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公开(公告)号：CN118202447A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202280073531.6
申请日：2022-11-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205 , H01L21/31 , H05H1/46
Abstract: 本发明的对基片进行处理的基片处理装置包括受电部，上述受电部包含从位于上述基片处理装置的外部的输电用线圈以非接触的方式被传输电功率的受电用线圈，上述基片处理装置构成为能够对利用来自上述受电部的电功率的单元和部件中的至少一者供给电功率。
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公开(公告)号：CN102709144A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201210082584.2
申请日：2012-03-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32192 , H01J37/3244 , H01J37/32651
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置能够降低被处理基体的中央部分的处理速度。一个实施方式的等离子体处理装置包括：处理容器、气体供给部、微波发生器、天线、同轴波导管、保持部、电介质窗以及电介质棒。气体供给部向处理容器内供给处理气体。微波发生器发生微波。天线将等离子体激励用的微波导入处理容器内。同轴波导管设置于微波发生器与天线之间。保持部用来保持被处理基体，在同轴波导管的中心轴线延伸的方向上与天线相对配置。电介质窗设置于天线与保持部之间，且使来自天线的微波透射到处理容器内。电介质棒在保持部与电介质窗之间的区域沿着同轴波导管的中心轴线设置。
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公开(公告)号：CN102005381B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201010273923.6
申请日：2010-09-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C30B33/12
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/513 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置。在用于将处理气体导入到处理容器中的导入部中抑制碳系附作物的产生。本发明的等离子体处理装置(1)将被导入到处理容器(2)中的处理气体等离子体化以对衬底(W)进行处理，其中，在处理容器(2)的顶面上设有处理气体导入部(55)，在导入部(55)形成有气体滞留部(61)和多个喷气孔(66)，其中，气体滞留部(61)滞留从处理容器(2)的外部经由供应路径(52)提供的处理气体，喷气孔(66)连通气体滞留部(61)和处理容器(2)内部，在气体滞留部(61)中，与供应路径(52)的开口部(52a)相对的位置上没有设置喷气孔(66)，喷气孔(66)的截面为扁平形状。
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公开(公告)号：CN102138204A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200980134206.0
申请日：2009-08-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C16/455 , H01L21/205
CPC classification number: C23C16/4558 , C23C16/505 , Y10T137/8593 , Y10T156/1062
Abstract: 气体供给部件(11)包括将以环状延伸的气体流路的设置在其内部的环状部(12)。环状部(12)具备：环状的第一部件(13a)，其包括设置有供给气体的多个供给孔(19)的平板部(18)；环状的第二部件(13b)，其在与第一部件(13a)之间形成成为气体流路的空间(14)。
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公开(公告)号：CN111048390A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201910966976.7
申请日：2019-10-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种安装状态提示装置和安装状态提示方法。安装状态提示装置包括数据库、获取部、第一确定部、比较部和输出部。数据库对于处理装置所包含的多个部件，分别保存该部件的安装位置和朝向的信息。获取部获取由3D扫描仪取得的表示处理装置的外观的状态的第一外观数据。第一确定部基于第一外观数据，识别处理装置所包含的多个部件，对每个识别出的部件确定该部件的安装位置和朝向。比较部对每个识别出的部件，将该部件的安装位置和朝向与保存于数据库中的安装位置和朝向的信息进行比较。输出部输出比较部的比较结果。根据本发明，能够提高处理的吞吐量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102760632A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201210125069.8
申请日：2012-04-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32192 , H01J37/32229 , H01J37/3244
Abstract: 本发明提供一种等离子处理装置，其具备：处理容器；工作台；电介质部件；导入微波的单元；喷射器；和电场屏蔽部。处理容器在其内部划分形成处理空间。工作台设置在处理容器内。电介质部件面对工作台设置。导入微波的单元经由电介质部件将微波导入处理空间内。喷射器为电介质制，具有一个以上的贯通孔。喷射器例如由松散电介质材料构成。该喷射器配置在电介质部件的内部。喷射器与形成在电介质部件上的贯通孔一起划分形成用于向处理空间供给处理气体的路径。电场屏蔽部覆盖喷射器的周围。
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公开(公告)号：CN102005381A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010273923.6
申请日：2010-09-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C30B33/12
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/513 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置。在用于将处理气体导入到处理容器中的导入部中抑制碳系附作物的产生。本发明的等离子体处理装置(1)将被导入到处理容器(2)中的处理气体等离子体化以对衬底(W)进行处理，其中，在处理容器(2)的顶面上设有处理气体导入部(55)，在导入部(55)形成有气体滞留部(61)和多个喷气孔(66)，其中，气体滞留部(61)滞留从处理容器(2)的外部经由供应路径(52)提供的处理气体，喷气孔(66)连通气体滞留部(61)和处理容器(2)内部，在气体滞留部(61)中，与供应路径(52)的开口部(52a)相对的位置上没有设置喷气孔(66)，喷气孔(66)的截面为扁平形状。
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公开(公告)号：CN111048390B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN201910966976.7
申请日：2019-10-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种安装状态提示装置和安装状态提示方法。安装状态提示装置包括数据库、获取部、第一确定部、比较部和输出部。数据库对于处理装置所包含的多个部件，分别保存该部件的安装位置和朝向的信息。获取部获取由3D扫描仪取得的表示处理装置的外观的状态的第一外观数据。第一确定部基于第一外观数据，识别处理装置所包含的多个部件，对每个识别出的部件确定该部件的安装位置和朝向。比较部对每个识别出的部件，将该部件的安装位置和朝向与保存于数据库中的安装位置和朝向的信息进行比较。输出部输出比较部的比较结果。根据本发明，能够提高处理的吞吐量。
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公开(公告)号：CN102260862B
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201110145317.0
申请日：2011-05-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32807
Abstract: 本发明提供一种能够确实地供给气体而进行等离子处理的等离子处理装置。等离子处理装置包括：外部气体供气构件40，具有供给等离子处理用气体的供气口；及套管部27，作为在处理容器内支撑外部气体供气构件40的供气构件支撑装置。套管部27包含：三个支撑构件44～46，以将外部气体供气构件40及侧壁连结的方式，在供气构件的延伸方向上隔开各自之间隔而设置；及安装部47～49，固定于侧壁，且可安装支撑构件。支撑构件包含：固定并安装于第一安装部47的第一支撑构件44；及以自由支撑的方式安装于第二安装部48、49的第二支撑构件45、46。
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