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公开(公告)号：CN101449354B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200780018052.X
申请日：2007-05-17
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/08 , H01J27/08
CPC classification number: H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/304 , H01J37/32467 , H01J2237/002 , H01J2237/082 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明公开了一种用于产生离子流的示例性离子源，所述离子源具有至少部分地界定电弧室的离子化区的铝合金电弧室主体。电弧室主体和热丝状体电弧室壳体一起使用，所述热丝状体电弧室壳体或者直接或者间接地将阴极加热到足够的温度，以使电子流动通过电弧室的离子化区。温度传感器监测电弧室内的温度，并提供与感测的温度相关的信号。当传感器进行测量时控制器监测感测的温度，并调节温度以将感测的温度保持在一范围内。
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公开(公告)号：CN101563770A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780046690.2
申请日：2007-11-30
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6833
Abstract: 本发明公开了一种用于抓持工件的静电夹具(ESC)、系统和方法。ESC的抓持板具有中心盘和围绕中心盘的环状物，其中，中心盘从环状物以间隙距离凹进，在其中限定容积。背侧气体输送孔定位于为最接近环状物与中心盘之间的界面。加到环状物的第一电极的第一电压抓持工件的周边区域到第一层。加到中心盘的第二电极的第二电压大致上补偿在容积内的背侧气体的压力。ESC可由J－R型或库伦型材料构成。与抓持板相关联连的冷却板还由设置为用于从中输送冷却流体的一个或更多冷却通道提供冷却。
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公开(公告)号：CN101517725A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200780030643.9
申请日：2007-08-13
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/6831 , H01L21/68764
Abstract: 本发明提供一种离子注入设备、系统和用于将工件保持装置连接并断开到扫描臂的方法。提供一种扭转头，其中静电夹盘可操作地被安装，其中与一个或多个扭转头和静电夹盘结合的一个或多个旋转和非旋转部件具有一个或多个与其结合的动态流体密封。静电夹盘还可操作地从扭转头上去除，而不需要断开一个或多个动态流体密封。
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公开(公告)号：CN101490791A
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200780022054.6
申请日：2007-06-01
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24528
Abstract: 导引元件包括在离子注入系统内，以将离子射束引导或“导引”到导引元件下游的扫描元件的扫描顶点。这样，扫描元件的扫描顶点与扫描元件下游的平行化元件的聚焦点重合。这允许射束以期望的角度从平行化元件射出，以使得可以将离子以期望的方式注入到位于平行化元件的下游的工件内。
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公开(公告)号：CN101432841A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200780015094.8
申请日：2007-04-13
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/12 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/12 , H01J2237/022 , H01J2237/049
Abstract: 一种用于离子植入作业的聚焦粒子捕捉系统(200)，此系统可在植入之前先从离子束(202)移除不希望的粒子(222)。入口电极(204)包括进入孔(206)，并被偏压至第一基底电压。中央电极(208)位于该入口电极下游而距其有距离处，并且包括中央孔。该中央电极被偏压至小于该第一基底电压的负值。出口电极(212)位于该中央电极下游而与其具有距离，并且包括出口孔(214)。该出口电极被偏压至第二基底电压。产生从该入口电极朝向该中央电极第一静电场(218)，和产生从该出口电极朝向该中央电极的第二静电场(220)，藉此捕捉在离子束内不想要的粒子。
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公开(公告)号：CN101405660A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200780010216.4
申请日：2007-03-09
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Inventor： 帕拉尼库玛朗·萨克希维尔 , 托马斯·巴克利 , 艾伦·贝克内尔
IPC: G03F7/42
CPC classification number: G03F7/427 , G01N21/73 , H01J37/32972 , H01L21/31138
Abstract: 用于在基本无氧和氮的等离子体灰化处理中监测氧和/或氮的水平的方法通常包括使用光发射监测所述等离子体。监测所存在的低水平的氧和/或氮物种对所述等离子体中通常富含的其它物种所产生的效应，并且使其与所述等离子体中存在的氧和氮的量关联。这种所谓“效应检测”方法监测由痕量氧和/或氮物种的存在所造成的与不同于氮和/或氧的物种特别相关的光谱干扰，并且用于以1ppm和大概1ppb的等级的灵敏度定量测定氧和/或氮的量。
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公开(公告)号：CN101361160A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200680051548.2
申请日：2006-12-12
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/244 , H01J37/304 , H01J2237/24507 , H01J2237/24528 , H01J2237/24578 , H01J2237/30472 , H01J2237/31703
Abstract: 沿离子注入的轴的入射角的测量值通过利用正和负狭缝结构(104，106)获得。正狭缝结构具有入口开口(120)、出口开口(122)、以及在正方向上的具有选择的角度范围的离子束的获得部分之间的狭缝轮廓。负狭缝结构具有入口开口(121)、出口开口(123)、以及在负方向上的具有选择的角度范围的离子束的获得部分之间的狭缝轮廓。第一射束测量机构(214)测量正部分的射束电流，以获得正角度射束电流测量值。第二射束测量机构(216)测量负部分的射束电流，以获得负角度射束电流测量值。分析仪部件(126)利用正角度射流测量值和负角度射流测量值确定测量的入射角。
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公开(公告)号：CN118661240A
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202380019268.7
申请日：2023-01-30
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Inventor： 尼尔·巴森 , 约书亚·阿比沙斯 , 大卫·斯波德莱 , 尼尔·科尔文 , 约瑟夫·瓦林斯基 , 迈克尔·克里斯托福罗 , 弗拉迪米尔·罗曼诺夫 , 普拉蒂帕·考瑞坎·苏布拉赫姆尼亚
IPC: H01J37/08 , H01J27/08 , H01J37/317
Abstract: 离子源110具有限定电弧室容积140的电弧室116。储液器144耦合到电弧室，从而限定储液器容积146。储液器容纳源种类以限定储液器容积内的液体114。导管154将储液器容积流体地耦合到电弧室容积。可选地，该导管的第一和第二开口156，158通向相应的储液器和电弧室容积。可选地，热源152选择性地加热储液器以在预定温度下熔化源种类。液体控制装置160控制储液器容积内的液体的第一容积以限定向电弧室容积的液体的预定供应量。可选地，液体控制装置是加压气体源174，该加压气体源流体地耦合到储液器以向储液器供应气体并向电弧室提供预定量的液体。
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公开(公告)号：CN111201594B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN201880066493.5
申请日：2018-10-25
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Abstract: 本发明提供一种工件对准系统，其具有发光设备，该发光设备使多个波长的光束沿浅角的路径朝向工件平面在周边区域的第一侧引导。受光设备在与第一侧相反的第二侧上接收光束。旋转装置选择性旋转工件支座。当工件与路径相交时，控制器基于通过工件所接收的光束量来确定工件的位置。基于工件的透射率来控制受光设备的灵敏度。基于旋转位置、所接收的光束量、工件的透射率、工件边缘的检测以及受控的受光设备灵敏度来确定工件旋转时的工件位置。
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公开(公告)号：CN111542909B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201980007028.9
申请日：2019-01-22
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/08
Abstract: 本发明提供一种用于离子注入系统的终端，其中该终端具有用于支撑离子源(108)的终端壳体(154)，该离子源配置成形成离子束。该终端壳体内的气体箱(146)具有氢气发生器(144)，该氢气发生器配置成产生用于离子源的氢气。气体箱与终端壳体电隔离并进一步电耦合到离子源。离子源和气体箱通过多个电绝缘体与终端壳体电隔离。多个绝缘支座(156)使终端壳体与大地电隔离。终端电源使终端壳体相对于大地电偏置到终端电势。离子源电源使离子源相对于终端电势电偏置到离子源电势。导电管(148)使气体箱与离子源电耦合。
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