公开(公告)号：CN113380660A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202110215948.9

申请日：2021-02-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 网仓纪彦 ,  堂込公宏 ,  北正知

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种基片输送系统和负载锁定模块。基片输送系统包括大气基片输送模块、真空基片输送模块和配置于大气基片输送模块的侧面且配置于真空基片输送模块的上表面或下表面的负载锁定模块。负载锁定模块具有容器、第1门、第2门和基片升降机构。容器具有：成在容器的侧面，能够使容器内与大气基片输送模块连通的第1基片输送口；和能够使容器内与真空基片输送模块连通的第2基片输送口。第1门可开闭第1基片输送口。第2门可开闭第2基片输送口。基片升降机构使基片经由第2基片输送口在容器内的第1位置与真空基片输送模块内的第2位置之间升降。第1位置为与第1基片输送口相同的高度。根据本发明，能够削减基片处理系统的设置面积。

公开(公告)号：CN109425414A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201811009097.7

申请日：2018-08-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广濑润 ,  网仓纪彦 ,  实吉梨沙子 ,  小野寺忍

IPC: G01F25/00

Abstract: 本发明提供一种检查在累加法中利用的流量测量系统是否处于适合于准确求取气体流量的状态的方法。一个实施方式的方法涉及在基板处理系统中使用的检查流量测量系统的方法。流量测量系统提供基于累加法的流量的计算中使用的气体流路。由基板处理系统的气体供给部的流量控制器输出的气体能够向该气体流路供给。在该方法中，除了气体流路的容积的预先所求取的初始值之外，还在流量测量系统的检查时求取该气体流路的容积。并且，将所求取的容积与初始值进行比较。

公开(公告)号：CN102678725B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201210065635.0

申请日：2012-03-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  株式会社富士金

Inventor： 网仓纪彦 ,  加贺爪哲 ,  佐藤雅彦 ,  内藤幸男 ,  武藤聪史 ,  中田知宏 ,  筱原努 ,  山路道雄

IPC: F16B39/10 ,  B25B11/02

CPC classification number: F16B39/101 ,  F16B39/103 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/53 ,  Y10T403/50

Abstract: 本发明涉及一种螺栓的防松装置及其安装方法以及安装夹具。本发明提供一种螺栓的防松装置，其部件的构造简化、且能够容易地进行安装作业。具有：分别以不能相对旋转的方式嵌合在多根螺栓(5)的各头部上的多个嵌合部件(2、3)；横跨多个嵌合部件(2、3)地被嵌合的卡合部件(4)。各嵌合部件(2、3)的外周面(2b、3b)为非圆形，在卡合部件(4)上设有与多个嵌合部件(2、3)的各非圆形外周面(2b、3b)对应的多个卡合孔(非圆形卡合部)(8a、8b)。

公开(公告)号：CN102810445B

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：CN201210174846.8

申请日：2012-05-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 加藤义之 ,  网仓纪彦 ,  实吉梨沙子 ,  深泽公博

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32449 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/52 ,  H01J37/3244 ,  Y10T137/0368

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置及其气体供给方法，在交替切换处理气体的供给时，这些处理气体不会混合，比过去更能抑制过渡现象。在晶片的等离子体处理中交替切换至少两种以上的处理气体（例如C4F6气体与C4F8气体）并供给处理室内时，对于供给所切换的处理气体的各个气体供给路，开启设置于其气体供给路中的质量流量控制器（MFC）的下游侧的开闭阀，在质量流量控制器反复设定规定流量和零流量，由此交替开闭各个处理气体的供给。