公开(公告)号：CN109312451A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780038118.5

申请日：2017-06-21

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 丹尼斯·卡梅尼察 ,  理查德·雷舒特 ,  费尔南多·席尔瓦 ,  杰森·贝灵哲 ,  吴向阳

IPC: C23C14/48 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明涉及一种离子注入系统(101)，包括配置成由碘化铝形成离子束(116)的离子源(108)。束线总成选择性将离子束输送到配置成接受该离子束以将铝离子注入工件(128)中的终端站(106)。离子源可具有固态材料源(112)，该固态材料源具有固体形式的碘化铝。固体源蒸发器(146)可配置成蒸发碘化铝，界定气态碘化铝。电弧腔室(114)可由气态碘化铝形成等离子体，其中来自电源(110)的电弧电流配置成从碘化铝中离解铝离子。一个或多个引出电极(118)可配置成从电弧腔室中引出离子束。任选地，水蒸汽源(150)进一步引入水与残余碘化铝反应形成氢碘酸，其中从系统中排空残余碘化铝和氢碘酸。

公开(公告)号：CN109312452B

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201780038149.0

申请日：2017-06-21

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 丹尼斯·卡梅尼察 ,  理查德·雷舒特 ,  费尔南多·席尔瓦 ,  尼尔·科尔文

IPC: C23C14/48 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明提供离子注入系统和方法，用于由碘化铝形成离子束。水蒸汽源进一步引入水与残余碘化铝反应形成氢碘酸，其中从系统中排空残余碘化铝和氢碘酸。

公开(公告)号：CN109312452A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780038149.0

申请日：2017-06-21

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 丹尼斯·卡梅尼察 ,  理查德·雷舒特 ,  费尔南多·席尔瓦 ,  尼尔·科尔文

IPC: C23C14/48 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明提供离子注入系统和方法，用于由碘化铝形成离子束。水蒸汽源进一步引入水与残余碘化铝反应形成氢碘酸，其中从系统中排空残余碘化铝和氢碘酸。

公开(公告)号：CN111542909A

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201980007028.9

申请日：2019-01-22

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 尼尔·科尔文 ,  哲-简·谢 ,  理查德·雷舒特 ,  温迪·科尔比

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/08

Abstract: 本发明提供一种用于离子注入系统的终端，其中该终端具有用于支撑离子源(108)的终端壳体(154)，该离子源配置成形成离子束。该终端壳体内的气体箱(146)具有氢气发生器(144)，该氢气发生器配置成产生用于离子源的氢气。气体箱与终端壳体电隔离并进一步电耦合到离子源。离子源和气体箱通过多个电绝缘体与终端壳体电隔离。多个绝缘支座(156)使终端壳体与大地电隔离。终端电源使终端壳体相对于大地电偏置到终端电势。离子源电源使离子源相对于终端电势电偏置到离子源电势。导电管(148)使气体箱与离子源电耦合。

公开(公告)号：CN111542909B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN201980007028.9

申请日：2019-01-22

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 尼尔·科尔文 ,  哲-简·谢 ,  理查德·雷舒特 ,  温迪·科尔比

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/08

Abstract: 本发明提供一种用于离子注入系统的终端，其中该终端具有用于支撑离子源(108)的终端壳体(154)，该离子源配置成形成离子束。该终端壳体内的气体箱(146)具有氢气发生器(144)，该氢气发生器配置成产生用于离子源的氢气。气体箱与终端壳体电隔离并进一步电耦合到离子源。离子源和气体箱通过多个电绝缘体与终端壳体电隔离。多个绝缘支座(156)使终端壳体与大地电隔离。终端电源使终端壳体相对于大地电偏置到终端电势。离子源电源使离子源相对于终端电势电偏置到离子源电势。导电管(148)使气体箱与离子源电耦合。

公开(公告)号：CN109312451B

公开(公告)日：2021-09-03

申请号：CN201780038118.5

申请日：2017-06-21

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 丹尼斯·卡梅尼察 ,  理查德·雷舒特 ,  费尔南多·席尔瓦 ,  杰森·贝灵哲 ,  吴向阳

IPC: C23C14/48 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明涉及一种离子注入系统(101)，包括配置成由碘化铝形成离子束(116)的离子源(108)。束线总成选择性将离子束输送到配置成接受该离子束以将铝离子注入工件(128)中的终端站(106)。离子源可具有固态材料源(112)，该固态材料源具有固体形式的碘化铝。固体源蒸发器(146)可配置成蒸发碘化铝，界定气态碘化铝。电弧腔室(114)可由气态碘化铝形成等离子体，其中来自电源(110)的电弧电流配置成从碘化铝中离解铝离子。一个或多个引出电极(118)可配置成从电弧腔室中引出离子束。任选地，水蒸汽源(150)进一步引入水与残余碘化铝反应形成氢碘酸，其中从系统中排空残余碘化铝和氢碘酸。