半导体清洁设备与喷嘴
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219972453U

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202321341493.6

    申请日:2023-05-30

    Abstract: 提供一种半导体清洁设备与其喷嘴。该半导体清洁设备包含喷嘴。该喷嘴与接收载气的第一入口及接收一或多种流体的第二入口连接。该喷嘴包含与该第一入口连接的气体通道;及与该第二入口连接的流体通道。该气体通道包含气体通道分支,且该流体通道包含流体通道分支。这些气体通道分支及这些流体通道分支交错布置在该喷嘴内。单独的气体/流体通道分支为可单独控制的,包括流动速率、温度、开/关状态、流体或载气类型、时间段、供应模式及/或经由这些单独的气体通道分支及这些单独的流体通道分支喷射该流体及载气的任何其他态样。

Patent Agency Ranking