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公开(公告)号：CN104637841A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201410641579.X
申请日：2014-11-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备：罐(102)；循环管线(104)；处理部(16)，其经由分支管线(112)连接于循环管线，用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液；浓度测量装置(212(或212’))，其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度；以及控制装置(4)，其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。
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公开(公告)号：CN1448799A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN03122663.9
申请日：2003-03-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/36 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67253 , H01L21/67017 , Y10S134/902 , Y10S438/935 , Y10T137/0396 , Y10T137/7761 , Y10T137/87917
Abstract: 从共用的溶剂蒸汽(水蒸汽)供应源41和处理气体(臭氧气体)供应源42中向多个处理容器30A、30B供应臭氧气体和水蒸汽。通过调节分别设置在与各处理容器连接的排出管路80A、80B中的可调节流阀50A、50B的开启度，控制处理容器内的压力。
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公开(公告)号：CN110197803B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201910418261.8
申请日：2014-11-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备：罐(102)；循环管线(104)；处理部(16)，其经由分支管线(112)连接于循环管线，用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液；浓度测量装置(212(或212’))，其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度；以及控制装置(4)，其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。
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公开(公告)号：CN110197803A
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201910418261.8
申请日：2014-11-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备：罐(102)；循环管线(104)；处理部(16)，其经由分支管线(112)连接于循环管线，用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液；浓度测量装置(212(或212’))，其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度；以及控制装置(4)，其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。
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公开(公告)号：CN107665837A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201710600092.0
申请日：2017-07-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G05D7/01 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/67253 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法。能够减少对向基板供给的液体的流量进行调整时的流量调整机构的动作次数。液处理装置具备：基板处理部，其对基板供给流体；供给线，其向基板处理部供给流体；流量计，其测量在供给线中流动的流体的流量；流量调整机构，其对在供给线中流动的流体的流量进行调整；以及控制部，其基于流量计的测量结果来控制流量调整机构。控制部以第一周期接收流量计的测量结果。另外，在流量计的测量结果表示在供给线中流动的流体的流量包含在预先设定的范围中的情况下，控制部以时间间隔比第一周期的时间间隔长的周期通过流量调整机构对在供给线中流动的流体的流量进行调整。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111383962B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN201911359689.6
申请日：2019-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的运转方法。基板处理装置具备：贮存部；多个处理部；液供给部，其向贮存部至少供给第一液，该第一液包括处理液自身或者用于调配处理液的原料液；检测部，其检测变量的值，该变量表示从液供给部向贮存部供给的第一液的状态、或者通过从液供给部供给第一液而发生变化的处于贮存部中的处理液的状态；以及控制部，其使多个处理部依次执行相同的液处理。控制部基于变量的值的检测结果来判断是否能够以处理部要求的条件同时从贮存部向预先决定的数量的处理部继续供给处理液，如果判断为不能，则执行使同时执行液处理的处理部的数量相比于预先决定的数量减少的同时处理限制控制。
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公开(公告)号：CN107665837B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN201710600092.0
申请日：2017-07-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法。能够减少对向基板供给的液体的流量进行调整时的流量调整机构的动作次数。液处理装置具备：基板处理部，其对基板供给流体；供给线，其向基板处理部供给流体；流量计，其测量在供给线中流动的流体的流量；流量调整机构，其对在供给线中流动的流体的流量进行调整；以及控制部，其基于流量计的测量结果来控制流量调整机构。控制部以第一周期接收流量计的测量结果。另外，在流量计的测量结果表示在供给线中流动的流体的流量包含在预先设定的范围中的情况下，控制部以时间间隔比第一周期的时间间隔长的周期通过流量调整机构对在供给线中流动的流体的流量进行调整。
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公开(公告)号：CN114664694A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202111534067.X
申请日：2021-12-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/3213
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，是供抑制蚀刻量的变动的技术。基板处理装置具备混合部、喷嘴、第一成分供给部、第二成分供给部以及控制部。所述混合部将作为第一成分的硫酸与第二成分进行混合来制备蚀刻液。所述喷嘴向基板喷出所述蚀刻液。所述第一成分供给部包括第一流路、第一瞬时流量计以及第一流量控制器。所述第二成分供给部包括第二流路、第二瞬时流量计以及第二流量控制器。所述控制部控制所述第一成分供给部和所述第二成分供给部。在向所述基板喷出所述蚀刻液的期间，所述控制部使用所述第一成分的平均流量和所述第二成分的平均流量来控制所述第一流量控制器和所述第二流量控制器。
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公开(公告)号：CN111383962A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911359689.6
申请日：2019-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的运转方法。基板处理装置具备：贮存部；多个处理部；液供给部，其向贮存部至少供给第一液，该第一液包括处理液自身或者用于调配处理液的原料液；检测部，其检测变量的值，该变量表示从液供给部向贮存部供给的第一液的状态、或者通过从液供给部供给第一液而发生变化的处于贮存部中的处理液的状态；以及控制部，其使多个处理部依次执行相同的液处理。控制部基于变量的值的检测结果来判断是否能够以处理部要求的条件同时从贮存部向预先决定的数量的处理部继续供给处理液，如果判断为不能，则执行使同时执行液处理的处理部的数量相比于预先决定的数量减少的同时处理限制控制。
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公开(公告)号：CN104637841B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201410641579.X
申请日：2014-11-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供向基板供给精确浓度的处理液的基板液处理装置和基板液处理方法。基板液处理装置具备：罐(102)；循环管线(104)；处理部(16)，其经由分支管线(112)连接于循环管线，用于使用在循环管线中流动的处理液来对基板实施液处理；处理液生成机构(206A、206B、208)，其用于将从至少两种原料液各自的供给源供给的原料液以控制好的混合比混合而生成处理液；浓度测量装置(212(或212’))，其用于测量在循环管线中流动的处理液的浓度和在处理液供给管线中流动的处理液的浓度；以及控制装置(4)，其用于基于测量出的处理液的浓度来控制处理液生成机构。
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