公开(公告)号：CN1958170A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200610142776.2

申请日：2006-10-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 五味久 ,  齐藤哲也 ,  挂川崇 ,  间瀬贵久 ,  小泉真 ,  多田国弘 ,  若林哲 ,  成嶋健索 ,  方成

IPC: B05B1/14 ,  C23C16/448 ,  C23C14/00 ,  C23F4/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

Abstract: 本发明提供一种气体喷头(气体供给装置)，其用于CVD装置等，由镍部件组合而构成，防止由于高温引起的镍部件之间相互贴合。用螺钉将形成有大量气体供给孔的由镍部件构成的喷淋板，和与该喷淋板之间形成处理气体流通空间、同时气密地安装在处理容器天井部开口部的周边部的由镍部件构成的基体部件，在周边部位相互接合。在相互的接合面之间，插入不同于镍部件的材质、例如哈斯特洛依耐蚀耐热镍基合金或碳等中间部件。

公开(公告)号：CN113448889A

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN202110297921.9

申请日：2021-03-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥秀树 ,  小泉真 ,  富田尚宏 ,  加茂信一 ,  女部田雄总 ,  小川纯一

IPC: G06F13/10 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种控制系统、控制方法以及基板处理装置，能够恰当地对装置进行操作。控制对基板进行处理的基板处理装置的控制系统具有：第一终端和第二终端，所述第一终端和所述第二终端配置于与所述基板处理装置相同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；第三终端，其配置于与所述基板处理装置不同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；以及控制装置，其在探测到所述基板处理装置的异常的情况下，将所述第三终端对所述基板处理装置进行的控制设为无效。

公开(公告)号：CN113448889B

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202110297921.9

申请日：2021-03-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥秀树 ,  小泉真 ,  富田尚宏 ,  加茂信一 ,  女部田雄总 ,  小川纯一

IPC: G06F13/10 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种控制系统、控制方法以及基板处理装置，能够恰当地对装置进行操作。控制对基板进行处理的基板处理装置的控制系统具有：第一终端和第二终端，所述第一终端和所述第二终端配置于与所述基板处理装置相同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；第三终端，其配置于与所述基板处理装置不同的场所，从用户处接受针对所述基板处理装置进行的控制的指示；以及控制装置，其在探测到所述基板处理装置的异常的情况下，将所述第三终端对所述基板处理装置进行的控制设为无效。

公开(公告)号：CN1958170B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200610142776.2

申请日：2006-10-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 五味久 ,  齐藤哲也 ,  挂川崇 ,  间瀬贵久 ,  小泉真 ,  多田国弘 ,  若林哲 ,  成嶋健索 ,  方成

IPC: B05B1/14 ,  C23C16/448 ,  C23C14/00 ,  C23F4/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449

Abstract: 本发明提供一种气体喷头(气体供给装置)，其用于CVD装置等，由镍部件组合而构成，防止由于高温引起的镍部件之间相互贴合。用螺钉将形成有大量气体供给孔的由镍部件构成的喷淋板，和与该喷淋板之间形成处理气体流通空间、同时气密地安装在处理容器天井部开口部的周边部的由镍部件构成的基体部件，在周边部位相互接合。在相互的接合面之间，插入不同于镍部件的材质、例如哈斯特洛依耐蚀耐热镍基合金或碳等中间部件。