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公开(公告)号：CN109782431B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201811331965.3
申请日：2018-11-09
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 提供了一种具有中央支撑件的微机电反射器。本发明涉及一种扫描式微机电反射器系统，其包括具有反射器本体的反射器、在器件平面上方的与反射器本体竖向对准的第一腔体以及在器件平面下方的与反射器本体竖向对准的第二腔体。反射器还包括位于反射器本体中的中央开口内的中央附接点。一个或更多个挠曲件从中央开口的侧壁延伸至中央附接点。挠曲件使得在致动器单元将反射器本体向器件平面外倾斜时中央附接点能够保持静止在器件平面中。反射器系统包括延伸穿过腔体到达反射器的中央附接点的中央支撑结构。
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公开(公告)号：CN108450010A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201680055320.4
申请日：2016-09-23
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G01P15/125 , G01P15/18
Abstract: 本结构能够以紧凑的组件尺寸并且以最小的横轴灵敏度实现加速度的双向感测。旋转质量块(100)包括第一框架(102)和第二框架(102)。在一个感测方向上，该结构采用第一框架和第二框架的组合检测质量块，这提高了利用所述装置尺寸可实现的信噪比水平。在另一个感测方向上，具有至少两个感测元件的检测结构(140)用于检测第二框架的检测质量块的位移。由于检测结构(140)的特定内部构造，感测元件在一个方向上的信号贡献相互抵消。
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公开(公告)号：CN108027386A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680054607.5
申请日：2016-09-22
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 安斯·布卢姆奎斯特 , 维莱-佩卡·吕特克宁 , 马蒂·柳库
IPC: G01P15/08 , G01P15/125 , B81C1/00 , B81B3/00 , B81B7/00
Abstract: 本发明涉及一种微机电装置，其包括半挠性敏感质量块，该半挠性敏感质量块包括至少一个一级部分、至少一个二级部分和将半挠性敏感质量块的所述至少一个一级部分和所述至少一个一级部分悬挂的至少一个刚性弹簧。当该装置处于其正常操作范围时，刚性弹簧大致使所述至少一个一级部分和所述至少一个二级部分作为单个刚性实体移动。该装置还包括构造成使所述至少一个一级部分停止的至少一个第一止动器结构。半挠性敏感质量块构造成在该装置受到以超出该装置的正常操作范围的力碰撞该装置的冲击时通过所述至少一个刚性弹簧的偏转而变形。在该冲击引起半挠性敏感质量块至少在沿着运动轴线的一个方向上的运动的同时，所述至少一个刚性弹簧还构造成产生回复力，该回复力使半挠性敏感质量块的所述至少一个二级部分被驱动成在与由冲击引起的沿着运动轴线的运动相反的方向上进行回复运动，其中，所述至少一个二级部分在回复运动中的动量进一步使所述至少一个一级部分与第一止动器结构脱离。
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公开(公告)号：CN107406250A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680014405.8
申请日：2016-03-07
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: B81B7/02
Abstract: 一种MEMS结构，所述MEMS结构提供了利用施加的电压选择性地控制MEMS装置的机电性质的改进方法。MEMS结构包括电容器元件，所述电容器元件包括至少一个定子元件(6，1)和被悬置成相对于定子元件、平行于第一方向运动的至少一个转子元件(8，3)。定子元件和转子元件形成至少一个电容器元件，电容器元件的电容根据转子元件相对于初始位置的位移而变化。定子元件和转子元件相互定向成使得在转子元件相对于初始位置的位移的至少一个范围内，电容关于位移的二阶导数具有负值。
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公开(公告)号：CN107003333A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580065424.9
申请日：2015-11-24
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 维莱-佩卡·吕特克宁 , 马蒂·柳库
IPC: G01P15/125 , G01P15/18
Abstract: 本发明的MEMS传感器具有用于在旋转模式下测量在与弹簧轴线垂直的平面内方向上的加速度的可移动部件和固定部件。所述部件包括元件框架(1)、基板(7)、检测质量块(2)、与检测质量块(2)和基板(7)连接的弹簧(5)以及梳状电极(9a，9b)。MEMS传感器的主要特征在于部件的布置引起对于测量在覆盖纵向加速度和横向加速度的范围内的加速度的固有灵敏性。一个或更多个部件相对于元件框架(1)倾斜。本发明的半导体封装(12)包括至少一个MEMS传感器。
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公开(公告)号：CN107406250B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201680014405.8
申请日：2016-03-07
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: B81B7/02
Abstract: 一种MEMS结构，所述MEMS结构提供了利用施加的电压选择性地控制MEMS装置的机电性质的改进方法。MEMS结构包括电容器元件，所述电容器元件包括至少一个定子元件(6，1)和被悬置成相对于定子元件、平行于第一方向运动的至少一个转子元件(8，3)。定子元件和转子元件形成至少一个电容器元件，电容器元件的电容根据转子元件相对于初始位置的位移而变化。定子元件和转子元件相互定向成使得在转子元件相对于初始位置的位移的至少一个范围内，电容关于位移的二阶导数具有负值。
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公开(公告)号：CN105452876B
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201480036160.X
申请日：2014-06-27
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 马蒂·柳库 , 维尔-佩卡·吕特克宁 , 安斯·布卢姆奎斯特
IPC: G01P15/125 , G01P15/18
Abstract: 本发明涉及电容式微机械加速度传感器，其包括第一传感器(2)，第二传感器(4)和第三传感器(5)。第一传感器(2)包括转子电极(6)和定子电极(7)。传感器包括连接到转子电极支承结构(19)并且连接到转子电极(6)的第一梁(8)。传感器包括连接到转子电极支承结构(19)并且连接到转子电极(6)的第二梁(12)。第二传感器(4)被定位在由第一梁(8)、第一传感器(2)，和转子电极支承结构(19)限定的第一空间(17)中。第三传感器(5)被定位在由第二梁(12)、第一传感器(2)，和转子电极支承结构(19)限定的第二空间(18)中。
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公开(公告)号：CN107667067A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201680027941.1
申请日：2016-05-09
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 安蒂·伊霍拉 , 阿尔蒂·托尔凯利 , 维尔-佩卡·吕特克宁 , 马蒂·柳库
IPC: B81B3/00
Abstract: 本发明涉及一种微机械器件，其包括仅包含均质硅材料的多层微机械结构。器件层包括至少一转子和至少两个定子。来自转子和至少两个定子中的至少一些从器件层的第一表面至少部分地凹入至至少两个不同的凹入深度，并且来自转子和至少两个定子中的至少一些从器件层的第二表面至少部分地凹入至至少两个不同的凹入深度。
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公开(公告)号：CN118624940A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410254578.3
申请日：2024-03-06
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 维莱-佩卡·吕特克宁 , 马蒂·柳库 , 安斯·布卢姆奎斯特
IPC: G01P15/125 , G01P1/00
Abstract: 本申请涉及平面内和平面外加速度计。在一些实施例中，公开了一种微机电加速度计，其包括一个或更多个检测质量块。该加速度计还包括四组定子梳状物，该四组定子梳状物与转子梳状物一起形成一组四个测量电容器。一些转子梳状物具有相对于定子的在装置平面内的方向上的正偏移，而其他转子梳状物具有负偏移。一些转子梳状物具有相对于定子梳状物的在垂直于装置平面的方向上的负偏移。一些定子梳状物具有相对于转子梳状物的在垂直于装置平面的方向上的负偏移。
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