半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN101086956A

    公开(公告)日:2007-12-12

    申请号:CN200710106430.1

    申请日:2007-05-29

    Abstract: 本发明公开了半导体装置的制造方法。目的在于:当制造具有脆弱部分的结构的半导体装置时,在避免对半导体装置造成损坏的情况下进行切割。本发明的半导体装置100的制造方法,包括:工序(a),在具有多个芯片的半导体晶片(101)中的各个芯片的规定区域上形成振动膜(103);工序(b),将含有位于各个芯片的振动膜(103)上的牺牲层(113)的中间膜(102)形成在半导体晶片上;工序(c),在中间膜(102)上形成固定膜(104);工序(d),通过对半导体晶片(101)进行刀片切割,来将各个芯片(100a)分开;以及工序(e),通过对各个芯片(100a)进行蚀刻,来除去牺牲层(113),在振动膜(103)与固定膜(104)之间设置空隙。

    半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN101086956B

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200710106430.1

    申请日:2007-05-29

    Abstract: 本发明公开了半导体装置的制造方法。目的在于:当制造具有脆弱部分的结构的半导体装置时,在避免对半导体装置造成损坏的情况下进行切割。本发明的半导体装置100的制造方法,包括:工序(a),在具有多个芯片的半导体晶片(101)中的各个芯片的规定区域上形成振动膜(103);工序(b),将含有位于各个芯片的振动膜(103)上的牺牲层(113)的中间膜(102)形成在半导体晶片上;工序(c),在中间膜(102)上形成固定膜(104);工序(d),通过对半导体晶片(101)进行刀片切割,来将各个芯片(100a)分开;以及工序(e),通过对各个芯片(100a)进行蚀刻,来除去牺牲层(113),在振动膜(103)与固定膜(104)之间设置空隙。

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