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公开(公告)号：CN104635065A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201510043869.9
申请日：2015-01-28
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01R29/22
Abstract: 本发明涉及薄膜材料压电常数测量装置，属于测量领域。一种气腔压力法薄膜材料压电常数测量装置，其特征在于：将待测薄膜材料放置在全封闭气腔内，所述全封闭气腔通过压力控制器连接气源，由压力控制器控制全封闭气腔内的压力，所述待测薄膜材料上下两面的电极与设置在全封闭气腔的腔体壁上的连通全封闭气腔内外的导电柱电连接，所述导电柱的外接电线连接电荷放大器，最后连接到数字示波器，所述压力控制器连接有数字压力计，所述全封闭气腔内还设置有热电偶传感器，热电偶传感器连接监控用数字温度计。本发明的测量装置和测量方法测试简单直接，待测薄膜材料在测试中非常稳定，大大提高了测试精度。
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公开(公告)号：CN101504273B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200910056935.0
申请日：2009-03-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种物体平面微、纳米尺寸的测量装置及其测量方法，其特征在于：包括纳米定位测量机、光学显微镜测头和数据处理器，纳米定位测量机箱体内设有三个微型平面镜干涉仪和两个角度传感器来实现计量性的定位和测量，纳米定位测量机箱体一侧垂直支撑其固定支架，固定支架的另一端安装光学显微镜测头，光学显微镜测头底下是被测物体和载物台；被测物体经光学显微镜测头成像后，图像数据传递到数据处理器，数据处理器将接收到的数据进行数值转换获取被测物体在光学显微镜测头视场内的灰度图，在灰度图中设定线宽方向，然后设定沿此方向的区域，计算所述区域内各像素点的灰度算术平均值，并将所述灰度算术平均值经数模转换后发送到纳米测量机。
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公开(公告)号：CN210922540U
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201921943497.5
申请日：2019-11-12
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本实用新型涉及一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置，在利用本实用新型的一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置对样品表面参数进行测量时，开启激光光源并对X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器进行校正之后，将测端球沿被测样品的表面接触扫描；测端球通过测针以及中心连接部带动四棱锥反射镜产生位置变化，从而使得四棱锥反射镜的三个反射面反射至X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器上的光斑产生偏移量；根据光斑所产生的偏移量可以得出测端球与样品表面接触点的X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的坐标参数。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN203948863U
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201420360842.3
申请日：2014-07-02
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: F16L55/033
Abstract: 本实用新型为一种水管道消声器，包括水管管道，其特征在于：所述消声器的两端设有连接水管道的连接法兰和连接连接法兰的过渡圆筒，以连接法兰与过渡圆筒的连接处为两端面，连接一个直径大于水管道若干倍的圆筒，所述圆筒的内侧四周衬垫橡胶垫，所述过渡圆筒的筒壁内设有密集型均匀分布的小孔，所述小孔的直径为？1～5mm，所述小孔的孔轴线与过渡圆筒的轴线成一锐角，所述小孔的孔间距横向为10～20mm，竖向为15～25mm。本实用新型水管道消声器具有阻抗复合型特点，扩张腔式构造可以消除中低频噪声，橡胶垫的设计可以有效消除高频噪声。
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公开(公告)号：CN222188177U
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202420235130.2
申请日：2024-01-31
IPC: G01B11/00
Abstract: 本实用新型公开了一种基于激光干涉及同步触发的动态校准装置，该装置包括：直线运动导轨，包括固定工作台以及移动工作台；移动工作台上承载有被校仪器的测量目标以及激光干涉仪的反射镜；固定工作台上固定有激光干涉仪的干涉镜；同步触发器，具有多个输出同步脉冲信号的输出端口，分别与激光干涉仪以及被校仪器连接；激光干涉仪响应于同步脉冲信号测量移动工作台的位移量；被校仪器响应于同步脉冲信号测量测量目标的位置信息；上位机用于接收移动工作台的位移量以及测量目标的位置信息。采用激光干涉仪作为长度标准器，采用同步触发器作为时间标准器，通过同步触发标准器与被校仪器测量，完善动态校准在长度和时间上的溯源链。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN216846167U
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202120786997.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域，所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶，一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识，深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽，在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构，所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同，且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。
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公开(公告)号：CN219141761U
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202223486387.5
申请日：2022-12-26
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本实用新型涉及一种激光跟踪仪镜面折转测长的光路快速调整装置及调整方法，调整装置包括具有圆弧面的激光发射器、球形光栅、四自由度调整架；激光发射器位于被测长度的一端点上，用于发射激光束；球形光阑位于被测长度的另一端点上，用于限制激光束，使激光束与被测长度平行；四自由度调整镜架位于被测长度的延长线上，且靠近球形光阑，用于安装平面镜并调整平面镜的位置及姿态，使激光束经平面镜反射后过激光跟踪仪的原点，调整方法是通过复现激光跟踪仪镜面折转测长的光路实现光路快速粗调，以及通过计算实现光路定量精调。
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公开(公告)号：CN217716312U
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202222097838.X
申请日：2022-08-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本实用新型装置包括激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光束，激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块，形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制，最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收；所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号，并进行数据处理。
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公开(公告)号：CN215261700U
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202120786965.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域，所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域，两测量工作区域厚度参数相同，所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框，所述的工作框四边外周设有一级循迹标识，在工作框内部设有二级循迹标识，工作框中部则设有中心几何薄膜结构，所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆，其外周布置有带箭头循迹标识，所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
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公开(公告)号：CN212379431U
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN202020895038.0
申请日：2020-05-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本实用新型涉及一种基于原子力显微镜的测量装置，原子力显微镜扫描头固定设置，在测量过程中静止不动，原子力显微镜扫描头扫描测量被测物体表面的轮廓面参数并生成检测信号，原子力显微镜信号调理装置将检测信号调理之后传递给平台控制器，平台控制器根据检测信号控制定位平台相对原子力显微镜扫描头运动而使原子力显微镜扫描头沿着被测物体表面扫描检测，计算机对检测信号进行处理而得出被测物体表面轮廓的参数。由此可见，本实用新型的一种基于原子力显微镜的测量装置，能够方便地进行测量，测量过程中，原子力显微镜扫描头保持静止，避免了振动导致的测量误差，提高了测量准确性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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