一种离子束加工聚合物微球的方法

    公开(公告)号:CN114800926B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202210472210.5

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种离子束加工聚合物微球的方法,S1、将待加工的聚合物微球依次装入基台的第一凹槽中,放置完成后,各聚合物微球的底面抵接在对应第一凹槽的内壁上,此时聚合物微球上半部外露的球面记为A面;S2、通过离子束依次对各聚合物微球的A面进行加工;S3、待所有聚合物微球的A面加工完成后,将背板盖设在基台上方,直到各聚合物微球的顶面抵接在对应第二凹槽的内壁上;S4、通过翻转机构将整个样品台上下翻转,然后移走基台,此时聚合物微球上半部外露的球面记为B面;S5、通过离子束依次对各聚合物微球的B面进行加工。与现有技术相比,本发明方法既能实现样品固定又能实现导电功能,且能够实现批量化加工。

    一种光学元件表面缺陷检测装置
    52.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114689596A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202210278836.2

    申请日:2022-03-17

    Abstract: 本发明涉及一种光学元件表面缺陷检测装置,包括有:激光光源模块,用于发出激光光束并入射到待检测光学元件的表面;成像模块,用于收集散射光以形成检测图像;其特征在于:还包括:隔振平台,所述激光光源模块和成像模块均放置于该隔振平台上,用于在激光光源模块和成像模块扫描运动时隔离外界引起的振动。本发明的优点在于:通过设置隔振平台隔离激光光源模块和成像模块扫描运动时外界引起的振动,从而能减小外界扰动对系统的检测灵敏度和重复性造成影响,进而提高缺陷检测的抗干扰能力。因此该缺陷检测装置的检测灵敏度高且检测准确率高。

    确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法

    公开(公告)号:CN110444459B

    公开(公告)日:2021-11-23

    申请号:CN201910652504.4

    申请日:2019-07-19

    Abstract: 本发明涉及一种确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法,包括以下步骤:1)确定元件面形采样阵的采样间距和驻留时间面形的采样间距;2)等速均匀刻蚀;3)通过预测曲线确定驻留时间面形的最优延拓距离。设置边界因子,把不同γ值计算所得的加工时间t和材料去除量面形RMS值作图表示,每一个γ值的计算结果(tγ,RMSγ)对应于坐标系中的一个点,将这些点按照γ值由小到大的顺序连接起来就构成了一条曲线,称该曲线为“预测曲线”。合理的γ值应该是位于预测曲线上的拐点处,拐点处在较短的加工时间内可以实现较好地加工效果,有效提高对元件等速均匀刻蚀的加工效率。

    一种大直径光学元件的加工系统

    公开(公告)号:CN109605168B

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN201811451945.X

    申请日:2018-11-30

    Abstract: 本发明提供一种大直径光学元件的加工系统,包括工作台、设于所述工作台主轴上的光学元件、用于对光学元件进行定位和检测表面粗糙度的定位及检测系统、用于对光学元件进行加工的旋转超声振动系统、控制系统、以及蠕动泵和冷却装置;旋转超声振动系统包括超声波发生器、驱动电机、旋转装置、超声波加工装置;超声波加工装置以一定的静压力压在光学元件上方并能相对于光学元件高速旋转,超声波加工装置和光学元件表面通过蠕动泵缓慢注入清洗液,用以加工过程中的清洗及冷却。相对于现有技术,本发明的加工系统能有效降低光学元件表面粗糙度,提高加工精度及表面光洁度,进而提高产品质量及生产效率。

    一种光学元件的车削定心装置

    公开(公告)号:CN113172459A

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN202110370874.6

    申请日:2021-04-07

    Abstract: 本发明涉及一种光学元件的车削定心装置,其特征在于:包括活动基座,用于安装在机床上;依次重叠的多个叶片,各叶片可摆动地设于所述活动基座上,多个叶片的内壁能够围合成供光学元件穿设的通孔,且所述活动基座安装于机床状态下,所述通孔的中心线与机床主轴的轴线同轴;驱动结构,用于驱动各叶片摆动以无极调节所述通孔的孔径;锁定结构,用于锁定所述通孔的孔径。本发明涉及的一种光学元件的车削定心装置,更易操作、工作效率高,而且,定心操作对操作者要求较低,定心精度高且定心稳定性更好,适用范围广。

    一种用于光学元件面形检测的立式干涉仪标准镜装夹装置和方法

    公开(公告)号:CN109581609B

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN201811556828.X

    申请日:2018-12-19

    Abstract: 本发明涉及一种用于光学元件面形检测的立式干涉仪标准镜装夹装置和方法,立式干涉仪标准镜装夹装置包括调平机构、辅助支撑件和用于放置标准镜的托盘,所述调平机构的数量至少为三个,并沿托盘的周向方向均匀分布,各所述调平机构包括驱动系统和用于支撑托盘的支承块,所述驱动系统能够驱动支承块沿高度方向移动,支承块能到达的高度最低值记为Hmin,最高值记为Hmax,所述辅助支撑件包括支架和安装在支架上的缓冲垫,该缓冲垫用于支撑托盘,其高度记为h,Hmin、Hmax和h的关系满足:Hmin<h<Hmax。与现有技术相比,本发明的优点在于:能够精密调整标准镜的水平度。

    一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法

    公开(公告)号:CN108441838B

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201810234663.8

    申请日:2018-03-21

    Abstract: 本发明涉及一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法,该方法采用在光学元件的沉积面上选取中心区域以及多个边缘区域,各边缘区域沿沉积面的周向间隔布置,在沉积镀膜的过程中,光学元件转动,同时,离子源与靶材在光学元件沉积面的下方作曲线往复运动,从而完成镀膜,这样的镀膜方法使得中大口径光学元件表面沉积稳定且沉积薄膜的厚度均匀,并对光学元件沉积面上的中心与边缘的驻留时间比工艺参数进行修正,使得获得的沉积面上中心区域与各边缘区域的膜厚度更加均匀,提高了镀膜质量,更能满足需求,实用性强。

    一种用于光学元件的定位及姿态调整装置

    公开(公告)号:CN110666596A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201910822123.6

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 一种用于光学元件的定位及姿态调整装置,包括基板、初步定位机构、终定位机构和姿态调整结构,基板为左右平行设置二条,基板上设有导轨,基板上从下往上依次设有移动顶板、夹具顶板和顶板,移动顶板通过导轮可沿导轨自由移动;初步定位机构包括元件吊钩、套筒和螺母,夹具顶板通过定位销定位于移动顶板的上方,元件通过元件吊钩挂置在移动顶板的下方,通过套筒和螺母与移动顶板夹紧定位;终定位机构包括左侧顶轴和右侧顶轴;姿态调整结构包括调整丝套和锁紧螺母,调整丝套拧入顶板中,顶板通过螺钉固定于架体顶板上,通过微调调整丝套实现元件与X-Y平面的平行度。本发明不仅结构简单、成本低、操作方便,而且定位精度高、成本低、易于加工制造。

    一种小工具辅助大气等离子体复合抛光头

    公开(公告)号:CN110625448A

    公开(公告)日:2019-12-31

    申请号:CN201910822126.X

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 一种小工具辅助大气等离子体复合抛光头,包括底座、力矩伺服电机、连接板、等离子体抛光头和小工具抛光头,底座上设有直线导轨,连接板设在力矩伺服电机前端与转子相连接,力矩伺服电机的定子固定在基板上并通过驱动机构沿直线导轨作竖直滑动,等离子体抛光头安装在连接板前端上部,小工具抛光头对应安装在连接板前端下部,等离子体抛光头和小工具抛光头在力矩伺服电机驱动下实现抛光时的摆动和转换。增设小工具抛光头,通过小工具抛光头辅助等离子体抛光有效减轻二次吸附物对光学元件表面影响,提高抛光质量;通过力矩伺服电机实现小工具抛光头与等离子体抛光头转换,工作效率高,精度高;配合其他数控轴运动,可用于大尺寸非球面光学元件加工。

    确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法

    公开(公告)号:CN110444459A

    公开(公告)日:2019-11-12

    申请号:CN201910652504.4

    申请日:2019-07-19

    Abstract: 本发明涉及一种确定光学元件离子束均匀等速刻蚀最优延拓距离的方法,包括以下步骤:1)确定元件面形采样阵的采样间距和驻留时间面形的采样间距;2)等速均匀刻蚀;3)通过预测曲线确定驻留时间面形的最优延拓距离。设置边界因子,把不同γ值计算所得的加工时间t和材料去除量面形RMS值作图表示,每一个γ值的计算结果(tγ,RMSγ)对应于坐标系中的一个点,将这些点按照γ值由小到大的顺序连接起来就构成了一条曲线,称该曲线为“预测曲线”。合理的γ值应该是位于预测曲线上的拐点处,拐点处在较短的加工时间内可以实现较好地加工效果,有效提高对元件等速均匀刻蚀的加工效率。

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