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公开(公告)号：CN108028192A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680054020.4
申请日：2016-09-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 一种基板处理方法，使用处理液处理被保持为水平姿势的基板，所述基板处理方法包括置换工序，在该置换工序中，将附着于所述基板的上表面的处理液置换为表面张力低于该处理液的表面张力的低表面张力液体，所述置换工序执行如下工序：中央部喷出工序，从配置于所述基板的上方的第一低表面张力液体喷嘴向所述上表面的中央部喷出所述低表面张力液体；非活性气体供给工序，与所述中央部喷出工序并行执行，为了形成沿所述上表面流动的气流，向所述基板的上方供给非活性气体；以及周缘部喷出供给工序，与所述中央部喷出工序及所述非活性气体供给工序并行执行，从配置于所述基板的上方的第二低表面张力液体喷嘴向所述上表面的周缘部喷出所述低表面张力液体。
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公开(公告)号：CN108701604B
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN201780013897.3
申请日：2017-01-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
Abstract: 在将内侧杯部(24)的上端配置于较外侧杯部(25)的上端靠下方的位置的外侧杯相对状态下，一面以通过外侧杯部(25)的内侧面接收从上表面(91)飞散的液体的方式使基板(9)以较高的转速旋转，一面朝上表面(91)上依次供给纯水、混合液及有机溶剂。接着，在内侧杯部(24)的内侧面被配置于基板(9)的周围的内侧杯相对状态下，朝上表面(91)供给填充材料溶液，在上表面(91)上填充填充材料溶液。由此，防止填充材料溶液与纯水在内侧杯部(24)内混合，从而防止填充材料溶液的胶状化等。通过供给将有机溶剂与纯水混合而成的混合液，抑制形成于上表面(91)的图案要素的倒塌。
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公开(公告)号：CN108701604A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780013897.3
申请日：2017-01-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 在将内侧杯部(24)的上端配置于较外侧杯部(25)的上端靠下方的位置的外侧杯相对状态下，一面以通过外侧杯部(25)的内侧面接收从上表面(91)飞散的液体的方式使基板(9)以较高的转速旋转，一面朝上表面(91)上依次供给纯水、混合液及有机溶剂。接着，在内侧杯部(24)的内侧面被配置于基板(9)的周围的内侧杯相对状态下，朝上表面(91)供给填充材料溶液，在上表面(91)上填充填充材料溶液。由此，防止填充材料溶液与纯水在内侧杯部(24)内混合，从而防止填充材料溶液的胶状化等。通过供给将有机溶剂与纯水混合而成的混合液，抑制形成于上表面(91)的图案要素的倒塌。
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公开(公告)号：CN108028192B
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN201680054020.4
申请日：2016-09-13
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 一种基板处理方法，使用处理液处理被保持为水平姿势的基板，所述基板处理方法包括置换工序，在该置换工序中，将附着于所述基板的上表面的处理液置换为表面张力低于该处理液的表面张力的低表面张力液体，所述置换工序执行如下工序：中央部喷出工序，从配置于所述基板的上方的第一低表面张力液体喷嘴向所述上表面的中央部喷出所述低表面张力液体；非活性气体供给工序，与所述中央部喷出工序并行执行，为了形成沿所述上表面流动的气流，向所述基板的上方供给非活性气体；以及周缘部喷出工序，与所述中央部喷出工序及所述非活性气体供给工序并行执行，从配置于所述基板的上方的第二低表面张力液体喷嘴向所述上表面的周缘部喷出所述低表面张力液体。
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公开(公告)号：CN107104074B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201710080441.0
申请日：2017-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/687
Abstract: 一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵接位置远离旋转轴线的开放位置间移动；基板处理装置还包括驱动用磁铁，其与可动销对应设置且在旋转台的径向上具有规定的磁极方向；按压用磁铁，具有在其与驱动用磁铁之间提供磁吸引力或磁排斥力的磁极，该磁吸引力或者该磁排斥力使支撑部推向抵接位置而使支撑部按压于基板的周缘部；按压力变动单元，其随着旋转台的旋转，将支撑部按压基板的周缘部的按压力大小保持为大于零的同时使大小变动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108987306A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201810541443.X
申请日：2018-05-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: B05D1/005 , B05B1/30 , B08B3/08 , H01L21/67051 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其中，包括：冲洗液供给工序，向基板的主面供给含有水的冲洗液；旋转工序，使基板以通过基板的主面的中央部的旋转轴线为中心旋转；以及疏水剂供给工序，在进行所述冲洗液供给工序后，与所述旋转工序并行执行，向所述基板的主面供给疏水剂以将由基板的主面保持的液体置换为含有第一溶剂的疏水剂。所述疏水剂供给工序包括疏水剂喷出工序，在所述疏水剂喷出工序中，从喷嘴的喷出口以所述喷出口处的雷诺数为1500以下的方式向由基板保持单元保持的基板的主面喷出疏水剂的连续流。
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公开(公告)号：CN108701605A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780013898.8
申请日：2017-01-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 在上表面(91)形成有结构体的基板(9)的处理中，在上表面(91)上保持有机溶剂的液膜以使有机溶剂填满结构体中的间隙之后，进行通过填充剂的供给而用填充剂取代该有机溶剂的处理、及除去附着于基板(9)的外缘部的填充剂的处理。将形成于防溅部(25)的内侧面与基板(9)的外缘部之间的环状的最小间隙作为环状间隙，以使前者的处理中的环状间隙的宽度较后者的处理中的该宽度变大的方式，使防溅部(25)升降。由此，在保持液膜时，使基板(9)的外缘部附近的气体的流速降低，以抑制液膜的崩溃等，且在清洗基板(9)的外缘部时，使从外缘部附近朝向环状间隙的气体的流速增大，以抑制从基板(9)飞散的清洗液等返回基板(9)。
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公开(公告)号：CN108257891B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201711406516.6
申请日：2017-12-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种使用紫外线进行多个处理也能抑制尺寸增加的基板处理装置。基板处理装置具有紫外线照射装置(2)和基板保持装置(31、32)。紫外线照射装置2位于处理室(11、12)的边界，并且能够向处理室(11、12)照射紫外线。基板保持装置31配置于处理室(11)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。基板保持装置(32)配置于处理室(12)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。
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公开(公告)号：CN107104074A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710080441.0
申请日：2017-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/687
Abstract: 一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵接位置远离旋转轴线的开放位置间移动；基板处理装置还包括驱动用磁铁，其与可动销对应设置且在旋转台的径向上具有规定的磁极方向；按压用磁铁，具有在其与驱动用磁铁之间提供磁吸引力或磁排斥力的磁极，该磁吸引力或者该磁排斥力使支撑部推向抵接位置而使支撑部按压于基板的周缘部；按压力变动单元，其随着旋转台的旋转，将支撑部按压基板的周缘部的按压力大小保持为大于零的同时使大小变动。
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