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公开(公告)号：CN104043573A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410096586.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 精工爱普生株式会社
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供能够高效地且在短时间内除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且能够在基板的面内进行均匀的干燥处理的干燥装置及干燥处理方法。干燥装置（100）包括能够抽成真空的处理容器（1）、用于在处理容器（1）内支承基板（S）的作为支承构件的载置台（3）、用于朝向支承在载置台（3）的基板（S）上的有机材料膜喷射气体的气体喷射装置（5）、以及控制部（6）。干燥装置（100）还包括用于调节处理容器（1）内的压力的压力控制机构。多个喷嘴（51）构成为能够针对每个喷嘴（51）独立调节气体的喷射流量、气体的种类。
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公开(公告)号：CN104051674A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410097639.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 精工爱普生株式会社
IPC: H01L51/56
CPC classification number: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种更够高效地且在短时间除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且容易对用于收集溶剂的构件进行更新的干燥装置和干燥处理方法。干燥装置（100）包括能够抽成真空的处理容器（1）、用于在处理容器（1）内支承基板（S）的作为支承构件的载置台（3）、与支承在载置台（3）上的基板（S）相对地设置且用于收集自有机材料膜挥发的溶剂的溶剂收集部（5）、以及控制部（6）。溶剂收集部（5）还包括用于使收集的溶剂脱离的作为溶剂脱离装置的温度调节装置（7）。溶剂收集部（5）包括与载置在载置台（3）上的基板（S）相对且与该基板（S）的表面大致平行地配置的1张或者多张金属板的收集板（50）。在收集板（50）中形成有多个贯通开口（50a）。
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公开(公告)号：CN113036066A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110263228.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
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公开(公告)号：CN1391128A
公开(公告)日：2003-01-15
申请号：CN02126281.0
申请日：2002-06-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 在水平方向敷设的输送通路上，一边输送被处理基片，一边快速高效地进行显象处理。在显象单元(DEV)94中，排成一列地连续设置多个形成沿加工作业线B的水平方向延伸的输送通路108的模块M1～M8。在模块M1～M8中，最上游的模块M1构成基片输入部110，后面的连续四个模块M2、M3、M4、M5构成显象部112，模块M6构成冲洗部114，模块M7构成干燥部116，最后的模块M8构成基片输出部118。在预淋湿部124、显象液供给部126和冲洗部114上分别设置使喷嘴喷口面对输送通路108并可沿输送通路108双向移动的预淋湿液供给喷嘴PN、显象液供给喷嘴DN及冲洗液供给喷嘴RN。
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公开(公告)号：CN107871828B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201710863857.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102024678A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010276303.8
申请日：2010-09-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种能够抑制基板间的热处理温度产生偏差、并且使基板间以及基板面内的布线图案的线宽均匀化的热处理装置。该热处理装置包括：基板输送部件，形成基板输送路径，沿基板输送路径连续地平流输送多个基板；第1腔室，覆盖基板输送路径的规定区间，形成对由基板输送路径输送来的基板进行热处理的热处理空间；加热部件，其加热第1腔室的内部；清洁空气供给部件，其配置在上述第1腔室的前方，向上述基板输送路径吹送清洁空气；控制部件，其至少控制上述清洁空气供给部件的清洁空气的吹送量；上述第1腔室具有用于输入上述基板输送路径上的上述基板的输入口，由上述清洁空气供给部件吹送的清洁空气自上述输入口被供给到上述第1腔室内。
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公开(公告)号：CN1407378A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02142802.6
申请日：2002-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G02F1/1333 , G03F7/16 , H01L21/027 , D05B1/00
Abstract: 提供一种不增大印刷台面(footprint)，即便是大型衬底也可在整个衬底上进行均匀的液体处理的液体处理装置。显影处理单元(DEV)24具有按大致水平状态在一个方向上运送LCD衬底G的滚动运送机构14；向LCD衬底G上喷出显影液的主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b；使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过LCD衬底G的喷嘴移动机构60a。通过边驱动喷嘴移动机构60a使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过LCD衬底G边从主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b向LCD衬底G喷出显影液，缩短显影液的液体盛装时间，在整个LCD衬底G上进行均匀的显影处理。
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公开(公告)号：CN107872914B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201710863784.4
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05B33/10
Abstract: 本发明提供能够提高通过量的减压干燥系统。该减压干燥系统包括：第一减压干燥装置，其包括：收纳形成有包括有机材料和溶剂的涂敷层的基板的第一处理容器；在上述第一处理容器的内部保持上述基板的第一基板保持部；和将上述第一处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第一减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使上述溶剂从上述涂敷层蒸发；和第二减压干燥装置，其包括：收纳从上述第一减压干燥装置搬送来的上述基板的第二处理容器；在上述第二处理容器的内部保持上述基板的第二基板保持部；和将上述第二处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第二减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使残留于上述涂敷层的上述溶剂蒸发。
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公开(公告)号：CN110571167A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910432519.X
申请日：2019-05-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种容易地测量基片温度的技术，实施方式的基片处理装置包括热处理部和温度测量部。热处理部对被平流地输送的基片进行热处理。温度测量部具有测量基片的温度的辐射温度计，并且能够相对于热处理部拆装。另外，温度测量部包括能够相对于上述热处理部拆装的安装部，该安装部与辐射温度计隔开间隔且具有透射红外线的透射窗。
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公开(公告)号：CN102540770B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201110401536.0
申请日：2011-12-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/00 , H01L21/677
Abstract: 提供一种控制供给显影液时基板搬送速度和去除显影液时基板搬送速度，将抗蚀剂图案均一化的抗蚀剂显影装置。该显影装置具备：具有搬送在表面上具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板的第一搬送机构及向由该第一搬送机构搬送的基板的表面供给显影液的供给喷嘴的显影液供给部；具有搬送表面被显影液覆盖的基板的第二搬送机构的显影部；具有喷出气体将覆盖基板的表面的显影液吹走的吹气喷嘴及向该吹气喷嘴搬送基板的第三搬送机构的吹气部；具有向吹走了显影液的基板的表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴的冲洗部；以由第一搬送机构搬送的基板的第一搬送速度和由第三搬送机构搬送的基板的第三搬送速度不同的方式，控制第一搬送机构及第三搬送机构的控制部。
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