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公开(公告)号：CN115466941A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202210609924.6
申请日：2022-05-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/67
Abstract: 提供一种用于改善膜厚的面内分布的喷淋头及基板处理装置。该喷淋头包括：喷淋板；基座部件，设置有气体流路，并对所述喷淋板进行固定；以及多个气体供给部件，布置在形成于所述喷淋板与所述基座部件之间的气体扩散空间中，并与所述气体流路连接，其中，所述气体供给部件具有用于沿放射方向喷出气体的多个喷出口，从多个所述气体供给部件的喷出口喷出的气体形成旋流。
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公开(公告)号：CN110835751B
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN201910757828.4
申请日：2019-08-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 本发明提高一种阀装置、处理装置、以及控制方法，缩短随着清洁而产生的处理装置的停止期间。阀装置具备多个阀、壳体、热扩散部、加热部、供给部、以及控制部。多个阀控制向处理容器供给的多个处理气体的流通。壳体形成供处理气体流通的多个第1流路。热扩散部覆盖壳体，使壳体的热扩散。加热部覆盖由热扩散部覆盖着的壳体，隔着热扩散部对壳体进行加热。供给部向在壳体与热扩散部之间形成的第2流路供给制冷剂。控制部在对处理容器内的被处理体进行预定的处理之际控制加热部，以便将壳体加热成第1温度。另外，控制部在开始处理容器的清洁之前停止加热部对壳体的加热，控制供给部，以便向第2流路供给制冷剂。
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公开(公告)号：CN1958170A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610142776.2
申请日：2006-10-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05B1/14 , C23C16/448 , C23C14/00 , C23F4/00 , H01L21/02
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/4557 , C23C16/45572 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明提供一种气体喷头(气体供给装置)，其用于CVD装置等，由镍部件组合而构成，防止由于高温引起的镍部件之间相互贴合。用螺钉将形成有大量气体供给孔的由镍部件构成的喷淋板，和与该喷淋板之间形成处理气体流通空间、同时气密地安装在处理容器天井部开口部的周边部的由镍部件构成的基体部件，在周边部位相互接合。在相互的接合面之间，插入不同于镍部件的材质、例如哈斯特洛依耐蚀耐热镍基合金或碳等中间部件。
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公开(公告)号：CN108231626A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711395621.4
申请日：2017-12-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/06 , C23C16/45565 , H01L21/28568 , H01L21/68742
Abstract: 本发明提供一种气体处理装置和气体处理方法。气体处理装置包括：将处理气体以喷淋状喷出到基板(W)的气体扩散板(35)；设置在气体扩散板的上方侧，沿着周向分别形成有多个气体排出口(43)的多个气体分散部(41)；和上游侧形成各气体分散部共用的共用流路，下游侧与各气体分散部连接，并且从共用流路至各气体分散部(41)的长度相互一致的处理气体的流路(5)。气体分散部(41)俯视时沿着中心分别绕该扩散空间(36)的中心部设置且沿扩散空间(36)的周向设置的多个第一圆配置，且在每一个第一圆上以与扩散空间的中心部的距离相互不同的方式配置有多个。由此，能够在该基板的面内进行均匀性高的处理。
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公开(公告)号：CN115466941B
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202210609924.6
申请日：2022-05-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/67
Abstract: 提供一种用于改善膜厚的面内分布的喷淋头及基板处理装置。该喷淋头包括：喷淋板；基座部件，设置有气体流路，并对所述喷淋板进行固定；以及多个气体供给部件，布置在形成于所述喷淋板与所述基座部件之间的气体扩散空间中，并与所述气体流路连接，其中，所述气体供给部件具有用于沿放射方向喷出气体的多个喷出口，从多个所述气体供给部件的喷出口喷出的气体形成旋流。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115466942B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202210625595.4
申请日：2022-06-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/52 , H01L21/3205
Abstract: 本发明提供一种改善膜厚的面内分布的喷淋头和基板处理装置。该喷淋头包括:喷淋板；基座部件,其设有气体流路,用于固定上述喷淋板；多个气体供给部件,其配置于在上述喷淋板和上述基座部件之间形成的气体扩散空间内,并且与上述气体流路连接；以及整流板,其配置于上述气体扩散空间内,并且配置于比上述气体供给部件靠外周部。
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公开(公告)号：CN115466942A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202210625595.4
申请日：2022-06-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/52 , H01L21/3205
Abstract: 本发明提供一种改善膜厚的面内分布的喷淋头和基板处理装置。该喷淋头包括:喷淋板；基座部件,其设有气体流路,用于固定上述喷淋板；多个气体供给部件,其配置于在上述喷淋板和上述基座部件之间形成的气体扩散空间内,并且与上述气体流路连接；以及整流板,其配置于上述气体扩散空间内,并且配置于比上述气体供给部件靠外周部。
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公开(公告)号：CN110835751A
公开(公告)日：2020-02-25
申请号：CN201910757828.4
申请日：2019-08-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 本发明提高一种阀装置、处理装置、以及控制方法，缩短随着清洁而产生的处理装置的停止期间。阀装置具备多个阀、壳体、热扩散部、加热部、供给部、以及控制部。多个阀控制向处理容器供给的多个处理气体的流通。壳体形成供处理气体流通的多个第1流路。热扩散部覆盖壳体，使壳体的热扩散。加热部覆盖由热扩散部覆盖着的壳体，隔着热扩散部对壳体进行加热。供给部向在壳体与热扩散部之间形成的第2流路供给制冷剂。控制部在对处理容器内的被处理体进行预定的处理之际控制加热部，以便将壳体加热成第1温度。另外，控制部在开始处理容器的清洁之前停止加热部对壳体的加热，控制供给部，以便向第2流路供给制冷剂。
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公开(公告)号：CN1958170B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200610142776.2
申请日：2006-10-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05B1/14 , C23C16/448 , C23C14/00 , C23F4/00 , H01L21/02
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/4557 , C23C16/45572 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明提供一种气体喷头(气体供给装置)，其用于CVD装置等，由镍部件组合而构成，防止由于高温引起的镍部件之间相互贴合。用螺钉将形成有大量气体供给孔的由镍部件构成的喷淋板，和与该喷淋板之间形成处理气体流通空间、同时气密地安装在处理容器天井部开口部的周边部的由镍部件构成的基体部件，在周边部位相互接合。在相互的接合面之间，插入不同于镍部件的材质、例如哈斯特洛依耐蚀耐热镍基合金或碳等中间部件。
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公开(公告)号：CN101842193A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200980100867.1
申请日：2009-03-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B24C1/00 , B24C1/003 , B24C1/06 , B24C11/00 , C23C16/0254
Abstract: 本发明具备：第1喷砂工序，使用由非升华性材料构成的喷砂材(例如氧化铝)对喷头部和处理容器等的金属母材的表面进行喷砂处理；第2喷砂工序，使用由升华性材料构成的喷砂材(例如干冰)对实施了所述第1喷砂工序的所述金属母材的表面进行喷砂处理。通过第1喷砂工序，将金属母材的表面进行适度粗糙化而难以产生在成膜处理中发生的附着膜的剥离，同时防止由于附着膜的剥离引起的颗粒物的产生；通过第2喷砂工序，将附着在金属母材的表面的非升华性喷砂材的残渣基本完全除去，防止由于金属母材脱落的非升华性喷砂材的残渣引起颗粒物的产生。
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