公开(公告)号：CN102709144A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201210082584.2

申请日：2012-03-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉川润 ,  松本直树 ,  三原直辉 ,  吉川弥 ,  吉村正太 ,  高桥和树

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32192 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32651

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置能够降低被处理基体的中央部分的处理速度。一个实施方式的等离子体处理装置包括：处理容器、气体供给部、微波发生器、天线、同轴波导管、保持部、电介质窗以及电介质棒。气体供给部向处理容器内供给处理气体。微波发生器发生微波。天线将等离子体激励用的微波导入处理容器内。同轴波导管设置于微波发生器与天线之间。保持部用来保持被处理基体，在同轴波导管的中心轴线延伸的方向上与天线相对配置。电介质窗设置于天线与保持部之间，且使来自天线的微波透射到处理容器内。电介质棒在保持部与电介质窗之间的区域沿着同轴波导管的中心轴线设置。