  宋京院

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种烘烤单元以及用于处理基板的装置。烘烤单元包括：壳体，该壳体具有上盖和下框架，该上盖和该下框架组合提供用于基板的热处理的处理空间；加热器，该加热器设置在处理空间中、以用于加热放置在该加热器上的基板；加热器杯状物，该加热器杯状物配置为围绕该加热器；以及第一吹扫气体供应单元，该第一吹扫气体供应单元用于提供第一吹扫气体流以阻止外部空气通过下框架与加热器杯状物之间的间隙流入。

公开(公告)号：CN112420554A

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN202010860335.6

申请日：2020-08-24

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金俊镐 ,  申景湜 ,  安迎曙 ,  辛辰基 ,  姜湾圭 ,  史允基

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：工艺腔室，在所述工艺腔室中具有工艺空间；支承单元，其在所述工艺空间中支承所述基板；加热构件，其加热支承于所述支承单元上的所述基板；和排放单元，其抽排所述工艺空间。所述排放单元包括排放管和热量保持单元，所述热量保持单元具有保持从所述工艺空间释放的热量的保持空间。所述保持空间围绕所述排放管中邻近所述工艺腔室的邻近区域。

公开(公告)号：CN110854037A

公开(公告)日：2020-02-28

申请号：CN201910724640.X

申请日：2019-08-07

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 申景湜 ,  姜湾圭 ,  金俊镐

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 提供一种在接近销形成孔，并连接接近销的孔与真空孔，而防止在基板的热处理时产生气流的加热板、具备其的基板热处理装置及加热板的制造方法。本发明的加热板包括：主体部，在内部具有用于加热基板的加热器；多个第一孔，由主体部的上部向下方贯通主体部形成；多个接近销，形成于主体部的上部，以基板未与主体部的上部接触的方式支撑基板；及多个第二孔，形成于多个接近销中的至少一部分的接近销，并由接近销的表面向下方贯通接近销而形成，第一孔与第二孔相互连接，将第一孔与第二孔的内部制造为真空状态而固定基板。