一种具有微/纳米复合陷光结构的晶硅太阳电池载流子选择性传输层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116130527A

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202310293391.X

    申请日:2023-03-24

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有微/纳米复合陷光结构的晶硅太阳电池载流子选择性传输层及其制备方法。该微/纳米复合陷光结构载流子选择性传输层包括微米尺寸绒面晶硅和一层具有纳米尺寸绒面载流子选择性传输材料。其具体制备过程为:1)对晶硅硅片进行清洗和制绒,形成微米级尺寸的绒面结构;2)在绒面硅片上面制备一层具有纳米尺寸绒面载流子选择性传输材料。本发明公开的一种具有微/纳米复合陷光结构的晶硅太阳电池载流子选择性传输层,能够同时实现对长波光和短波光的宽光谱陷光,能够明显提高入射光的利用率,从而提高晶硅太阳电池的短路电流密度,从而进一步提升电池的转换效率。

    一种PECVD系统真空腔室中辉光放电时屏蔽干扰的方法

    公开(公告)号:CN104593749B

    公开(公告)日:2017-01-18

    申请号:CN201510071882.5

    申请日:2015-02-11

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开一种PECVD系统真空腔室中辉光放电时屏蔽干扰的方法,是在真空腔室内设有一矩形或圆形围护结构的屏蔽框,并具有辉光观察窗孔和良好的接地措施,可以有效地规避真空腔室内复杂结构和几何特征对辉光所带来的不良影响,将不规则的机械结构屏蔽在限定的辉光区域之外,即屏蔽了可能带来的尖端放电效应又收敛了辉光区域的扩散,增强辉光区域的稳定性和辉光颜色的均匀性,降低辉光功率的损耗,为沉积优质的层膜提供了保证。本发明适用于正方体形或圆柱体形的真空腔室,结构简单可靠,对整体设备布局和真空腔室内的结构不构成负面影响,辉光观察窗孔可以很方便地实时查视辉光状态,成本低,易于实施。

    可获得均匀电场的大面积VHF-PECVD反应室背馈入式平行板功率电极

    公开(公告)号:CN101187016A

    公开(公告)日:2008-05-28

    申请号:CN200710150229.3

    申请日:2007-11-19

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开了一种可获得均匀电场的大面积VHF-PECVD反应室背馈入式平行板功率电极,包括平行板功率电极板和功率馈入连接端口,其特征在于所述功率馈入连接端口位于功率电极板的背面,功率电极板的正面与衬底S相对。本发明利用电极功率馈入端口位置的优化分布,抑制了电极馈入端口附近电势的对数奇点效应和电势驻波效应,使电场分布均匀性得到较大的改善,因而可以避免由于采用电极边缘功率馈入方式造成的电场分布不均匀问题。本发明解决了大面积电极板电位分布的均匀性问题,为研发大面积VHF-PECVD薄膜沉积和刻蚀系统奠定了基础,可有力推动硅薄膜电池和薄膜晶体管矩阵技术产业化进程。

    一种用于硅薄膜电池陷光结构研究的化学气相沉积设备

    公开(公告)号:CN102220565B

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN201110156698.2

    申请日:2011-06-13

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种用于硅薄膜电池陷光结构研究的化学气相沉积设备,包括镀膜装置和气体管路,镀膜装置包括镀膜室和装片室,镀膜室内设有衬底、加热器和带筛孔的气盒,装片室设有内部的层式样品架、侧面样品推动杆和顶部的层式样品架升降机构,镀膜室和装片室分别通过管道与真空泵组抽气管道连接;在O2/CO2、B2H6和Ar气携带H2O气或DEZn的气体管路中分别设有控制气体通断的气动阀、流量计、压力表、针阀、水密封储罐和DEZn密封储罐并通过管道进入镀膜室。本发明的优点:该化学气相沉积设备,可对样品进行大面积的镀膜并实现源材料的多种选择,提高镀膜效率;可控制薄膜的具体生长过程,操作简单且可靠稳定,提高硅薄膜太阳电池的性能,具有重大的生产实践意义。

Patent Agency Ranking