一种气动装置和光刻装置

    公开(公告)号:CN110687753A

    公开(公告)日:2020-01-14

    申请号:CN201810739178.6

    申请日:2018-07-06

    Abstract: 本发明实施例提供了一种气动装置和光刻装置,其中,该气动装置包括气控块和气控通路,气控块内部设置有气体切换腔室、柔性薄片、大气管路、第一真空支路和第二真空支路,气控通路的两端分别与气体切换腔室和待控对象连通;气体切换腔室密封设置,柔性薄片设置于气体切换腔室内,用于将气体切换腔室分为相互隔离的第一隔离区和第二隔离区;当第一真空支路抽真空时,气控通路将第一真空支路输入的真空导向待控对象,实现吸附;当第二真空支路抽真空时,气控通路将大气管路输入的大气导向待控对象,实现释放。本发明实现了减小气动装置的体积,使气动装置可以设置于光刻设备中离硅片很近的位置,从而减小了硅片交接时间,提高了曝光效率。

    一种变轨迹悬空物支撑机构及粗微动台

    公开(公告)号:CN109860072A

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:CN201711243383.5

    申请日:2017-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种变轨迹悬空物支撑机构,包括线夹、滑动伸缩杆和架体连接块;所述滑动伸缩杆的两端分别与所述线夹铰接和所述架体连接块铰接,形成可转动连接;所述线夹夹设于变轨迹悬空物的重心处,所述架体连接块固定安装在加工设备的机架上。本发明具有结构简单、支撑力大且节省水平向空间等优点。同时,提供包括该变轨迹悬空物支撑机构的粗微动台。

    一种清洁装置及曝光方法

    公开(公告)号:CN112947004B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN201911174594.7

    申请日:2019-11-26

    Abstract: 本发明涉及光刻设备技术领域,公开一种清洁装置及曝光方法。所述清洁装置包括安装架、清洁石组件和快拆组件,清洁石组件用于清洁待清洁物,快拆组件可转动地设置于安装架上,清洁石组件与快拆组件可拆卸连接。通过转动快拆组件,进而带动清洁石组件转动,从而达到清洁待清洁物的目的。其中,快拆组件具有第一位置和第二位置,当快拆组件位于第一位置时,清洁石组件能够从快拆组件上拆卸,便于更换清洁石组件;当快拆组件位于第二位置时,清洁石组件能够限位于快拆组件上,以保证清洁石组件的正常使用。本发明中的快拆组件的设置,可实现清洁石组件快速地更换,使得该清洁装置在更换清洁石组件时更简单、快捷,提高了清洁效率。

    一种气动装置和光刻装置

    公开(公告)号:CN110687753B

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN201810739178.6

    申请日:2018-07-06

    Abstract: 本发明实施例提供了一种气动装置和光刻装置,其中,该气动装置包括气控块和气控通路,气控块内部设置有气体切换腔室、柔性薄片、大气管路、第一真空支路和第二真空支路,气控通路的两端分别与气体切换腔室和待控对象连通;气体切换腔室密封设置,柔性薄片设置于气体切换腔室内,用于将气体切换腔室分为相互隔离的第一隔离区和第二隔离区;当第一真空支路抽真空时,气控通路将第一真空支路输入的真空导向待控对象,实现吸附;当第二真空支路抽真空时,气控通路将大气管路输入的大气导向待控对象,实现释放。本发明实现了减小气动装置的体积,使气动装置可以设置于光刻设备中离硅片很近的位置,从而减小了硅片交接时间,提高了曝光效率。

    一种移入移出机构及光刻机工件台移入移出装置

    公开(公告)号:CN108983552A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201710399702.5

    申请日:2017-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种移入移出机构,包括连接块、板簧、板簧变形驱动单元及滚轮单元;板簧为二分段式结构,板簧的两个分段之间铰链式连接,板簧的一个分段通过连接块安装在待移动对象上、另一个分段连接滚轮单元;板簧变形驱动单元为板簧上连接所述滚轮单元的分段提供朝向移动承载面变形的驱动力。本发明还公开了一种光刻机工件台移入移出装置,包括底部框架、空气弹簧、气垫装置及上述移入移出机构,多组移入移出机构设置于底部框架的下表面或侧边。本发明移入移出机构的板簧采用铰链结构分段,且板簧变形各受力处共线,可保证受力均衡,防止卡死;移入移出装置成对使用多组移入移出机构,可防止对地面施加过大压力而造成工件台倾覆。

    基片交接单元及基片交接装置

    公开(公告)号:CN114114845A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202010899824.2

    申请日:2020-08-31

    Inventor: 赵文波 刘屈武

    Abstract: 本发明提供一种基片交接单元及基片交接装置,基片交接单元包括定子及动子;所述定子包括线圈以及沿轴向设置的内腔,所述线圈围绕所述内腔周向设置;所述动子包括磁体及气浮轴承,所述磁体沿所述定子的轴向可活动地设置于所述内腔中;所述磁体用于在所述线圈的驱动下沿所述定子的轴向移动;所述磁体通过所述气浮轴承气浮连接于所述内腔中;所述气浮轴承至少包括上气浮面与下气浮面,所述上气浮面与所述下气浮面沿所述定子的轴向间隔分布,且所述上气浮面的延伸方向与所述下气浮面的延伸方向相同。如此配置,每个基片交接单元均独立包括定子和动子,能够各自独立地调整,减小集成的难度。气浮轴承的设置进一步提高基片交接单元的稳定性和可靠性。

    一种清洁装置及曝光方法

    公开(公告)号:CN112947004A

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201911174594.7

    申请日:2019-11-26

    Abstract: 本发明涉及光刻设备技术领域,公开一种清洁装置及曝光方法。所述清洁装置包括安装架、清洁石组件和快拆组件,清洁石组件用于清洁待清洁物,快拆组件可转动地设置于安装架上,清洁石组件与快拆组件可拆卸连接。通过转动快拆组件,进而带动清洁石组件转动,从而达到清洁待清洁物的目的。其中,快拆组件具有第一位置和第二位置,当快拆组件位于第一位置时,清洁石组件能够从快拆组件上拆卸,便于更换清洁石组件;当快拆组件位于第二位置时,清洁石组件能够限位于快拆组件上,以保证清洁石组件的正常使用。本发明中的快拆组件的设置,可实现清洁石组件快速地更换,使得该清洁装置在更换清洁石组件时更简单、快捷,提高了清洁效率。

    一种移入移出机构及光刻机工件台移入移出装置

    公开(公告)号:CN108983552B

    公开(公告)日:2020-01-24

    申请号:CN201710399702.5

    申请日:2017-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种移入移出机构,包括连接块、板簧、板簧变形驱动单元及滚轮单元;板簧为二分段式结构,板簧的两个分段之间铰链式连接,板簧的一个分段通过连接块安装在待移动对象上、另一个分段连接滚轮单元;板簧变形驱动单元为板簧上连接所述滚轮单元的分段提供朝向移动承载面变形的驱动力。本发明还公开了一种光刻机工件台移入移出装置,包括底部框架、空气弹簧、气垫装置及上述移入移出机构,多组移入移出机构设置于底部框架的下表面或侧边。本发明移入移出机构的板簧采用铰链结构分段,且板簧变形各受力处共线,可保证受力均衡,防止卡死;移入移出装置成对使用多组移入移出机构,可防止对地面施加过大压力而造成工件台倾覆。

    基片交接单元及基片交接装置

    公开(公告)号:CN114114845B

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202010899824.2

    申请日:2020-08-31

    Inventor: 赵文波 刘屈武

    Abstract: 本发明提供一种基片交接单元及基片交接装置,基片交接单元包括定子及动子;所述定子包括线圈以及沿轴向设置的内腔,所述线圈围绕所述内腔周向设置;所述动子包括磁体及气浮轴承,所述磁体沿所述定子的轴向可活动地设置于所述内腔中;所述磁体用于在所述线圈的驱动下沿所述定子的轴向移动;所述磁体通过所述气浮轴承气浮连接于所述内腔中;所述气浮轴承至少包括上气浮面与下气浮面,所述上气浮面与所述下气浮面沿所述定子的轴向间隔分布,且所述上气浮面的延伸方向与所述下气浮面的延伸方向相同。如此配置,每个基片交接单元均独立包括定子和动子,能够各自独立地调整,减小集成的难度。气浮轴承的设置进一步提高基片交接单元的稳定性和可靠性。

    一种变轨迹悬空物支撑机构及粗微动台

    公开(公告)号:CN109860072B

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201711243383.5

    申请日:2017-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种变轨迹悬空物支撑机构,包括线夹、滑动伸缩杆和架体连接块;所述滑动伸缩杆的两端分别与所述线夹铰接和所述架体连接块铰接,形成可转动连接;所述线夹夹设于变轨迹悬空物的重心处,所述架体连接块固定安装在加工设备的机架上。本发明具有结构简单、支撑力大且节省水平向空间等优点。同时,提供包括该变轨迹悬空物支撑机构的粗微动台。

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