公开(公告)号：CN102260862A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：CN201110145317.0

申请日：2011-05-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 三原直辉 ,  周藤贤治 ,  村上和生 ,  古川哲史

IPC: C23C16/455

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32807

Abstract: 本发明提供一种能够确实地供给气体而进行等离子处理的等离子处理装置。等离子处理装置包括：外部气体供气构件40，具有供给等离子处理用气体的供气口；及套管部27，作为在处理容器内支撑外部气体供气构件40的供气构件支撑装置。套管部27包含：三个支撑构件44～46，以将外部气体供气构件40及侧壁连结的方式，在供气构件的延伸方向上隔开各自之间隔而设置；及安装部47～49，固定于侧壁，且可安装支撑构件。支撑构件包含：固定并安装于第一安装部47的第一支撑构件44；及以自由支撑的方式安装于第二安装部48、49的第二支撑构件45、46。

公开(公告)号：CN102260862B

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201110145317.0

申请日：2011-05-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 三原直辉 ,  周藤贤治 ,  村上和生 ,  古川哲史

IPC: C23C16/455

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32807

Abstract: 本发明提供一种能够确实地供给气体而进行等离子处理的等离子处理装置。等离子处理装置包括：外部气体供气构件40，具有供给等离子处理用气体的供气口；及套管部27，作为在处理容器内支撑外部气体供气构件40的供气构件支撑装置。套管部27包含：三个支撑构件44～46，以将外部气体供气构件40及侧壁连结的方式，在供气构件的延伸方向上隔开各自之间隔而设置；及安装部47～49，固定于侧壁，且可安装支撑构件。支撑构件包含：固定并安装于第一安装部47的第一支撑构件44；及以自由支撑的方式安装于第二安装部48、49的第二支撑构件45、46。