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公开(公告)号：CN101154037B
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200710141905.0
申请日：2007-08-16
Applicant: 株式会社日立制作所 , 东京应化工业株式会社
CPC classification number: C07C39/17 , C07C39/15 , G03F7/0382 , Y10S430/106
Abstract: 随着微细化，要求半导体电路图案尺寸的精度接近于抗蚀剂分子尺寸，但抗蚀剂图案的边缘粗糙度导致设备性能劣化或对系统性能造成不良影响。本发明使用一种图案形成用基材，其特征在于，所述图案形成用基材为每1分子具有0个以上6个以下在酸的作用下发生化学转化、对碱性显影液的溶解性降低的官能团的化合物的混合物，在除所述官能团之外的部分，具有2个以上三苯基甲烷结构非共轭地连接的结构，所述官能团与多核酚化合物的酚羟基键合，每1分子具有0个所述官能团的多核酚化合物的重量比为15％以下，且每1分子有3个以上所述官能团的多核酚化合物的重量比为40％以下，并且与所述多核酚化合物键合的所述官能团个数平均每1分子为2.5以下。
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公开(公告)号：CN101154037A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200710141905.0
申请日：2007-08-16
Applicant: 株式会社日立制作所 , 东京应化工业株式会社
CPC classification number: C07C39/17 , C07C39/15 , G03F7/0382 , Y10S430/106
Abstract: 随着微细化，要求半导体电路图案尺寸的精度接近于抗蚀剂分子尺寸，但抗蚀剂图案的边缘粗糙度导致设备性能劣化或对系统性能造成不良影响。本发明使用一种图案形成用基材，其特征在于，所述图案形成用基材为每1分子具有0个以上6个以下在酸的作用下发生化学转化、对碱性显影液的溶解性降低的官能团的化合物的混合物，在除所述官能团之外的部分，具有2个以上三苯基甲烷结构非共轭地连接的结构，所述官能团与多核酚化合物的酚羟基键合，每1分子具有0个所述官能团的多核酚化合物的重量比为15％以下，且每1分子有3个以上所述官能团的多核酚化合物的重量比为40％以下，并且与所述多核酚化合物键合的所述官能团个数平均每1分子为2.5以下。
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公开(公告)号：CN100572422C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由下述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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公开(公告)号：CN101176041A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200680016732.3
申请日：2006-04-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种含有在酸的作用下碱溶性增大的基材成分(A)和利用曝光产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分(A)含有：具有2个以上苯酚性羟基且分子量为300～2500的多元酚化合物(a)中的所述苯酚性羟基被酸解离性溶解抑制基保护的化合物(A1)，而且，所述化合物(A1)的每一分子保护数(个)的标准差(σn)不到1或者每一分子的保护率(摩尔％)的标准差(σp)不到16.7。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1918217A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由上述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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公开(公告)号：CN102621807B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201210008798.5
申请日：2012-01-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)，其中，相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份。[化1][式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基，R1为具有1个以上伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团]。
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公开(公告)号：CN101176041B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN200680016732.3
申请日：2006-04-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种含有在酸的作用下碱溶性增大的基材成分(A)和利用曝光产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分(A)含有：具有2个以上苯酚性羟基且分子量为300～2500的多元酚化合物(a)中的所述苯酚性羟基被酸解离性溶解抑制基保护的化合物(A1)，而且，所述化合物(A1)的每一分子保护数(个)的标准差(σn)不到1或者每一分子的保护率(摩尔％)的标准差(σp)不到16.7。
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公开(公告)号：CN102621807A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210008798.5
申请日：2012-01-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)，其中，相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份。[化1][式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基，R1为具有1个以上伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团。
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公开(公告)号：CN101515112A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910006470.8
申请日：2009-02-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , C08F220/10 , C08L33/08
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/124 , Y10S430/125 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物，它是含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性增大的基材成分(A)和通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其特征在于，上述基材成分(A)含有高分子化合物(A1)，该高分子化合物(A1)具有下述通式(a0－1)表示的结构单元(a0)，式中，R1是氢原子、低级烷基或卤代低级烷基，A是2价的连接基团，B是2价的连接基团，R2是酸解离性溶解抑制基团。
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