公开(公告)号：CN117476496A

公开(公告)日：2024-01-30

申请号：CN202310742703.0

申请日：2023-06-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田村零央 ,  东克荣 ,  玉置康人

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供回吸方法及衬底处理装置。回吸方法是具备喷出喷嘴(5)、处理液供给配管(121)、和虹吸方式的回吸机构(92)的衬底处理装置(100)的回吸方法。喷出喷嘴(5)朝向衬底(W)喷出处理液。处理液供给配管(121)使处理液流通至喷出喷嘴(5)。回吸机构(92)利用虹吸原理进行使残留在喷出喷嘴(5)内的处理液即残留处理液回吸至基准位置(RS)的回吸处理。该回吸方法包括：开始回吸处理的工序；和在回吸处理期间使残留处理液移动的速度即抽吸速度(X)增加的工序。

公开(公告)号：CN115020272A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202111646596.9

申请日：2021-12-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 东克荣 ,  田村零央 ,  竹本宪司 ,  长尾大树

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具备基板保持部、喷嘴(8)、第一供给管(114)、第一开闭部(111)、第一流量调节部(112)、第二供给管(124)和流量控制部(200)。第二供给管向喷嘴供给处理液。流量控制部对第一开闭部及第一流量调节部进行控制。流量控制部在第一期间内，在打开第一供给管的状态下对第一流量调节部的开度进行反馈控制，将第一流量调节部的开度决定为第一开度。流量控制部在第二期间内，在将第一流量调节部的开度设为第一开度的状态下，不对第一流量调节部的开度进行反馈控制地开闭第一供给管。第一期间是第二期间之前的期间。

公开(公告)号：CN108987306A

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201810541443.X

申请日：2018-05-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田中孝佳 ,  江本哲也 ,  大迹明 ,  中野佑太 ,  中野哲平 ,  秋山刚志 ,  土桥裕也 ,  田村零央 ,  永德笃郎 ,  岩田智巳

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05B1/30 ,  B08B3/08 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其中，包括：冲洗液供给工序，向基板的主面供给含有水的冲洗液；旋转工序，使基板以通过基板的主面的中央部的旋转轴线为中心旋转；以及疏水剂供给工序，在进行所述冲洗液供给工序后，与所述旋转工序并行执行，向所述基板的主面供给疏水剂以将由基板的主面保持的液体置换为含有第一溶剂的疏水剂。所述疏水剂供给工序包括疏水剂喷出工序，在所述疏水剂喷出工序中，从喷嘴的喷出口以所述喷出口处的雷诺数为1500以下的方式向由基板保持单元保持的基板的主面喷出疏水剂的连续流。