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公开(公告)号：CN102005381A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010273923.6
申请日：2010-09-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C30B33/12
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/513 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置。在用于将处理气体导入到处理容器中的导入部中抑制碳系附作物的产生。本发明的等离子体处理装置(1)将被导入到处理容器(2)中的处理气体等离子体化以对衬底(W)进行处理，其中，在处理容器(2)的顶面上设有处理气体导入部(55)，在导入部(55)形成有气体滞留部(61)和多个喷气孔(66)，其中，气体滞留部(61)滞留从处理容器(2)的外部经由供应路径(52)提供的处理气体，喷气孔(66)连通气体滞留部(61)和处理容器(2)内部，在气体滞留部(61)中，与供应路径(52)的开口部(52a)相对的位置上没有设置喷气孔(66)，喷气孔(66)的截面为扁平形状。
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公开(公告)号：CN102005381B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201010273923.6
申请日：2010-09-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C30B33/12
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/513 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置。在用于将处理气体导入到处理容器中的导入部中抑制碳系附作物的产生。本发明的等离子体处理装置(1)将被导入到处理容器(2)中的处理气体等离子体化以对衬底(W)进行处理，其中，在处理容器(2)的顶面上设有处理气体导入部(55)，在导入部(55)形成有气体滞留部(61)和多个喷气孔(66)，其中，气体滞留部(61)滞留从处理容器(2)的外部经由供应路径(52)提供的处理气体，喷气孔(66)连通气体滞留部(61)和处理容器(2)内部，在气体滞留部(61)中，与供应路径(52)的开口部(52a)相对的位置上没有设置喷气孔(66)，喷气孔(66)的截面为扁平形状。
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公开(公告)号：CN102260862A
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN201110145317.0
申请日：2011-05-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32807
Abstract: 本发明提供一种能够确实地供给气体而进行等离子处理的等离子处理装置。等离子处理装置包括：外部气体供气构件40，具有供给等离子处理用气体的供气口；及套管部27，作为在处理容器内支撑外部气体供气构件40的供气构件支撑装置。套管部27包含：三个支撑构件44～46，以将外部气体供气构件40及侧壁连结的方式，在供气构件的延伸方向上隔开各自之间隔而设置；及安装部47～49，固定于侧壁，且可安装支撑构件。支撑构件包含：固定并安装于第一安装部47的第一支撑构件44；及以自由支撑的方式安装于第二安装部48、49的第二支撑构件45、46。
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公开(公告)号：CN102260862B
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201110145317.0
申请日：2011-05-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32807
Abstract: 本发明提供一种能够确实地供给气体而进行等离子处理的等离子处理装置。等离子处理装置包括：外部气体供气构件40，具有供给等离子处理用气体的供气口；及套管部27，作为在处理容器内支撑外部气体供气构件40的供气构件支撑装置。套管部27包含：三个支撑构件44～46，以将外部气体供气构件40及侧壁连结的方式，在供气构件的延伸方向上隔开各自之间隔而设置；及安装部47～49，固定于侧壁，且可安装支撑构件。支撑构件包含：固定并安装于第一安装部47的第一支撑构件44；及以自由支撑的方式安装于第二安装部48、49的第二支撑构件45、46。
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