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公开(公告)号：CN109799682B
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201711140379.6
申请日：2017-11-16
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种防撞装置，包括：框架、第一缓冲结构、第二缓冲结构及连接部件，所述第一缓冲结构的一端与所述第二缓冲结构的一端通过所述连接部件呈锐角可旋转相连，所述第一缓冲结构的另一端与所述第二缓冲结构的另一端设置在所述框架上。本发明的防撞装置通过两个一端通过连接部件呈锐角可旋转相连的缓冲结构将连接部件引导施加的任意方向上的撞击力转化两个缓冲结构垂向的力，解决了传统一维的油压缓冲器或记忆合金防撞条只能防撞一个方向的碰撞的问题；防撞装置的结构布局简单，安装调试大为便捷，减轻了防撞装置自身的重量；不占用垂向空间，应用到光刻机工件台系统时节省了大量空间，方便工件台系统的后续升级改进。
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公开(公告)号：CN108983552B
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201710399702.5
申请日：2017-05-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种移入移出机构，包括连接块、板簧、板簧变形驱动单元及滚轮单元；板簧为二分段式结构，板簧的两个分段之间铰链式连接，板簧的一个分段通过连接块安装在待移动对象上、另一个分段连接滚轮单元；板簧变形驱动单元为板簧上连接所述滚轮单元的分段提供朝向移动承载面变形的驱动力。本发明还公开了一种光刻机工件台移入移出装置，包括底部框架、空气弹簧、气垫装置及上述移入移出机构，多组移入移出机构设置于底部框架的下表面或侧边。本发明移入移出机构的板簧采用铰链结构分段，且板簧变形各受力处共线，可保证受力均衡，防止卡死；移入移出装置成对使用多组移入移出机构，可防止对地面施加过大压力而造成工件台倾覆。
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公开(公告)号：CN107561869B
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201610510840.1
申请日：2016-06-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种工件台锁定限位装置和采用该装置的工件台，该工件台锁定限位装置包括：安装在支架上的驱动组件、与所述驱动组件的活动端连接的插销和开设在防撞模块上的插销孔，所述插销孔与所述插销间隙配合，其中，所述插销孔和插销为圆弧形或者直线形。本发明可将上下片时硅片台的自由度限制在安全范围内，保护对准系统各元器件的安全，并可在极端情况硅片台异常运动时，减缓硅片台上各精密元器件所受冲击，防止损坏。
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公开(公告)号：CN109725497A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201711060732.X
申请日：2017-10-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种运动台移动机构、运动台系统与光刻装置，所述的机构，包括：滚轮、固定件、弹簧、导向杆和连接件；所述弹簧和所述导向杆均沿第一方向设置，所述导向杆的一端连接所述连接件，所述固定件套设于所述导向杆外侧，所述弹簧两端分别连接所述连接件与所述固定件，所述滚轮连接于所述连接件，所述固定件用于固定连接所述运动台的框架。相较于现有技术中垂向位置不可调的机械方案，本发明可通过垂向位置的调整满足运动台垂向位置的各种需求。
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公开(公告)号：CN104810315B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201410043854.8
申请日：2014-01-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
IPC: H01L21/683 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于LED基底曝光的夹持装置，包括：吸盘，所述吸盘的上表面为平面结构；所述吸盘中部有基底吸附面；真空吸附口，均匀分布在基底吸附面上；基底交接装置，安装于所述吸盘内部；吸盘吸附蓝宝石双抛基底时，基底交接装置的上表面与基底吸附面齐平。由于所述吸盘的上表面为纯平结构，所以不存在真空吸附口和吸盘上表面特征在蓝宝石双抛基底曝光时形成曝光阴影；由于吸盘内置的基底交接装置始终可以保证其上表面与吸盘上表面在同一高度面，所以基底交接装置上表面不会在蓝宝石双抛基底曝光时形成曝光阴影；此外，吸盘上表面和基底交接装置上表面都为黑色，且优选同种材料和表面处理工艺，不会在蓝宝石双抛基底曝光时形成曝光阴影。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114690575B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202011615570.3
申请日：2020-12-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了柔性解耦结构、补偿组件及控制方法、运动模块及光刻机，属于光刻设备领域。该柔性解耦结构包括；至少两个分段式弹性件，其刚度能够调整，其包括依次连接的第一簧片、连接板和第二簧片，分段式弹性件被配置为能对运动组件进行解耦或行程补偿；平行设置的第一连接端和第二连接端，分段式弹性件连接于第一连接端和第二连接端之间，第一连接端和第二连接端中的一个运动、另一个固定；柔性解耦结构能够进行X、Y、Rx、Ry和Rz向解耦。该柔性解耦结构能够实现目标刚度的同时具备良好的塑韧性，减少解耦的滞后时间，可以实现五自由度解耦，补偿机械制造和伺服偏差造成的行程偏差，提高光刻机的运动可靠性，延长光刻机的使用寿命。
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公开(公告)号：CN114690575A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202011615570.3
申请日：2020-12-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了柔性解耦结构、补偿组件及控制方法、运动模块及光刻机，属于光刻设备领域。该柔性解耦结构包括；至少两个分段式弹性件，其刚度能够调整，其包括依次连接的第一簧片、连接板和第二簧片，分段式弹性件被配置为能对运动组件进行解耦或行程补偿；平行设置的第一连接端和第二连接端，分段式弹性件连接于第一连接端和第二连接端之间，第一连接端和第二连接端中的一个运动、另一个固定；柔性解耦结构能够进行X、Y、Rx、Ry和Rz向解耦。该柔性解耦结构能够实现目标刚度的同时具备良好的塑韧性，减少解耦的滞后时间，可以实现五自由度解耦，补偿机械制造和伺服偏差造成的行程偏差，提高光刻机的运动可靠性，延长光刻机的使用寿命。
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公开(公告)号：CN109848691B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201711244930.1
申请日：2017-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种调节锁紧装置，包括：与所述微动电机连接的定位簧片；一调节单元，所述调节单元通过调节所述定位簧片的垂向高度以调整所述微动电机的垂向位置；一锁紧单元，所述锁紧单元通过锁紧所述定位簧片以锁紧所述微动电机；一配合单元，所述配合单元转移所述定位簧片施加至所述调节单元和所述锁紧单元的反作用力。本发明在实现微动电机的高度和水平度调节与锁紧的同时，将调节锁紧作业时产生的反作用力作用于自身机构壳体上，减小了对粗动壳体的影响，提升了运动台的可靠性。通过改进调节锁紧装置的结构，减小了垂向尺寸，提高了调节精度。
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公开(公告)号：CN109856916B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201711244615.9
申请日：2017-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种防撞装置、工件台及曝光装置，所述防撞装置安装在工件台的边缘，可以节省工件台内部的大量空间；所述滚轮套接在所述转轴组件外，所述滚轮能够相对所述工件台转动，当工件台失控时，由于防撞装置安装在工件台的边缘，保证了发生碰撞的部件始终是防撞装置，防撞装置中的滚轮可以转动，以吸收碰撞能量，避免损伤工件台内的精密部件，并且所述防撞装置占用空间小、重量轻，也可实现对任意方向碰撞的防撞。
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公开(公告)号：CN110095224A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201810097358.9
申请日：2018-01-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G01L9/08
Abstract: 本发明属于运动状态测量技术领域，具体公开了一种测力组件，包括：上连接块和连接于上连接块下端的两个测力单元；每个测力单元均包括弹性伸缩元件、下连接块及压力传感器，弹性伸缩元件的上端与上连接块的下端铰接，下端与下连接块的上端铰接，下连接块的下端与压力传感器的上端连接；两个弹性伸缩元件的轴线处于同一平面且呈预设角度。本发明还公开了一种六自由度测力机构，包含静平台、与静平台平行的动平台及连接于静平台和动平台间的三个所述测力组件。本发明公开的测力组件和六自由度测力机构，可以简化测力系统的复杂性和提高六自由度测力机构使用灵活性。
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