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公开(公告)号：CN119673798A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202410759517.2
申请日：2024-06-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置的溶剂供给部配置在比处理槽的上表面的开口高的位置，并在俯视时从处理槽的外侧向处理槽的内侧供给雾状的溶剂。控制部在基板浸渍于处理液中时进行溶剂供给动作，即，对腔室内进行减压，并且从溶剂供给部供给雾状的溶剂。当处于对腔室内进行减压且供给溶剂的溶剂供给状态时，控制部使升降器将基板从处理槽内的处理液中取出，之后，通过打开QDR阀而从处理槽排出处理液。在处于溶剂供给状态时，控制部由升降器使基板下降到未贮存处理液的处理槽内的下位置，之后，由升降器使基板上升。
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公开(公告)号：CN111656493B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN201880087647.9
申请日：2018-11-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明是一种对基板供给处理液的基板处理装置，包括：喷嘴管(412)，朝基板喷出处理液；送液管(411)，连接于喷嘴管(412)，并朝喷嘴管(412)输送处理液；以及抽吸管(413)，在比送液管(411)更靠下游侧处连接于喷嘴管(412)，并对喷嘴管(412)内的处理液进行抽吸。至少自抽吸管(413)的连接位置起下游侧的喷嘴管(412)的内径为抽吸管(413)的内径以下。由此，抽吸处理液的抽吸力充分地作用至喷嘴管内。因而，在喷嘴管内不易残留处理液，从而能够防止处理液的液滴下落。
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公开(公告)号：CN110943006B
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN201910770657.9
申请日：2019-08-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)包括处理槽(110)、基板保持部(120)、流体供给部(130)及控制部(140)。处理槽(110)蓄存用于处理基板的处理液。基板保持部(120)在处理槽(110)的处理液内保持基板。流体供给部(130)向处理槽(110)供给流体。控制部(140)控制流体供给部(130)。控制部(140)在对蓄存有使基板(W)浸渍的处理液的处理槽(110)开始流体的供给，直至对蓄存有使基板(W)浸渍的处理液的处理槽(110)结束流体供给为止的期间，控制流体供给部(130)，以使流体供给部(130)变更流体的供给。本发明的基板处理装置以及基板处理方法能够抑制处理槽内的基板处理的偏颇。
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公开(公告)号：CN112997289B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN201980072017.9
申请日：2019-10-31
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/683 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明抑制基板的旋转。在配置于基板处理装置的内槽(501)的处理位置处的升降机(13)的保持棒(132)上设有保持槽(1321)，相对于由该保持槽从下方保持的基板(W)设有从上方进行保持的保持部(52a)。
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公开(公告)号：CN114334716A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111172547.6
申请日：2021-10-08
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明的课题是，在将衬底(W)浸渍于处理槽(821)中贮存的处理液内，并且在处理液内向所述衬底(W)供给气泡而对其进行处理的衬底处理系统(1)中，缩小气泡(V)的尺寸，提高衬底的处理品质。本发明是一种衬底处理装置，包含：处理液喷出部(830)，形成处理液的液流(L)，该液流(L)从保持于衬底保持部(810)的衬底(W)的下方沿着衬底(W)流向上方；及气泡供给部(840)，配置在处理液喷出部(830)与衬底保持部(810)之间，向处理槽(821)中贮存的处理液内供给气泡(V)；且气泡供给部(840)具有：气体供给管(842)，向内部供给气体；及气泡喷出口(845)，设置于气体供给管(842)，向衬底的排列方向喷出气泡(V)。
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公开(公告)号：CN113490999A
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202080014920.2
申请日：2020-02-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 基板处理装置(100)将基板(W)浸渍于作为贮存于内槽(112)的处理液(L)的贮存处理液(L1)进行基板(W)的处理。基板处理装置(100)具备气泡供给部(130)和循环部(160)。气泡供给部(130)向贮存处理液(L1)供给气泡(KA)。循环部(160)对气泡供给部(130)生成贮存处理液(L1)的第一液流(R1)。
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公开(公告)号：CN108987306A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201810541443.X
申请日：2018-05-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: B05D1/005 , B05B1/30 , B08B3/08 , H01L21/67051 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其中，包括：冲洗液供给工序，向基板的主面供给含有水的冲洗液；旋转工序，使基板以通过基板的主面的中央部的旋转轴线为中心旋转；以及疏水剂供给工序，在进行所述冲洗液供给工序后，与所述旋转工序并行执行，向所述基板的主面供给疏水剂以将由基板的主面保持的液体置换为含有第一溶剂的疏水剂。所述疏水剂供给工序包括疏水剂喷出工序，在所述疏水剂喷出工序中，从喷嘴的喷出口以所述喷出口处的雷诺数为1500以下的方式向由基板保持单元保持的基板的主面喷出疏水剂的连续流。
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公开(公告)号：CN115360118A
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202210543393.5
申请日：2022-05-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法是在处理槽(3)中，以含有磷酸的蚀刻液(E)蚀刻具有交替积层的硅氧化膜(Ma)与硅氮化膜(Mb)的衬底(W)的方法。衬底处理方法包含：将衬底(W)浸渍在蚀刻液(E)中的步骤(S1)；及在衬底(W)的蚀刻中，对处理槽(3)内的蚀刻液(E)补充磷酸，使蚀刻液(E)的硅浓度变化的步骤(S2)。
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公开(公告)号：CN111656493A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN201880087647.9
申请日：2018-11-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明是一种对基板供给处理液的基板处理装置，包括：喷嘴管(412)，朝基板喷出处理液；送液管(411)，连接于喷嘴管(412)，并朝喷嘴管(412)输送处理液；以及抽吸管(413)，在比送液管(411)更靠下游侧处连接于喷嘴管(412)，并对喷嘴管(412)内的处理液进行抽吸。至少自抽吸管(413)的连接位置起下游侧的喷嘴管(412)的内径为抽吸管(413)的内径以下。由此，抽吸处理液的抽吸力充分地作用至喷嘴管内。因而，在喷嘴管内不易残留处理液，从而能够防止处理液的液滴下落。
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公开(公告)号：CN110943006A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201910770657.9
申请日：2019-08-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)包括处理槽(110)、基板保持部(120)、流体供给部(130)及控制部(140)。处理槽(110)蓄存用于处理基板的处理液。基板保持部(120)在处理槽(110)的处理液内保持基板。流体供给部(130)向处理槽(110)供给流体。控制部(140)控制流体供给部(130)。控制部(140)在对蓄存有使基板(W)浸渍的处理液的处理槽(110)开始流体的供给，直至对蓄存有使基板(W)浸渍的处理液的处理槽(110)结束流体供给为止的期间，控制流体供给部(130)，以使流体供给部(130)变更流体的供给。本发明的基板处理装置以及基板处理方法能够抑制处理槽内的基板处理的偏颇。
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