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公开(公告)号：CN101681112B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200880015584.2
申请日：2008-05-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0276 , G03F7/0046 , G03F7/091
Abstract: 本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物，该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异，可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物，可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低，因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且，该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性，因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。
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公开(公告)号：CN1788239A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200480012725.7
申请日：2004-05-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/038
Abstract: 本发明提供一种负性光致抗蚀剂组合物，该组合物用于这样形成图案的方法中：其中将底层膜置于基片上，含有负性光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀层置于所述底层膜上面，该光致抗蚀膜被选择地曝光，然后所述底层膜和所述光致抗蚀膜同时经受显影处理，而且该组合物包括(A)碱可溶性树脂，(B)用射线辐照时生成酸的酸生成剂，和(C)交联剂，该组合物的特征在于所述酸生成剂(B)包括含有无亲水基阳离子的鎓盐。该负性光致抗蚀剂组合物可以形成分辨率改善的抗蚀图案。
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公开(公告)号：CN101681113A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880015585.7
申请日：2008-05-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0276 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/091
Abstract: 本发明提供在光刻胶膜上形成防反射膜时所用的防反射膜形成用组合物，该组合物操作简单，且与使用PFOS的防反射膜同样可形成具有优异光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含特定的氟化合物。该防反射膜形成用组合物，由于上述特定的氟化合物有助于提高防反射膜的光学特性，因而可以形成具有优异光学特性的防反射膜。
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公开(公告)号：CN101176041A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200680016732.3
申请日：2006-04-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种含有在酸的作用下碱溶性增大的基材成分(A)和利用曝光产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分(A)含有：具有2个以上苯酚性羟基且分子量为300～2500的多元酚化合物(a)中的所述苯酚性羟基被酸解离性溶解抑制基保护的化合物(A1)，而且，所述化合物(A1)的每一分子保护数(个)的标准差(σn)不到1或者每一分子的保护率(摩尔％)的标准差(σp)不到16.7。
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公开(公告)号：CN101176041B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN200680016732.3
申请日：2006-04-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种含有在酸的作用下碱溶性增大的基材成分(A)和利用曝光产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其中，所述基材成分(A)含有：具有2个以上苯酚性羟基且分子量为300～2500的多元酚化合物(a)中的所述苯酚性羟基被酸解离性溶解抑制基保护的化合物(A1)，而且，所述化合物(A1)的每一分子保护数(个)的标准差(σn)不到1或者每一分子的保护率(摩尔％)的标准差(σp)不到16.7。
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公开(公告)号：CN101681112A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880015584.2
申请日：2008-05-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0276 , G03F7/0046 , G03F7/091
Abstract: 本发明提供具有特定pH值的防反射膜形成用组合物，该组合物保存稳定性、与光刻胶膜的配合性、以及涂布性优异，可以形成具有充分的光学特性的防反射膜。用于形成设置于光刻胶膜上的防反射膜的防反射膜形成用组合物，该防反射膜形成用组合物包含水溶性膜形成成分和特定氟化合物。该防反射膜形成用组合物通过添加特定氟化合物，可以容易地调整pH值而不会使涂布性降低，因而可以提供保存稳定性、以及与光刻胶膜的配合性优异的防反射膜形成用组合物。并且，该氟化合物也有助于提高防反射膜的光学特性，因此可以提供可形成具有优异光学特性的防反射膜的防反射膜形成用组合物。
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