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公开(公告)号：CN114690575B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202011615570.3
申请日：2020-12-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了柔性解耦结构、补偿组件及控制方法、运动模块及光刻机，属于光刻设备领域。该柔性解耦结构包括；至少两个分段式弹性件，其刚度能够调整，其包括依次连接的第一簧片、连接板和第二簧片，分段式弹性件被配置为能对运动组件进行解耦或行程补偿；平行设置的第一连接端和第二连接端，分段式弹性件连接于第一连接端和第二连接端之间，第一连接端和第二连接端中的一个运动、另一个固定；柔性解耦结构能够进行X、Y、Rx、Ry和Rz向解耦。该柔性解耦结构能够实现目标刚度的同时具备良好的塑韧性，减少解耦的滞后时间，可以实现五自由度解耦，补偿机械制造和伺服偏差造成的行程偏差，提高光刻机的运动可靠性，延长光刻机的使用寿命。
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公开(公告)号：CN114690575A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202011615570.3
申请日：2020-12-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了柔性解耦结构、补偿组件及控制方法、运动模块及光刻机，属于光刻设备领域。该柔性解耦结构包括；至少两个分段式弹性件，其刚度能够调整，其包括依次连接的第一簧片、连接板和第二簧片，分段式弹性件被配置为能对运动组件进行解耦或行程补偿；平行设置的第一连接端和第二连接端，分段式弹性件连接于第一连接端和第二连接端之间，第一连接端和第二连接端中的一个运动、另一个固定；柔性解耦结构能够进行X、Y、Rx、Ry和Rz向解耦。该柔性解耦结构能够实现目标刚度的同时具备良好的塑韧性，减少解耦的滞后时间，可以实现五自由度解耦，补偿机械制造和伺服偏差造成的行程偏差，提高光刻机的运动可靠性，延长光刻机的使用寿命。
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公开(公告)号：CN112578639A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201910935175.4
申请日：2019-09-29
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种限位机构、掩模台及光刻机，运动部件设置于掩模台框架上并能够相对所述掩模台框架移动，限位机构设置于所述掩模台框架的掩模交接位上，所述限位机构的位置检测模块用于检测所述运动部件是否移动至所述掩模交接位时，所述限位机构的限位模块在所述运动部件到位时伸出以对所述运动部件进行限位，从而实现了进行掩模板交接时对所述运动部件进行限位的功能，保证了掩模板交接时的安全性。
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公开(公告)号：CN109856916B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201711244615.9
申请日：2017-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种防撞装置、工件台及曝光装置，所述防撞装置安装在工件台的边缘，可以节省工件台内部的大量空间；所述滚轮套接在所述转轴组件外，所述滚轮能够相对所述工件台转动，当工件台失控时，由于防撞装置安装在工件台的边缘，保证了发生碰撞的部件始终是防撞装置，防撞装置中的滚轮可以转动，以吸收碰撞能量，避免损伤工件台内的精密部件，并且所述防撞装置占用空间小、重量轻，也可实现对任意方向碰撞的防撞。
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公开(公告)号：CN107561866B
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201610510702.3
申请日：2016-06-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种用于浸没式光刻机的双工件台装置以及浸没式光刻机，所述双工件台装置包括：两个工件台，所述两个工件台各包括粗动模块、防撞模块和微动模块，所述防撞模块固定在所述粗动模块上；交换机构，所述交换机构设置在所述两个工件台中的一个或两者的防撞模块上并且包括交换桥板和升降机构，所述升降机构能够将所述交换桥板从初始位置转到工作位置，使得在双工件台交换时交换桥板位于两个工件台的微动模块之间并且其顶表面与两个工件台的微动模块的顶表面基本处于同一平面内。本发明避免了交换机构对工件台的微动模块上的长条镜的遮蔽并且改善了双台交换时浸没液场的维持。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110028008A
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201810031987.1
申请日：2018-01-12
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种升降机构、升降台装置、光刻机及光刻方法，所述升降机构包括箱体、蜗杆、蜗轮和丝杆；在所述蜗杆转动时驱使所述蜗轮转动，并通过所述蜗轮转动带动所述丝杆在竖直方向升降运动。本发明所提供的升降机构能够在有限的空间内同时满足高精度和大负载的垂向升降调节要求。以及，本发明还进一步的采用了防转限位机构，防止丝杆转动以使得蜗轮和蜗杆的出力被丝杆完全接收，同时限制了丝杆的运动范围，使得整个传动机构具有更高的效率及可靠性。此外，本发明提供的一种升降机构，弥补了现有技术中高精度、大负载及小尺寸升降机构的空缺，并且应用于例如光刻机领域中，也可相应提升其光刻效果。
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公开(公告)号：CN107885037A
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201610873647.4
申请日：2016-09-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 丛国栋
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种工件台移入移出装置，包括用于支撑工件台的底部框架、设于所述底部框架的下表面的空气弹簧、工件台移动时产生支撑工件台的气浮的气垫单元以及设于所述底部框架上的移入移出单元，所述移入移出单元包括：滚轮单元，用于带动所述工件台移动；连接块，固设于所述底部框架上；板簧，其中一端连接所述连接块，另一端连接所述滚轮单元；板簧变形驱动单元，与所述板簧连接，移动所述工件台时通过驱动所述板簧变形使得所述滚轮单元与地面接触。通过设置板簧变形驱动单元，使板簧发生形变，在工件台移入移出时，使滚轮单元与地面接触，带动工件台移动，且不会出现转矩过大而卡死的现象，提高了工件台移入移出过程中的稳定性。
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公开(公告)号：CN114690582B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202011632415.2
申请日：2020-12-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供的一种防撞装置和光刻设备，其中防撞装置包括防撞组件和控制组件，当外力撞击防撞组件中的缓冲组件时，缓冲组件推动防撞组件中的活塞组件朝向位于防撞组件的壳体内的压力腔运动以压缩压力腔，压力腔产生一反作用力，进而对该外力进行缓冲。同时，缓冲组件推动活塞朝向压力腔运动时，安装在缓冲组件上的感触器和安装在壳体上的传感器相互脱离或相互靠近至预定距离时，控制组件发出指令。如此一来，防撞装置用于对运动台进行防撞时，不仅可以对外力撞击时产生的力进行缓冲，同时可以通过控制组件发出指令来控制运动台的运动，进而避免出现运动台继续运动带来的二次或多次撞击而导致的运动台损坏的问题。
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公开(公告)号：CN111830789B
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201910310380.1
申请日：2019-04-17
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 丛国栋
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种平衡质量装置，包括调节单元、框架单元及磁钢阵列，调节单元包括第一调节组件及第二调节组件，框架单元包括顶板及连接于顶板第一表面上且相对设置的两个侧板，磁钢阵列设置于顶板的第二表面上，第二表面与第一表面相对；第一调节组件设置于两个侧板外侧，以调节对应于两个侧板外的磁钢阵列的面型；第二调节组件设置于两个侧板之间，以调节对应于两个侧板内的磁钢阵列的面型。本发明使磁钢阵列的面型得到了补偿，进而使磁钢阵列的面型达到要求。
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公开(公告)号：CN107783380B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201610791454.4
申请日：2016-08-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 丛国栋
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种浸没交换装置及方法，该装置包括机械手组件、交换板、设置于第一曝光台上的第一交换板接口和设置在第二曝光台上的第二交换板接口，所述第一交换板接口和第二交换板接口的结构相同；所述机械手组件，用以移动和承载所述交换板：所述交换板，用以被所述机械手组件移动、对接至所述第一交换板接口，且在对接后，所述交换板和第一曝光台被同步驱动移动，使得所述浸没液场自所述第一曝光台的曝光区域转移至所述交换板上；还用以对接至所述第二交换板接口，且在对接后，所述交换板和第二曝光台被同步驱动移动，使得所述浸没液场自所述交换板转移至所述第二曝光台的曝光区域，以进行在其上的曝光。
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