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公开(公告)号：CN106114596B
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201610654420.0
申请日：2016-08-10
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种履带式爬楼搬运小车稳定行走机构，其主动轮、前从动轮和后从动轮的回转中心构成三角状且中从动轮回转中心位于前从动轮与后从动轮回转中心的连线上；主动轮、前从动轮、中从动轮、后从动轮缠绕履带；中固定杆上下两端分别转动配合主动轮、中从动轮；上伸缩杆的两端分别转动配合主动轮、前从动轮；上固定杆的两端分别转动配合主动轮、后从动轮；下伸缩杆的两端分别转动配合前从动轮、中从动轮；下固定杆的两端分别转动配合后从动轮、中从动轮。本发明通过调节前从动轮高度使履带前后两部分相对转动并形成一定角度，可消除履带行走机构在爬楼开始时履带与楼梯的冲击，提高爬楼搬运小车行走机构运动的稳定性和安全性。
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公开(公告)号：CN106876520A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201710046206.1
申请日：2017-01-22
Applicant: 杭州电子科技大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/0236 , C23F1/08 , C23F1/24 , B82Y40/00
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521 , H01L31/1804 , B82Y40/00 , H01L31/02363
Abstract: 本发明公开了一种控制硅纳米线走向的装置，包括反应釜体、可调电源、控制单元、盛放蚀刻溶液器皿和泵，反应釜体的中部设有硅片架，反应釜体由硅片架及硅片平分为左右两个腔室，盛放蚀刻溶液器皿通过管道分别连接至两个腔室，泵设于管道的前端，反应釜体的顶部设有端盖，端盖上设有环形导轨和滑块，滑块与环形导轨相匹配，两个腔室分别设有惰性电极，惰性电极与硅片架相对面为平面，惰性电极通过穿设于端盖及滑块的长螺栓与可调电源电连接，两个长螺栓通过连杆连接，惰性电极与可调电源电连接，可调电源和泵分别受控制单元的控制。本发明制备可控硅表面纳米结构的装置具有操作简单、生产效率高、产品质量高等特点，适合大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN106744670B
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201611046617.2
申请日：2016-11-23
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明属于硅表面加工技术领域，具体涉及一种硅表面纳米结构的可控性加工方法，其包括如下步骤：步骤一，对硅片进行贵金属涂；步骤二，制备硅纳米结构：一反应釜中盛入蚀刻溶液，反应釜设置电场发生装置以及磁场发生装置；步骤一的硅片置入反应釜且浸入所述的蚀刻溶液，先启动电场发生装置，后启动磁场发生装置，反应设定时间后，制得硅纳米结构。本发明操作简单方便，能够克服晶向力、溶液黏性阻力控制腐蚀方向，可重复性高，制备硅纳米结构效率高，便于大规模使用生产。本发明制备的硅纳米结构在微电子、光电子、太阳能电池以及传感器等领域具有重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN106449486B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201610951584.X
申请日：2016-10-27
Applicant: 杭州电子科技大学
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明属于硅表面加工技术领域，具体涉及一种制备可控硅表面纳米结构的电磁耦合装置。本发明电磁耦合装置包括：反应釜、电源；反应釜包括筒状的衔铁，衔铁的上口、下口分别由顶盖、底盖封住，衔铁的内壁安装有对称的两石墨电极，两侧石墨电极的相对面相平行；衔铁外壁缠绕有漆包线绕线组；衔铁内安装托架，托架用于安放硅片，硅片处于两石墨电极之间且与两石墨电极的相对面相平行，硅片将反应釜分隔成两个腔室；电源的一正负极分别与两石墨电极板电连接，电源的另一正负极还与漆包线绕线组两端电连接。本发明制备可控硅表面纳米结构的电磁耦合装置具有操作简单、智能化程度高、生产效率高等特点，适合大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN106114596A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201610654420.0
申请日：2016-08-10
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种履带式爬楼搬运小车稳定行走机构，其主动轮、前从动轮和后从动轮的回转中心构成三角状且中从动轮回转中心位于前从动轮与后从动轮回转中心的连线上；主动轮、前从动轮、中从动轮、后从动轮缠绕履带；中固定杆上下两端分别转动配合主动轮、中从动轮；上伸缩杆的两端分别转动配合主动轮、前从动轮；上固定杆的两端分别转动配合主动轮、后从动轮；下伸缩杆的两端分别转动配合前从动轮、中从动轮；下固定杆的两端分别转动配合后从动轮、中从动轮。本发明通过调节前从动轮高度使履带前后两部分相对转动并形成一定角度，可消除履带行走机构在爬楼开始时履带与楼梯的冲击，提高爬楼搬运小车行走机构运动的稳定性和安全性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106927421B
公开(公告)日：2019-04-23
申请号：CN201710046177.9
申请日：2017-01-22
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种制造可控走向的硅纳米线的方法，包括如下步骤：(一)对硅片进行清洗；(二)对硅片进行表面处理，在硅片表面镀一层贵金属涂层；(三)在电场方向可调的反应釜内采用刻蚀溶液对镀银后的硅片进行刻蚀；(四)去除硅片表面金属颗粒，干燥。本发明提出添加外电场来驱动贵金属离子，通过调整外加电场的的方向来制备不同硅纳米线走向的方法。
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公开(公告)号：CN106744670A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611046617.2
申请日：2016-11-23
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明属于硅表面加工技术领域，具体涉及一种硅表面纳米结构的可控性加工方法，其包括如下步骤：步骤一，对硅片进行贵金属涂；步骤二，制备硅纳米结构：一反应釜中盛入蚀刻溶液，反应釜设置电场发生装置以及磁场发生装置；步骤一的硅片置入反应釜且浸入所述的蚀刻溶液，先启动电场发生装置，后启动磁场发生装置，反应设定时间后，制得硅纳米结构。本发明操作简单方便，能够克服晶向力、溶液黏性阻力控制腐蚀方向，可重复性高，制备硅纳米结构效率高，便于大规模使用生产。本发明制备的硅纳米结构在微电子、光电子、太阳能电池以及传感器等领域具有重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN106876520B
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201710046206.1
申请日：2017-01-22
Applicant: 杭州电子科技大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/0236 , C23F1/08 , C23F1/24 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种控制硅纳米线走向的装置，包括反应釜体、可调电源、控制单元、盛放蚀刻溶液器皿和泵，反应釜体的中部设有硅片架，反应釜体由硅片架及硅片平分为左右两个腔室，盛放蚀刻溶液器皿通过管道分别连接至两个腔室，泵设于管道的前端，反应釜体的顶部设有端盖，端盖上设有环形导轨和滑块，滑块与环形导轨相匹配，两个腔室分别设有惰性电极，惰性电极与硅片架相对面为平面，惰性电极通过穿设于端盖及滑块的长螺栓与可调电源电连接，两个长螺栓通过连杆连接，惰性电极与可调电源电连接，可调电源和泵分别受控制单元的控制。本发明制备可控硅表面纳米结构的装置具有操作简单、生产效率高、产品质量高等特点，适合大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN106927421A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710046177.9
申请日：2017-01-22
Applicant: 杭州电子科技大学
CPC classification number: B82B3/0009 , B82B3/0066 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种制造可控走向的硅纳米线的方法，包括如下步骤：(一)对硅片进行清洗；(二)对硅片进行表面处理，在硅片表面镀一层贵金属涂层；(三)在电场方向可调的反应釜内采用刻蚀溶液对镀银后的硅片进行刻蚀；(四)去除硅片表面金属颗粒，干燥。本发明提出添加外电场来驱动贵金属离子，通过调整外加电场的方向来制备不同硅纳米线走向的方法。
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公开(公告)号：CN106449486A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610951584.X
申请日：2016-10-27
Applicant: 杭州电子科技大学
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67086
Abstract: 本发明属于硅表面加工技术领域，具体涉及一种制备可控硅表面纳米结构的电磁耦合装置。本发明电磁耦合装置包括：反应釜、电源；反应釜包括筒状的衔铁，衔铁的上口、下口分别由顶盖、底盖封住，衔铁的内壁安装有对称的两石墨电极，两侧石墨电极的相对面相平行；衔铁外壁缠绕有漆包线绕线组；衔铁内安装托架，托架用于安放硅片，硅片处于两石墨电极之间且与两石墨电极的相对面相平行，硅片将反应釜分隔成两个腔室；电源的一正负极分别与两石墨电极板电连接，电源的另一正负极还与漆包线绕线组两端电连接。本发明制备可控硅表面纳米结构的电磁耦合装置具有操作简单、智能化程度高、生产效率高等特点，适合大规模产业化应用。
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