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公开(公告)号：CN114402092A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202080064398.9
申请日：2020-09-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/448 , H01L21/02
Abstract: 本发明的一种方式的原料供给装置具有：贮存使第一固体原料溶解于溶剂而成的溶液或使第一固体原料分散于分散介质而成的分散体系的容器；通过从贮存在上述容器内的上述溶液或上述分散体系中除去上述溶剂或上述分散介质而形成第二固体原料的除去部；检测上述溶剂或上述分散介质从上述溶液或上述分散体系的除去已完成的检测部；和对上述第二固体原料进行加热的加热部。
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公开(公告)号：CN110016654B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201811516405.5
申请日：2018-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/448 , C23C16/455
Abstract: 本发明提供一种能够使多个托盘内的原料的消耗量之差减小的原料容器。一实施方式的原料容器具备壳体、托盘组件以及多个筒状构件。壳体提供载气的导入口、和开口，含有原料的蒸气的气体从该开口输出。托盘组件包括多个托盘。多个托盘叠置于壳体中。多个筒状构件各自具有圆筒形状。多个筒状构件沿着径向排列于托盘组件与壳体之间。多个筒状构件中的最外侧的筒状构件提供狭缝，其他一个以上的筒状构件各自提供多个狭缝。在从导入口到托盘组件与最内侧的筒状构件之间的间隙为止，载气的流路利用多个筒状构件阶段性地向上方和下方分支。
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公开(公告)号：CN110835751A
公开(公告)日：2020-02-25
申请号：CN201910757828.4
申请日：2019-08-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 本发明提高一种阀装置、处理装置、以及控制方法，缩短随着清洁而产生的处理装置的停止期间。阀装置具备多个阀、壳体、热扩散部、加热部、供给部、以及控制部。多个阀控制向处理容器供给的多个处理气体的流通。壳体形成供处理气体流通的多个第1流路。热扩散部覆盖壳体，使壳体的热扩散。加热部覆盖由热扩散部覆盖着的壳体，隔着热扩散部对壳体进行加热。供给部向在壳体与热扩散部之间形成的第2流路供给制冷剂。控制部在对处理容器内的被处理体进行预定的处理之际控制加热部，以便将壳体加热成第1温度。另外，控制部在开始处理容器的清洁之前停止加热部对壳体的加热，控制供给部，以便向第2流路供给制冷剂。
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公开(公告)号：CN109913853A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201811525037.0
申请日：2018-12-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/52
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、存储介质以及原料气体供给装置。在开始晶圆(100)的处理前进行的模拟制程中，测定载气的实际流量(Ca、Cb)和气化原料的实际流量(Pra、Prb)，求出表示载气与气化原料之间的相关度的校正系数(K0)。而且，使用校正系数(K0)来调整载气的流量以使气化原料的流量成为目标值。并且，根据第n-1张和第n张晶圆的处理时的载气的实际流量(Cn-1、Cn)和气化原料的实际流量(Prn-1、Prn)来求出表示载气的流量的增减量与气化原料的流量的增减量之间的相关度的校正系数(Kn)，向第n+1张晶圆供给使用校正系数(Kn)对流量以成为目标值的方式进行了调整的气化原料来进行处理。
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公开(公告)号：CN115244215A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202180019582.6
申请日：2021-03-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小森荣一
IPC: C23C16/448 , B01J7/00 , C23C16/455
Abstract: 本公开的一个方式的原料供给系统具有：第一贮存部，其用于贮存将第一固体原料溶解于溶剂所得到的溶液或者将第一固体原料分散于溶剂所得到的分散系；第二贮存部，其用于贮存从所述第一贮存部输送的所述溶液或所述分散系；探测部，其探测贮存于所述第一贮存部的所述溶液或所述分散系的量；以及加热部，其对通过从贮存于所述第二贮存部的所述溶液或所述分散系中去除所述溶剂而形成的第二固体原料进行加热。
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公开(公告)号：CN114391051A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202080063295.0
申请日：2020-09-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/06 , C23C16/448 , C23C16/455
Abstract: 本发明为一种对处理装置供给原料气体的原料气体供给系统，所述原料气体是通过将固体原料气化来生成的，所述原料气体供给系统包括：将所述固体原料气化来生成所述原料气体的气化装置；送出机构，其从贮存有分散系的贮存容器向所述气化装置送出所述分散系，其中，所述分散系是在液体中分散所述固态原料而成的；和分离机构，其在所述气化装置内从所述分散系中分离出所述固体原料。
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公开(公告)号：CN104246007B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201380017359.3
申请日：2013-03-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/44 , B01D8/00 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/4412 , B08B9/00 , C23C16/18 , C23C16/4405 , F28B9/08 , H01L21/67017 , Y02C20/30 , Y02P70/605
Abstract: 设置于流过从在被处理体(W)的表面形成薄膜的成膜装置主体(4)排出的排气的排气通路(60)的途中并且通过将排气中所含有的捕集对象气体冷却液化后进行回收的捕集机构(10)，包括：具有气体入口(72A)和气体出口(72B)的壳体(72)；将壳体内划分为多个滞留空间(74A～74C)的划分部件(76)；连通滞留空间彼此的连通路径(78A、78B)；和为了冷却排气而对连通路径进行冷却的冷却套部(80A、80B)。利用该构造，将排气冷却并且使其绝热膨胀，高效地将捕集对象气体冷却并使其液化。
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公开(公告)号：CN116018426B
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202180054988.8
申请日：2021-09-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小森荣一
IPC: C23C16/448
Abstract: 本公开的一个方式的原料供给装置是从溶液或分散体系生成反应性气体的原料供给装置，该溶液是将固体原料溶解于溶剂而得到的溶液，该分散体系是使固体原料分散于分散介质而得到的分散体系，所述原料供给装置具有：容器，其贮存所述溶液或所述分散体系；注入部，其将所述溶液或所述分散体系注入到所述容器内；排气口，其用于所述容器内排气；以及过滤器，其设置于所述容器内，所述过滤器将所述容器内划分为包括设置所述注入部的第一区域和设置所述排气口的第二区域的多个区域。
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公开(公告)号：CN117940600A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202280059409.3
申请日：2022-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小森荣一
IPC: C23C16/448 , B01J7/00 , B05B9/00 , B05B15/00 , H01L21/31
Abstract: 本公开的一形态的原料供给装置由使固体原料溶解于溶剂而得到的溶液或使固体原料分散于分散介质而得到的分散体生成反应性气体，其中，该原料供给装置具有：容器，其具有形成内部空间的第1壁面；喷雾喷嘴，其向所述内部空间喷雾所述溶液或所述分散体；以及壁构造体，其设于所述内部空间，具有沿铅垂方向延伸的第2壁面。
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公开(公告)号：CN116200727A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202211456371.1
申请日：2022-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 小森荣一
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/40 , C01B13/10
Abstract: 一种臭氧供给系统、基板处理装置以及臭氧供给方法,其能够使臭氧产生器中的臭氧的生成稳定化。该臭氧供给系统具有供给气体的供给路径和设于上述供给路径而使用自上述供给路径的上游侧供给的氧气生成臭氧,并且将包括该臭氧的臭氧含有气体送出至下游侧的臭氧产生器。上述供给路径在比上述臭氧产生器靠下游侧分支为多个分支路径。上述多个分支路径中的至少一者是与使用上述臭氧含有气体的处理部连接的处理用分支路径。上述多个分支路径中的其余路径是与排出上述臭氧含有气体的废弃部连接的废弃用分支路径。上述废弃用分支路径包括对上述臭氧含有气体的流量进行调整的废弃用流量调整部。
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