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公开(公告)号：CN109494175A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811057819.6
申请日：2018-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67086 , G05B19/41835 , G05B2219/45031 , H01L21/67057 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L21/67017 , H01L22/20
Abstract: 本发明提供一种能够恰当地进行处理液的浓度变更的基板液处理装置和存储介质。基板液处理装置(A1)具备：处理液贮存部(38)，其贮存处理液；处理液排出部(41)，其将处理液从处理液贮存部(38)排出；以及控制部(7)，其控制处理液排出部(41)，控制部(7)执行将处理液贮存部(38)的处理液的浓度调整为规定的设定浓度的浓度固定模式中的第一控制以及变更处理液贮存部(38)的处理液的浓度的浓度变更模式中的第二控制，在第二控制中，所述控制部比较浓度变更前的设定浓度与浓度变更后的设定浓度，在浓度变更后的设定浓度比浓度变更前的设定浓度低的情况下，所述控制部控制处理液排出部(41)，以开始处理液的排出。
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公开(公告)号：CN1286151C
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN03121763.X
申请日：2003-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/00 , B08B3/00
CPC classification number: H01L21/6719 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68792
Abstract: 一种对基板(W)提供处理流体并处理的基板处理装置，具有保持基板(W)的保持部件(60)、支撑保持部件(60)的卡盘部件(61)、和接近基板(W)并覆盖其表面的上面部件(62)，通过由上述卡盘部件(61)支撑上面部件(62)，一体转动保持部件(60)和上面部件(62)。因此，可以抑制颗粒对基板的影响，并且可以实现节省空间和低成本。
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公开(公告)号：CN111312619A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
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公开(公告)号：CN102034730B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201010503730.5
申请日：2010-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , B08B3/00
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , Y10S414/135
Abstract: 本发明提供一种即使在产生故障的情况下也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。基板处理装置(1)包括第1、第2处理区(14a、14b)，该第1、第2处理区包括：用于输送基板(W)的第1、第2基板输送机构(141a、141b)；分别设于该基板输送机构(141a、141b)左右两侧，进行相同处理的处理单元的列(U1～U4)。处理单元的列(U1、U3)和另一方侧的处理单元的列(U2、U4)分别与共用化的处理流体的供给系统(3a、3b)连接。而且，在任一基板输送机构(141a、141b)、处理流体的供给系统(3a、3b)产生故障时，仍能用正常工作的基板输送机构(141b、141a)、处理流体的供给系统(3b、3a)所对应的处理单元的列(U1～U4)来处理基板(W)。
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公开(公告)号：CN1246092C
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN02151833.5
申请日：2002-11-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 黑田修
IPC: B08B11/00 , B08B3/04 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/68728 , B08B3/04 , H01L21/6708 , Y10S134/902
Abstract: 液处理装置一个实施例的清洗处理单元(CLN)(12)包括：转动板(61)，支持部件(64a)，保持部件(64b)，向晶片(W)供给清洗液的药液供给喷嘴(51)，驱动保持部件(64a)的弹簧(120)以及挤压机构(121)。挤压机构(121)驱动保持部件(64b)，使晶片(W)从支持部件(64a)隔离被保持部件(64b)所保持，反之，从保持部件(64b)隔离并被支持部件(64a)所支持；弹簧(120)对保持部件(64b)进行保持，使保持部件(64b)保持的晶片(W)以与支持部件(64a)隔离的状态被保持。通过向保持部件(64b)保持的晶片(W)供给清洗液进行清洗处理，能消除晶片(W)的未处理部分，进行均匀的液处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1432440A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02151833.5
申请日：2002-11-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 黑田修
IPC: B08B11/00 , B08B3/04 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/68728 , B08B3/04 , H01L21/6708 , Y10S134/902
Abstract: 液处理装置一个实施例的清洗处理单元(CLN)12包括：转动板61，支持部件64a，保持部件64b，向晶片W供给清洗液的药液供给喷嘴51，驱动保持部件64a的弹簧120以及挤压机构121。挤压机构121驱动保持部件64b，使晶片W从支持部件64a隔离被保持部件64b所保持，反之，从保持部件64b隔离并被支持部件64a所支持；弹簧120对保持部件64b进行保持，使保持部件64b保持的晶片W以与支持部件64a隔离的状态被保持。通过向保持部件64b保持的晶片W供给清洗液进行清洗处理，能消除晶片W的未处理部分，进行均匀的液处理。
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公开(公告)号：CN111312619B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
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公开(公告)号：CN109494175B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201811057819.6
申请日：2018-09-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够恰当地进行处理液的浓度变更的基板液处理装置和存储介质。基板液处理装置(A1)具备：处理液贮存部(38)，其贮存处理液；处理液排出部(41)，其将处理液从处理液贮存部(38)排出；以及控制部(7)，其控制处理液排出部(41)，控制部(7)执行将处理液贮存部(38)的处理液的浓度调整为规定的设定浓度的浓度固定模式中的第一控制以及变更处理液贮存部(38)的处理液的浓度的浓度变更模式中的第二控制，在第二控制中，所述控制部比较浓度变更前的设定浓度与浓度变更后的设定浓度，在浓度变更后的设定浓度比浓度变更前的设定浓度低的情况下，所述控制部控制处理液排出部(41)，以开始处理液的排出。
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公开(公告)号：CN112687577A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011078492.8
申请日：2020-10-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供在进行批处理的基片处理装置中，能够抑制排液管路的堵塞的基片处理装置和装置清洗方法。本发明的基片处理装置包括：处理槽、承液部、承液部排出管、贮存部、第一液供给管、第二液供给管、释放管、第一液流量调节部和第二液流量调节部。承液部承接从处理槽洒出的处理液。承液部排出管从承液部排出处理液。第一液供给管供给清洗液的第一液，该清洗液含有第一液和第二液，用于除去来自处理液的析出物。第二液供给管供给第二液。释放管与第一液供给管和第二液供给管连接，向承液部释放清洗液、第一液或第二液。第一液流量调节部设置于第一液供给管，调节在第一液供给管中流动的第一液的流量。第二液流量调节部设置于第二液供给管，调节在第二液供给管中流动的第二液的流量。
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公开(公告)号：CN112687576A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202011077702.1
申请日：2020-10-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置，其包括处理槽、贮存部、承液部、贮存部排出管和承液部排出管。处理槽能够收纳多个基片且贮存处理液。贮存部与处理槽连接，贮存从处理槽排出的处理液。承液部承接从处理槽洒出的处理液。贮存部排出管将贮存于贮存部中的液体排出。承液部排出管将由承液部承接的液体向设置于外部的外部排出管排出。根据本发明，在进行批处理的基片处理装置中，能够抑制排液线路的堵塞。
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