-
公开(公告)号:CN1815366B
公开(公告)日:2011-08-03
申请号:CN200610007140.7
申请日:2006-02-05
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L27/1288 , G03F7/0007 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , H01L27/1214 , H01L29/458 , H01L29/4908
Abstract: 一种光刻胶组合物,其包含下式所示的酚醛清漆树脂;具有式Z1-SH或SH-Z2-SH的巯基化合物(其中Z1和Z2各自是含有1~20个碳原子的烷基或烯丙基);感光剂;及溶剂。在下式中,R1、R2、R3和R4各自是氢原子或具有1~6个碳原子的烷基,并且n是0~3的整数。
-
公开(公告)号:CN1808266B
公开(公告)日:2010-10-06
申请号:CN200510132004.6
申请日:2005-12-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L29/786
Abstract: 本发明公开了一种光掩模。该掩模包括:透光区域和半透明区域,其中,半透明区域包括多个阻挡光的阻光部分,其中,阻光部分具有阻挡不同量的光的多个区域。通过使用这种类型的光掩模,光阻剂膜的基本上平坦的层能平坦地沉积在不平坦表面的顶部上。平坦的光阻剂膜降低了工艺成本并且提高了面板制造过程的可靠性。
-
公开(公告)号:CN1815366A
公开(公告)日:2006-08-09
申请号:CN200610007140.7
申请日:2006-02-05
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L27/1288 , G03F7/0007 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , H01L27/1214 , H01L29/458 , H01L29/4908
Abstract: 一种光刻胶组合物,其包含下式所示的酚醛清漆树脂;具有式Z1-SH或SH-Z2-SH的巯基化合物(其中Z1和Z2各自是含有1~20个碳原子的烷基或烯丙基);感光剂;及溶剂。在下式中,R1、R2、R3和R4各自是氢原子或具有1~6个碳原子的烷基,并且n是0~3的整数。
-
公开(公告)号:CN101236356A
公开(公告)日:2008-08-06
申请号:CN200710006730.2
申请日:2007-02-02
Applicant: 三星电子株式会社 , 东进半导体化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/118
Abstract: 能够形成高清晰度图案的无需额外的加热处理的光致抗蚀剂组合物,其包含包括至少一种式1单元的10-70重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、0.5-10重量份的光-酸产生剂、包括至少一种式2单元的5-50重量份的溶解抑制剂和10-90重量份的溶剂,其中上述组分的量是基于总共100重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、光-酸产生剂、溶解抑制剂和溶剂,和其中式1和式2具有以上结构,其中R为甲基,其中R1、R2和R3相同或不同,并为氢或叔丁基乙烯醚保护基。
-
公开(公告)号:CN1808266A
公开(公告)日:2006-07-26
申请号:CN200510132004.6
申请日:2005-12-16
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L29/786
Abstract: 本发明公开了一种光掩模。该掩模包括:透光区域和半透明区域,其中,半透明区域包括多个阻挡光的阻光部分,其中,阻光部分具有阻挡不同量的光的多个区域。通过使用这种类型的光掩模,光阻剂膜的基本上平坦的层能平坦地沉积在不平坦表面的顶部上。平坦的光阻剂膜降低了工艺成本并且提高了面板制造过程的可靠性。
-
公开(公告)号:CN101236356B
公开(公告)日:2012-11-21
申请号:CN200710006730.2
申请日:2007-02-02
Applicant: 三星电子株式会社 , 东进半导体化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/118
Abstract: 能够形成高清晰度图案的无需额外的加热处理的光致抗蚀剂组合物,其包含包括至少一种式1单元的10-70重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、0.5-10重量份的光-酸产生剂、包括至少一种式2单元的5-50重量份的溶解抑制剂和10-90重量份的溶剂,其中上述组分的量是基于总共100重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、光-酸产生剂、溶解抑制剂和溶剂,和其中式1和式2具有以下结构:[式1]其中R为甲基,[式2]其中R1、R2和R3相同或不同,并为氢或叔丁基乙烯醚保护基。
-
公开(公告)号:CN102540560A
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN201110432302.2
申请日:2011-12-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1333 , G02B5/20
CPC classification number: G02B5/201 , G02B5/003 , G02F1/133512 , G02F1/133514
Abstract: 本发明公开一种显示基板及其制造方法和具有其的显示面板。显示面板包括:基底基板,具有多个像素区域,其中每个像素区域包括多个子像素区域;光阻挡层图案,大体上定义子像素区域;和多个滤色器图案。光阻挡层图案和多个滤色器图案的上表面共同形成大体上平的表面。
-
-
-
-
-
-