公开(公告)号：CN102621807B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201210008798.5

申请日：2012-01-12

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 熊田信次 ,  前盛谕 ,  新井雅俊 ,  盐野大寿

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)，其中，相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份。[化1][式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基，R1为具有1个以上伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团]。

公开(公告)号：CN102621807A

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：CN201210008798.5

申请日：2012-01-12

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 熊田信次 ,  前盛谕 ,  新井雅俊 ,  盐野大寿

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)，其中，相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份。[化1][式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基，R1为具有1个以上伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团。