层叠体的制造方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118872386A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202380027078.X

    申请日:2023-01-11

    Abstract: 本发明提出一种层叠体的制造方法,针对使用了厚度为0.8mm以上的电路图案的层叠体,可防止绝缘层中产生的不良情况。一种层叠体(1)的制造方法,所述层叠体(1)层叠有金属基底基板(2)、使树脂组合物硬化而形成的绝缘层(3)、及厚度为1mm以上的电路图案(4),所述层叠体(1)的制造方法包括:准备在金属基底基板(2)与电路图案(4)之间介隔有半硬化状态的树脂组合物(3A)的压接前层叠体(1A)的工序;利用膜(11)被覆压接前层叠体(1A)并配置于高压釜(10)的内部的工序;以及对膜(11)的内部进行排气并且使高压釜(10)的内部的温度及压力上升而使半硬化状态的树脂组合物(3A)硬化的工序。

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