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公开(公告)号：CN111312619B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
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公开(公告)号：CN109698142B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201811214795.0
申请日：2018-10-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，其能够缩短蚀刻处理时间。实施方式所涉及的基板处理装置具备基板处理槽、混合部以及供给线路。基板处理槽用于利用蚀刻液进行蚀刻处理。混合部将新液与含硅化合物或含有含硅化合物的液体混合。供给线路用于向基板处理槽供给通过混合部进行混合所得的混合液。
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公开(公告)号：CN111696889A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010134070.1
申请日：2020-03-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种混合装置、混合方法以及基板处理系统。高效地混合磷酸水溶液和抑制硅氧化物的沉积的添加剂。本公开的一个方式的混合装置具备磷酸水溶液供给部、添加剂供给部、罐、磷酸水溶液供给线路以及添加剂供给线路。磷酸水溶液供给部用于供给磷酸水溶液。添加剂供给部用于供给抑制硅氧化物的沉积的添加剂。磷酸水溶液供给线路将磷酸水溶液供给部与罐连接。添加剂供给线路将添加剂供给部与罐连接。另外，混合装置一边对从磷酸水溶液供给部供给到罐的磷酸水溶液提供流动性，一边供给添加剂。
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公开(公告)号：CN111312619A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
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公开(公告)号：CN111696889B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202010134070.1
申请日：2020-03-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种混合装置、混合方法以及基板处理系统。高效地混合磷酸水溶液和抑制硅氧化物的沉积的添加剂。本公开的一个方式的混合装置具备磷酸水溶液供给部、添加剂供给部、罐、磷酸水溶液供给线路以及添加剂供给线路。磷酸水溶液供给部用于供给磷酸水溶液。添加剂供给部用于供给抑制硅氧化物的沉积的添加剂。磷酸水溶液供给线路将磷酸水溶液供给部与罐连接。添加剂供给线路将添加剂供给部与罐连接。另外，混合装置一边对从磷酸水溶液供给部供给到罐的磷酸水溶液提供流动性，一边供给添加剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111696891B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202010160379.8
申请日：2020-03-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置、混合方法和基片处理方法。本发明的一方式的基片处理装置包括处理槽、混合装置、送液路径和硅溶液供给部。处理槽用于浸渍基片来对其进行处理。混合装置将磷酸水溶液和抑制硅氧化物的析出的添加剂混合来生成混合液。送液路径从混合装置向处理槽输送混合液。硅溶液供给部与送液路径和处理槽中的至少一者连接，向从混合装置供给的混合液供给含硅化合物水溶液。由此，能够适当地实施用含有磷酸水溶液和硅溶液的蚀刻液所进行的蚀刻处理。
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公开(公告)号：CN107665837B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN201710600092.0
申请日：2017-07-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法。能够减少对向基板供给的液体的流量进行调整时的流量调整机构的动作次数。液处理装置具备：基板处理部，其对基板供给流体；供给线，其向基板处理部供给流体；流量计，其测量在供给线中流动的流体的流量；流量调整机构，其对在供给线中流动的流体的流量进行调整；以及控制部，其基于流量计的测量结果来控制流量调整机构。控制部以第一周期接收流量计的测量结果。另外，在流量计的测量结果表示在供给线中流动的流体的流量包含在预先设定的范围中的情况下，控制部以时间间隔比第一周期的时间间隔长的周期通过流量调整机构对在供给线中流动的流体的流量进行调整。
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公开(公告)号：CN113725121A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110559784.1
申请日：2021-05-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。适当地实施利用包含磷酸水溶液和硅溶液的蚀刻液进行的蚀刻处理。本公开的一个方式的基板处理装置具备处理槽、混合装置、送液路径以及控制部。处理槽使基板浸渍于处理液来对基板进行处理。混合装置将磷酸水溶液与添加剂混合来生成成为处理液的原料的混合液。送液路径将混合液从混合装置送到处理槽。控制部控制各部。另外，控制部使得将混合装置中磷酸浓度变为比被供给到混合装置时的第一浓度高的第二浓度的混合液从混合装置输送到正在对基板进行浸渍处理的处理槽。
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公开(公告)号：CN111696891A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010160379.8
申请日：2020-03-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置、混合方法和基片处理方法。本发明的一方式的基片处理装置包括处理槽、混合装置、送液路径和硅溶液供给部。处理槽用于浸渍基片来对其进行处理。混合装置将磷酸水溶液和抑制硅氧化物的析出的添加剂混合来生成混合液。送液路径从混合装置向处理槽输送混合液。硅溶液供给部与送液路径和处理槽中的至少一者连接，向从混合装置供给的混合液供给含硅化合物水溶液。由此，能够适当地实施用含有磷酸水溶液和硅溶液的蚀刻液所进行的蚀刻处理。
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公开(公告)号：CN107665837A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201710600092.0
申请日：2017-07-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G05D7/01 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67253 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法。能够减少对向基板供给的液体的流量进行调整时的流量调整机构的动作次数。液处理装置具备：基板处理部，其对基板供给流体；供给线，其向基板处理部供给流体；流量计，其测量在供给线中流动的流体的流量；流量调整机构，其对在供给线中流动的流体的流量进行调整；以及控制部，其基于流量计的测量结果来控制流量调整机构。控制部以第一周期接收流量计的测量结果。另外，在流量计的测量结果表示在供给线中流动的流体的流量包含在预先设定的范围中的情况下，控制部以时间间隔比第一周期的时间间隔长的周期通过流量调整机构对在供给线中流动的流体的流量进行调整。
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