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公开(公告)号：CN114440788A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202111559744.3
申请日：2021-12-20
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种基于相干扫描干涉系统的变焦显微表面重构方法，包括如下步骤：1：获取表面扫描干涉三维信号；2：对三维信号进行三维傅立叶变换获取其三维频谱；3：从三维频谱中提取变焦显微成像信号频谱；4：对变焦显微成像信号频谱做三维傅立叶逆变换获取三维变焦显微图像；5：通过变焦显微表面重构算法获取表面形貌。本发明利用相干扫描干涉图中的干涉信号与变焦显微成像信号在三维频谱中的可分离性，获取相干扫描干涉成像中的三维变焦显微信号，最终通过变焦显微表面重构算法获取表面形貌，提高了相干扫描干涉仪对极粗糙表面、大倾角和垂直表面的形貌测量能力。
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公开(公告)号：CN113884505A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202111019953.9
申请日：2021-09-01
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种球面元件表面缺陷散射探测装置和测量方法，利用球面元件的轴对称性，通过球面元件快速旋转和散射暗场探测实现全口径快速高灵敏度测量。通过在不同方位角设置光电探测器采集表面缺陷的散射光，提升了对不同方向的线状表面缺陷探测能力。本发明实现了原位球面元件定中调节和表面缺陷测量，避免了分离调节测量引起的定位误差，同时避免了已有的暗场成像测量系统结构和光源调节的复杂性。
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公开(公告)号：CN111947592B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202010609106.7
申请日：2020-06-29
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种动态双波长移相干涉测量装置，该装置中的包括：第一激光器、第二激光器、可调中性滤光片、光开关、反射镜、合束镜、扩束镜、二分之一波片、第一偏振分光棱镜、第一四分之一波片、参考镜、第二四分之一波片、近零位补偿镜、被测面、第三四分之一波片、成像镜、分束镜、第二偏振分光棱镜、第一探测器、第二探测器、第三偏振分光棱镜、第三探测器、第四探测器和计算机；以及测量方法。本发明装置隔振要求低，能实现对最大面形误差斜率小于3.5μm/pixel的非球面/自由曲面元件的面形进行全口径动态干涉测量。
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公开(公告)号：CN111948223A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010580232.4
申请日：2020-06-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01N21/95
Abstract: 一种介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法，该装置包括环形光源、样品、陷波滤波系统、显微系统、相机、XYZ位移平台、光束收集器、光纤、光谱仪和计算机。本发明利用宽光谱光源照明，计算高反膜光滑表面散射光谱特性，陷波滤波系统滤除强散射背景光，增强缺陷图像对比度，提高了测量灵敏度，解决了传统技术对介质高反膜元件表面缺陷大量漏检的问题。
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公开(公告)号：CN110057287B
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201910206648.7
申请日：2019-03-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01B9/02
Abstract: 一种用于干涉仪平面标准镜绝对面形检测的旋转机构，主要包括待测平面标准镜、供待测平面标准镜放置的平面标准镜固定环、镜框、圆形测角光栅尺、圆形测角光栅尺链接板、圆形测角光栅尺固定板、电动旋转机构及其控制系统。本发明实现了平面标准镜面形绝对检测的快速替换和旋转角度精密控制，实现了提高检测精度的目的，更能有标志性的评价加工水平，为加工精度的进一步提高提供指导意义，同时可为各类口径干涉仪的计量校准提供重要的参考意义。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106841065B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201710000703.8
申请日：2017-01-03
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种紫外‑可见光‑近红外透反射光谱测量装置和测量方法。测量装置包括复色光源、光栅单色器、光阑、偏振片、分束器、参考光高速探测器、测试光高速探测器、示波器和计算机，本发明优点是：(1)显著提高了透反射光谱的采集速度，可以实现样品透反射光谱的快速测量；(2)测量系统具有较高的测量精度，样品透反射率的测量误差约为0.1％‑0.3％；(3)在测量过程中，光栅单色器内部的机械部件始终保持匀速的运动状态，测试系统因而具有较高的机械稳定性。
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公开(公告)号：CN108955532B
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201810964829.1
申请日：2018-08-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01B11/00
Abstract: 一种用于绝对检测中大口径光学平面的旋转装置，该装置包括升降转动机构、吊装旋转机构和镜框。其中升降转动机构通过底板固定在镜框顶部，吊装旋转机构通过软齿同步带与升降转动机构连接，吊装旋转机构还通过承重钢丝与镜框连接。该旋转装置利用软齿同步带与大口径平面镜侧面间的摩擦力，带动整个平面镜在由若干个圆柱形塑料滚轮组成的链条上进行转动。本发明装置可以实现直径大于300mm以上的大口径平面镜任意角度的旋转，适用于在大口径高精度光学平面绝对检测过程中实现大口径平面镜的旋转。
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公开(公告)号：CN106918310B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201710097596.5
申请日：2017-02-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01B11/26
Abstract: 一种电光晶体通光面法线与Z轴偏离角测量装置及其测量方法，该装置包括激光器、第一透镜、空间滤波器、第二透镜、起偏器、分光镜、平面反射镜、数字光电自准直仪、第三透镜、第四透镜、检偏器、成像透镜、探测器和计算机处理系统。实验表明，本发明利用锥光干涉原理，实现了待测晶体待测面的非接触式无损检测，保障了测量过程中不引入待测晶体表面划痕，并且适用于大口径电光晶体检测，另外本发明采用数字光电自准直仪标定检测光束的光轴方向，保障了检测光束垂直入射待测晶体，具有测量精度高，测量重复性好的优点，具有很大应用前景。
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公开(公告)号：CN106918309B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201710097530.6
申请日：2017-02-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01B11/26
Abstract: 一种电光晶体通光面法线与Z轴偏离角的测量装置及其测量方法，该测量装置包括激光器、第一透镜、空间滤波器、第二透镜、起偏器、第三透镜、分光镜、数字光电内调焦自准直仪、第四透镜、检偏器、成像透镜、探测器和计算机处理系统。本发明利用锥光干涉原理，实现了待测电光晶体非接触式无损检测，保障了测量过程中不引入待测电光晶体表面划痕，并且适用于大口径电光晶体检测，另外本发明采用数字光电内调焦自准直仪标定检测光束光轴方向，保障了检测光束垂直入射待测电光晶体，具有测量精度高，测量重复性好的优点，具有很大应用前景。
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