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公开(公告)号：CN113070742A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110429742.6
申请日：2021-04-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：对光学元件进行古典抛光；步骤二：对经过古典抛光的光学元件进行真空等离子体抛光。本发明采用古典抛光和等离子抛光的复合抛光技术，能显著消除光学元件的表面与亚表面损伤，该复合抛光技术能够有效克服古典抛光造成光学元件表面和亚表面损伤以及等离子抛光的抛光效率低的问题，即将古典抛光与等离子体抛光结合，可以兼顾抛光效率和对损伤层的去除。
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公开(公告)号：CN109571110A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811360435.1
申请日：2018-11-15
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种用于活塞销孔加工的压电陶瓷配合杠杆机构的微进给装置，包括基座、刀柄、镗刀以及进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器，刀柄一端插置在基座内，另一端与镗刀固定连接，杠杆轴前后穿过基座、刀柄将刀柄与基座连接在一起、并使刀柄可沿杠杆轴旋转，进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器分别通过预紧螺钉可调节地穿置在基座的上下两侧，进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器与杠杆轴垂直设置且里端分别与刀柄靠近尾部的上下两侧相抵，进刀或退倒时，进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器的变形位移通过杠杆轴转变为刀具的径向位移。本发明结构简单、易于加工制造，具有高精度、高分辨率和快速响应的特点。
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公开(公告)号：CN109571057A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811389180.1
申请日：2018-11-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明提供一种用于活塞加工快速响应的子母滑台装置，包括立式安装的Z轴进给系统、母滑台X1系统、子滑台X2系统，其中，工件由夹具夹持固定并能绕自身轴线A轴旋转；Z轴进给系统由伺服电机驱动实现进给；母滑台X1系统立式安装于Z轴进给系统上，并能在第一直线电机的驱动下相对于工件左右滑移，母滑台X1系统与Z轴进给系统插补用以形成工件的中凸侧母线；子滑台X2系统立式安装于母滑台X1系统的第一滑台上，并能在第二直线电机的驱动下相对于母滑台X1系统做高频往复运动，子滑台X2系统与工件自转的A轴插补用以形成工件的非圆横截面。与现有技术相比，本发明既能大行程进给，又能高频往复进给，机床运动精度高，易于实现对加工过程的精确控制。
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公开(公告)号：CN108441838A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810234663.8
申请日：2018-03-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法，该方法采用在光学元件的沉积面上选取中心区域以及多个边缘区域，各边缘区域沿沉积面的周向间隔布置，在沉积镀膜的过程中，光学元件转动，同时，离子源与靶材在光学元件沉积面的下方作曲线往复运动，从而完成镀膜，这样的镀膜方法使得中大口径光学元件表面沉积稳定且沉积薄膜的厚度均匀，并对光学元件沉积面上的中心与边缘的驻留时间比工艺参数进行修正，使得获得的沉积面上中心区域与各边缘区域的膜厚度更加均匀，提高了镀膜质量，更能满足需求，实用性强。
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公开(公告)号：CN108127560A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201711296522.0
申请日：2017-12-08
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B49/00
CPC classification number: B24B49/00
Abstract: 本发明公开了一种用于方形光学元件双面快速抛光的控制系统，包括控制器和液压传动组件，其特征在于：还包括作为液压传动组件驱动源的电动伺服组件，以及用于检测液压传动组件的压力、从而反馈给控制器以便控制电动伺服组件的压力反馈组件。通过利用伺服电机作为驱动源，因此在整个控制过程中，尤其是在补油阶段，不需要频繁的开启和关闭小泵，也不需要频繁的控制阀门，很好地改善在方形光学元件双面快速抛光过程中的补压阶段由于不断补油而造成的压力脉动和波动；利用三通道压力调整控制，既能降低成本，又便于快速地达到所需的控制压力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN120055991A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202510208637.8
申请日：2025-02-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B41/00 , B24B13/00 , B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种用于离子束抛光设备的光学元件上下料装置，包括有移动平台(1)以及安装在移动平台(1)上的底座(2)，其特征在于：还包括有第一翻转机构(4)，包括有铰接在底座(2)上的第一翻转架(41)以及用于驱动第一翻转架(41)翻转90°的第一旋转机构(42)；第二翻转机构(5)，包括有铰接在第一翻转架(41)上的第二翻转架(51)以及用于驱动第二翻转架(51)翻转90°的第二旋转机构(52)；锁定机构(6)，用于对第一翻转架(41)和第二翻转架(51)进行锁定和解锁；元件夹具(7)，能左右滑移地安装在第二翻转架(51)上；以及平移机构(8)，用于驱动元件夹具(7)沿左右方向平移。
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公开(公告)号：CN119952539A
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202510208634.4
申请日：2025-02-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明公开了一种非球面光学元件加工方法，其特征在于包括有以下步骤：步骤一、建立加工表面质量与加工时间数据库；步骤二、开始光学元件加工，当工件Ⅰ完成磨削及检测后等待抛光或完成一轮抛光及检测后等待补偿抛光时，判断抛光机床加工状态；步骤三(a)、各工位最佳时间匹配：步骤三(b)、各工位最短时间匹配：步骤四、调整工件Ⅲ磨削阶段的目标表面质量等级再进行后续加工。与现有技术相比，本发明的非球面光学元件加工方法能够提高整体加工效率。
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公开(公告)号：CN114564688B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202210107456.2
申请日：2022-01-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: G06F17/15 , G06N3/0499 , G06N3/084 , B24B1/00
Abstract: 本发明涉及一种基于BP神经网络确定离子束抛光去除函数的方法，通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库，确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系，根据法拉第扫描结果，通过线性公式计算去除函数峰值去除率，通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同，却极大的缩短了确定去除函数的时间；同时基于法拉第扫描结果确定去除函数，无需在元件表面进行去除函数实验，从而节约了成本；且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息，这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用，不受材料特性的限制，可用于所有的离子束加工过程。
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公开(公告)号：CN117012600A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202310903961.2
申请日：2023-07-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种离子束束径调整装置，调整装置包括有基板，其特征在于：基板的一端底部设置有多个光阑基座，光阑基座固定有光阑，光阑的末端设有能固定在离子源前端的磁性底座，光阑的中间开有光阑小孔，基板的另一端底部设有连接件，连接件的底部设有法拉第杯，法拉第杯的中间设有法拉第杯小孔，基板上设有基板锁紧螺丝。采用磁性底座的光阑，能够实现光阑与离子源的快速固定，并且真空腔体中设置多套不同孔径的光阑，实现了不打开真空腔体自动更换光阑的目的，达到了离子束束径调整的要求；因此本发明不仅操作方便、结构合理、更换效率和精度高，应用于离子束抛光中离子束束径的调整和控制。
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公开(公告)号：CN116728171A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310748104.X
申请日：2023-06-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种离子束抛光设备的上下料装置，其特征在于：包括移动小车，移动小车上设有一平台，平台上设有翻转机构，翻转机构包括翻转基座和翻转油缸，翻转基座通过翻转油缸可90°翻转地设置在平台上，工件固定在夹具体上、通过锁紧装置与翻转基座固定，通过翻转基座的翻转实现工件的水平姿态或竖直姿态的调整，移动小车上、平台的下方设有对平台进行横向移动及水平转动调节的横向调整机构和水平角度调整机构，翻转基座上设有可对夹具体进行纵向移动调节的纵向推送机构。本发明具有结构简单合理、操作灵活方便、安全性高的特点，而且对接精度高，可应用于超大口径光学元件离子束抛光的上下料。
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