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公开(公告)号：CN107649010A
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201710591602.2
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社纳米膜技术 , 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D71/44 , B01D53/228 , B01D67/0083 , B01D67/0093 , B01D71/70 , B01D2323/30 , C08G77/16 , C08G77/18 , C08G77/20 , C08G77/398 , C08G77/58 , C08L43/04 , B01D67/0002
Abstract: 本发明涉及透气膜。本发明提供具有通式(I)表示的部分结构或下述通式(II)表示的部分结构的透气膜、用于制造该透气膜的组合物、及该透气膜的制造方法。式中，R1及R2各自独立地为氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数2～6的链烯基、碳原子数1～6的烷氧基、碳原子数2～6的链烯基氧基、芳基、或芳基氧基，M1、M2及M3各自独立地为金属原子，m1为整数，n1、n2及n3各自独立地为1～3的整数，＊表示连接键。
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公开(公告)号：CN110036104A
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201780075186.9
申请日：2017-12-05
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 粒子捕获设备，其具备第1基板、和以与第1基板的一侧平行地相对的方式配置的第2基板，第1基板具备多个在第1基板的另一侧开口、且具有可捕获1个粒子的大小的凹部，凹部具备将一侧与另一侧连通、且具有粒子的分散介质可移动的大小的连通孔，第1基板与第2基板之间形成有将第1基板的连通孔作为分散介质的流入口、且将第1基板的一侧的端部作为分散介质的流出口的流路，连通孔的总开口面积为1mm2以上且小于10mm2、且流出口处的流路的截面积为连通孔的总开口面积的0.8倍以上，或者，连通孔的总开口面积为10mm2以上且1000mm2以下、且流出口处的流路的截面积为连通孔的总开口面积的0.1倍以上。
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公开(公告)号：CN102027414B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN200980118371.7
申请日：2009-05-13
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 东海旅客铁道株式会社
CPC classification number: C23C18/14 , G03F7/0047 , G03F7/0226 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供能够形成高析像度且有机物残渣影响小的金属化合物薄膜图案的正型感光性组合物。该正型感光性组合物含有通过涂布后的煅烧处理能够形成金属化合物薄膜的金属络合物成分(A)以及感光剂(B)，(A)成分的配体优选为以芳香族化合物为骨架的多齿配体。通过具有该组成，即使实质上不含有感光性树脂的组合物体系，也能够赋予感光性，能够容易地形成金属化合物薄膜图案。
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公开(公告)号：CN110036104B
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN201780075186.9
申请日：2017-12-05
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 粒子捕获设备，其具备第1基板、和以与第1基板的一侧平行地相对的方式配置的第2基板，第1基板具备多个在第1基板的另一侧开口、且具有可捕获1个粒子的大小的凹部，凹部具备将一侧与另一侧连通、且具有粒子的分散介质可移动的大小的连通孔，第1基板与第2基板之间形成有将第1基板的连通孔作为分散介质的流入口、且将第1基板的一侧的端部作为分散介质的流出口的流路，连通孔的总开口面积为1mm2以上且小于10mm2、且流出口处的流路的截面积为连通孔的总开口面积的0.8倍以上，或者，连通孔的总开口面积为10mm2以上且1000mm2以下、且流出口处的流路的截面积为连通孔的总开口面积的0.1倍以上。
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公开(公告)号：CN111032191A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880054160.0
申请日：2018-08-03
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社纳米膜技术
Abstract: 本发明提供在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，能良好地分离混合气体中的微量成分的气体分离方法，和在该气体分离方法中适宜使用的气体分离膜。在使用气体分离膜、从包含浓度为1000质量ppm以下的特定的气体(A)的混合气体中使气体(A)选择性透过的气体分离方法中，通过使用膜厚为1μm以下的极薄的气体分离膜，从而在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，良好地分离气体(A)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102027414A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980118371.7
申请日：2009-05-13
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 东海旅客铁道株式会社
CPC classification number: C23C18/14 , G03F7/0047 , G03F7/0226 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供能够形成高析像度且有机物残渣影响小的金属化合物薄膜图案的正型感光性组合物。该正型感光性组合物含有通过涂布后的煅烧处理能够形成金属化合物薄膜的金属络合物成分(A)以及感光剂(B)，(A)成分的配体优选为以芳香族化合物为骨架的多齿配体。通过具有该组成，即使实质上不含有感光性树脂的组合物体系，也能够赋予感光性，能够容易地形成金属化合物薄膜图案。
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公开(公告)号：CN100572422C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由下述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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公开(公告)号：CN1918217A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由上述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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公开(公告)号：CN111032191B
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN201880054160.0
申请日：2018-08-03
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社纳米膜技术
Abstract: 本发明提供在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，能良好地分离混合气体中的微量成分的气体分离方法，和在该气体分离方法中适宜使用的气体分离膜。在使用气体分离膜、从包含浓度为1000质量ppm以下的特定的气体(A)的混合气体中使气体(A)选择性透过的气体分离方法中，通过使用膜厚为1μm以下的极薄的气体分离膜，从而在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，良好地分离气体(A)。
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公开(公告)号：CN106827754A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201611026954.5
申请日：2016-11-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: B32B27/34 , B32B7/12 , B32B27/06 , C08G73/10 , C09J179/08
CPC classification number: B32B27/34 , B32B7/12 , B32B27/06 , B32B2307/306 , B32B2457/20 , C08G73/1071 , C09J179/08
Abstract: 本发明涉及层叠体的制造方法及其用途。本发明提供具有高耐热性、且能够将由聚酰亚胺树脂形成的基板顺利地剥离的新型的层叠体的制造方法及其相关技术。层叠体的制造方法包括：将形成基板(1)的聚酰亚胺树脂的酰亚胺键的一部分水解的水解工序；在支撑板(2)上形成含有具有下述式(1)所示的结构单元的聚酰胺酸而成的粘接层(3)的粘接层形成工序；和介由粘接层(3)贴合基板(1)和支撑板(2)的贴合工序。其中，式(1)中，R1为4价的有机基团，是碳原子数为2以上且11以下的芳香族基团等；R2为2价的有机基团，是可含有氮原子等的、碳原子数为2以上且50以下的芳香族基团等；n为1以上。
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