光学自旋注入方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101562213A

    公开(公告)日:2009-10-21

    申请号:CN200810104244.9

    申请日:2008-04-16

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种光学自旋注入的方法,包括如下步骤:步骤1:取一衬底,在该衬底上生长缓冲层,缓冲层用于平滑衬底,使得后面生长的外延结构完整性好;步骤2:在缓冲层上生长有源层,有源层用来操控自旋极化的电子;步骤3:在有源层上生长共振隧穿结构,起到自旋滤波的作用;步骤4:在共振隧穿结构上生长光吸收层,用来产生自旋极化的电子;步骤5:在光吸收层上生长电子阻挡层,用来阻挡避免非自旋极化的电子;步骤6:在电子阻挡层上生长重掺杂层,用于做欧姆接触。

    光学自旋注入方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101562213B

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN200810104244.9

    申请日:2008-04-16

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 一种光学自旋注入的方法,包括如下步骤:步骤1:取一衬底,在该衬底上生长缓冲层,缓冲层用于平滑衬底,使得后面生长的外延结构完整性好;步骤2:在缓冲层上生长有源层,有源层用来操控自旋极化的电子;步骤3:在有源层上生长共振隧穿结构,起到自旋滤波的作用;步骤4:在共振隧穿结构上生长光吸收层,用来产生自旋极化的电子;步骤5:在光吸收层上生长电子阻挡层,用来阻挡避免非自旋极化的电子;步骤6:在电子阻挡层上生长重掺杂层,用于做欧姆接触。

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