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公开(公告)号:CN110882867B
公开(公告)日:2022-11-08
申请号:CN201910852555.1
申请日:2019-09-10
Applicant: 株式会社爱发科 , 夏普株式会社 , 堺显示器制品株式会社
IPC: B05B7/16
Abstract: 本发明的课题在于防止原料液体的空化。在原料液体以被吹到汽化板(8)的方式流动的原料液体导入路(6),配置有棒状的阻力体(7),使原料液体导入路(6)相对于原料液体的导入率下降。由于液体质量流量控制器的出口侧的压力上升,与液体质量流量控制器的入口侧的压力的压力差变小,因而能够防止空化的发生。能够使阻力体(7)以多个构成。
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公开(公告)号:CN110882867A
公开(公告)日:2020-03-17
申请号:CN201910852555.1
申请日:2019-09-10
Applicant: 株式会社爱发科 , 夏普株式会社 , 堺显示器制品株式会社
IPC: B05B7/16
Abstract: 本发明的课题在于防止原料液体的空化。在原料液体以被吹到汽化板(8)的方式流动的原料液体导入路(6),配置有棒状的电阻器(7),使原料液体导入路(6)相对于原料液体的电导率下降。由于液体质量流量控制器的出口侧的压力上升,与液体质量流量控制器的入口侧的压力的压力差变小,因而能够防止空化的发生。能够使电阻器(7)以多个构成。
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公开(公告)号:CN102575343B
公开(公告)日:2014-04-16
申请号:CN201080044569.8
申请日:2010-10-01
IPC: C23C16/44 , C23C16/24 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/24 , C23C16/325 , C23C16/345 , C23C16/4404 , C23C16/481 , H01L21/68757
Abstract: 在催化CVD装置(100)中,保持体300)具有用于防止从催化剂丝(11)所放出的辐射线向基材(200)侧反射的防反射结构。
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公开(公告)号:CN102017168B
公开(公告)日:2013-07-24
申请号:CN200980112752.4
申请日:2009-06-03
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L31/04 , C23C16/50 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/67754 , C23C16/4401 , C23C16/4587 , C23C16/509 , C23C16/54 , H01L21/67161 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/67781 , H01L31/0687 , H01L31/182 , H01L31/1824 , Y02E10/545 , Y02E10/546 , Y02P70/521
Abstract: 一种薄膜太阳能电池制造装置包括:收容基板的成膜室;以及在该成膜室内对所述基板通过CVD法进行膜形成的电极单元,所述电极单元具有:阳极和阴极;以及侧壁部,所述侧壁部保持该阳极和阴极,构成所述成膜室的壁部的一部分,进一步对于所述成膜室装卸自如。
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公开(公告)号:CN101999159A
公开(公告)日:2011-03-30
申请号:CN200980112941.1
申请日:2009-06-03
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/205 , C23C16/54 , H01L31/04
CPC classification number: H01L21/67167 , C23C16/5096 , C23C16/54 , H01J37/32743 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67754 , H01L21/67781 , H01L31/18
Abstract: 一种薄膜太阳能电池制造装置包括:成膜室,被排气以减压并通过CVD法在基板上形成膜;放入取出室,与所述成膜室经由第一开闭部连接,并能够在大气压与减压之间切换;第一托架,保持成膜处理前的基板;以及第二托架,保持成膜处理后的基板,所述放入取出室同时收容所述第一托架与所述第二托架。
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公开(公告)号:CN112210765B
公开(公告)日:2022-11-18
申请号:CN202010406402.7
申请日:2020-05-14
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明公开真空室及基板处理装置。真空室由多个块体沿基板的运送方向配置而构造,其中块体在从运送方向观察时具有环状的开口空间,真空室能够将通过连通多个块体的开口空间而形成的内部空间的气氛切换为大气压气氛和真空气氛,该真空室包括:作为多个块体之一的第一块体;作为多个块体之一的第二块体,具有沿与运送方向交叉的方向延伸且在开口空间的内侧下表面上形成的槽,第二块体通过密封部件连接固定到第一块体;基底部件,沿着槽的延伸方向延伸且嵌合到槽中;和多个基板支撑销,具有支撑端和固定端,支撑端与基板接触,固定端位于支撑端的相反侧且固定到基底部件,多个基板支撑销在真空室的内部支撑基板。
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公开(公告)号:CN111834252A
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN202010284602.X
申请日:2020-04-13
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明的基板处理装置,具备:多段收纳多张基板的卡匣;能够密闭地收纳所述卡匣的腔室;使所述卡匣在所述腔室内升降的升降机构;将所述基板相对于所述卡匣搬出搬入的搬运机器人;以及控制所述升降机构及所述搬运机器人的动作的控制部,在所述腔室的侧面部设置有在将所述基板搬入所述卡匣和从该卡匣搬出时开口的搬出搬入口,所述搬运机器人具备载置所述基板的机械臂,所述机械臂能够在水平方向上移动并从所述搬出搬入口插入所述卡匣内,且能够在所述卡匣内上升或下降,所述控制部在所述卡匣内使所述机械臂下降的情况下,通过所述升降机构使所述卡匣上升,在所述卡匣内使所述机械臂上升的情况下,通过所述升降机构使所述卡匣下降。
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公开(公告)号:CN102473609B
公开(公告)日:2015-04-01
申请号:CN201080026689.5
申请日:2010-07-29
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/509 , H01J37/32
CPC classification number: C23C16/509 , H01J37/3244 , H01J37/32724
Abstract: 该成膜装置(10)包括:阴极单元(68);以及离开所述阴极单元(68)并对置配置的阳极(67),该阴极单元(68)包括:电极板(76),施加有电压;温度调整流体用流路(92),设置在所述电极板(76)上,温度调整流体在该温度调整流体用流路中循环;簇射极板(75),与所述电极板(76)接触,并具有用于向基板(W)的被成膜面供给工艺气体的多个孔(74);热交换用板(91),设置在所述电极板(76)与所述簇射极板(75)之间,并与所述电极板(76)和所述簇射极板(75)接触;以及气体流路(107),设置在所述热交换用板(91)上,并将所述工艺气体导入到所述热交换用板(91),且将被导入到所述热交换用板(91)的工艺气体引导至所述簇射极板(75)的所述多个孔(74)。
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公开(公告)号:CN102947481A
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:CN201080067571.7
申请日:2010-06-21
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/50
CPC classification number: C23C16/4585 , H01L21/68707 , H01L21/68742
Abstract: 提供在真空中使基板迅速反转的技术。本发明的基板反转装置(20)具有:在作为真空槽的腔室(21)内使基板(50)升降的升降机构(60);具有以夹持基板(50)的方式保持基板的把持部(41a、42a)的基板保持机构(4A~4D);以及使基板保持机构(4A~4D)的把持部(41a、42a)旋转来使基板(50)的上下关系反转的基板旋转机构(30)。在本发明中,在保持基板(50)的状态下,使基板旋转机构(30)以沿水平方向延伸的直线为旋转轴旋转180°。
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公开(公告)号:CN102473608A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN201080025630.4
申请日:2010-07-28
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/205 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4587
Abstract: 该成膜装置(10)包括:成膜室(11),在重力方向上具有上部(22),以基板(W)的被成膜面与重力方向平行的方式配置所述基板(W);电极单元(31),可装卸地设置于所述成膜室(11),并具有被施加电压的平板状的阴极(75)以及与所述阴极(75)分开并对置配置的阳极(67);装卸用轨道(41),设置在所述成膜室(11)的所述上部,并沿着从所述成膜室(11)引出所述电极单元(31)的方向设置,用于引导所述电极单元(31)。
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