半导体发光元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN100568548C

    公开(公告)日:2009-12-09

    申请号:CN200510004500.3

    申请日:2005-01-24

    Inventor: 油利正昭

    CPC classification number: H01L33/16 H01L33/22

    Abstract: 本发明提供一种半导体发光元件及其制造方法。在蓝宝石基板(1)上依次形成n型GaN层(2)、InGaN多量子阱活性层(3)、p型AlGaN电子势垒层(4)、p型AlGaN/GaN应变超晶格层(5)以及p型GaN接触层(6)。通过以在p型GaN接触层(6)的光取出部上具备开口的方式形成p侧欧姆电极(7)。在p型GaN接触层(6)的光取出部,通过使用甲醇、氟酸、以及过氧水的混合溶液的湿式蚀刻,而形成多孔结构(9)。因此,这种半导体发光元件,无需使用微细光刻技术或者干式蚀刻技术,而光取出效率高且放射图案良好。

    半导体激光装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101558535A

    公开(公告)日:2009-10-14

    申请号:CN200880001109.X

    申请日:2008-10-15

    Abstract: 本发明公开了一种半导体激光装置。该半导体激光装置具有形成在基板(1)的主面上且由III族氮化物半导体构成的包含MQW活性层(5)的叠层结构体。叠层结构体具有形成在该叠层结构体的主面的条状波导路,波导路的彼此相向的端面中的一个是光射出端面。在凹部(2)的周围形成有第一区域和第二区域,该第一区域是MQW活性层(5)中禁带宽度为Eg1的区域,该第二区域是MQW活性层(5)中禁带宽度为Eg2的区域,且与该第一区域邻接,而且Eg2≠Eg1。所形成的波导路包含第一区域及第二区域,且不包含台阶区域,光射出端面形成在第一区域及第二区域中光吸收波长较短的那个区域(5a)。

    发光二极管元件
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101373809A

    公开(公告)日:2009-02-25

    申请号:CN200810169915.X

    申请日:2003-06-24

    Abstract: 本发明公开了一种发光二极管元件,包括:半导体叠层膜,具有第一导电型的第一半导体层与第二导电型的第二半导体层;形成在所述半导体叠层膜的一个面上的第一电极;形成在所述半导体叠层膜的所述一个面的对面上的第二电极;形成为与所述第一电极或所述第二电极相接的金属膜;以及在所述半导体叠层膜与所述金属膜之间,所述半导体叠层膜与所述金属膜的周边部所形成的电流狭窄层。

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