公开(公告)号：CN108987306A

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201810541443.X

申请日：2018-05-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 田中孝佳 ,  江本哲也 ,  大迹明 ,  中野佑太 ,  中野哲平 ,  秋山刚志 ,  土桥裕也 ,  田村零央 ,  永德笃郎 ,  岩田智巳

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05B1/30 ,  B08B3/08 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其中，包括：冲洗液供给工序，向基板的主面供给含有水的冲洗液；旋转工序，使基板以通过基板的主面的中央部的旋转轴线为中心旋转；以及疏水剂供给工序，在进行所述冲洗液供给工序后，与所述旋转工序并行执行，向所述基板的主面供给疏水剂以将由基板的主面保持的液体置换为含有第一溶剂的疏水剂。所述疏水剂供给工序包括疏水剂喷出工序，在所述疏水剂喷出工序中，从喷嘴的喷出口以所述喷出口处的雷诺数为1500以下的方式向由基板保持单元保持的基板的主面喷出疏水剂的连续流。

公开(公告)号：CN119698687A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202380055937.6

申请日：2023-09-12

Applicant: 株式会社斯库林集团 ,  IMEC非营利协会

Inventor： 中野哲平 ,  国通·乐

IPC: H01L21/3065

Abstract: 本发明的衬底处理方法是对在表面具有金属层、及层叠在金属层上的硬掩模的衬底进行处理。该方法包括下述工序：对从硬掩模露出的金属层进行干式蚀刻而图案化；对由干式蚀刻而产生在衬底的表面的残渣照射紫外线；以及在紫外线照射后，通过湿式处理来从衬底去除残渣，所述湿式处理是将pH值(氢离子指数)为7以上且14以下的残渣去除液供给到衬底的表面。残渣含有包含金属层的主构成金属的元素的金属氧化物、金属卤化物、及有机金属系物质中的一种以上。

公开(公告)号：CN116848622A

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN202180094163.9

申请日：2021-02-24

Applicant: IMEC非营利协会 ,  株式会社斯库林集团

Inventor： A·帕科 ,  中野哲平

IPC: H01L21/3213

Abstract: 本公开涉及一种用于蚀刻钼特征物的方法，其包括以下步骤：a)使用热氧化工艺氧化该钼特征物的厚度部分以形成热钼氧化物层，以及b)使用湿化学物溶解该热钼氧化物层。