一种用于活塞销孔加工的压电陶瓷配合杠杆机构的微进给装置

    公开(公告)号:CN109571110A

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201811360435.1

    申请日:2018-11-15

    Abstract: 一种用于活塞销孔加工的压电陶瓷配合杠杆机构的微进给装置,包括基座、刀柄、镗刀以及进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器,刀柄一端插置在基座内,另一端与镗刀固定连接,杠杆轴前后穿过基座、刀柄将刀柄与基座连接在一起、并使刀柄可沿杠杆轴旋转,进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器分别通过预紧螺钉可调节地穿置在基座的上下两侧,进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器与杠杆轴垂直设置且里端分别与刀柄靠近尾部的上下两侧相抵,进刀或退倒时,进刀压电陶瓷驱动器和退刀压电陶瓷驱动器的变形位移通过杠杆轴转变为刀具的径向位移。本发明结构简单、易于加工制造,具有高精度、高分辨率和快速响应的特点。

    一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法

    公开(公告)号:CN108441838A

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201810234663.8

    申请日:2018-03-21

    Abstract: 本发明涉及一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法,该方法采用在光学元件的沉积面上选取中心区域以及多个边缘区域,各边缘区域沿沉积面的周向间隔布置,在沉积镀膜的过程中,光学元件转动,同时,离子源与靶材在光学元件沉积面的下方作曲线往复运动,从而完成镀膜,这样的镀膜方法使得中大口径光学元件表面沉积稳定且沉积薄膜的厚度均匀,并对光学元件沉积面上的中心与边缘的驻留时间比工艺参数进行修正,使得获得的沉积面上中心区域与各边缘区域的膜厚度更加均匀,提高了镀膜质量,更能满足需求,实用性强。

    用于方形光学元件双面快速抛光的控制系统

    公开(公告)号:CN108127560A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201711296522.0

    申请日:2017-12-08

    CPC classification number: B24B49/00

    Abstract: 本发明公开了一种用于方形光学元件双面快速抛光的控制系统,包括控制器和液压传动组件,其特征在于:还包括作为液压传动组件驱动源的电动伺服组件,以及用于检测液压传动组件的压力、从而反馈给控制器以便控制电动伺服组件的压力反馈组件。通过利用伺服电机作为驱动源,因此在整个控制过程中,尤其是在补油阶段,不需要频繁的开启和关闭小泵,也不需要频繁的控制阀门,很好地改善在方形光学元件双面快速抛光过程中的补压阶段由于不断补油而造成的压力脉动和波动;利用三通道压力调整控制,既能降低成本,又便于快速地达到所需的控制压力。

    一种高效率复合加工非球面光学元件的方法

    公开(公告)号:CN119658476A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202411889936.4

    申请日:2024-12-20

    Abstract: 一种高效率复合加工非球面光学元件的方法,步骤:根据待加工光学元件形状制作工装夹具,将光学元件坯料下表面磨平抛光,固定在工装夹具上;通过粗磨+精磨对光学元件毛坯上表面进行非球面成型加工,得到非球面样件;采用轮廓仪测量非球面样件面形数据;将面形数据导入气囊抛光机床,计算得到补偿加工的NC代码,将工装夹具与非球面样件一同固定在抛光机床的过渡夹具上采用不同气囊抛光头对非球面样件的上表面进行粗抛和精抛;加工完成后采用轮廓仪测量非球面样件面形数据,合格后将非球面样件及工装夹具浸泡在丙酮溶液中,取出样件。本发明工艺科学合理,能实现对元件面形的快速测量,减少装夹误差,提高加工质量和加工效率,降低生产成本。

    用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法

    公开(公告)号:CN109623560B

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN201811536305.9

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法,本发明以Sigmund溅射理论为基础,利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值,从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式,因此调节工艺参数后,通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后,利用该曲线的参数即可计算得到去除函数,大大缩短了确定去除函数的时间,从2个小时缩短到5分钟。因此,提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率,从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外,由于该种方法确定去除函数时,不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验,从而避免了样件的浪费,节约成本。

    降低离子束抛光光学元件表面污染的方法

    公开(公告)号:CN110712094B

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN201910844111.3

    申请日:2019-09-06

    Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法,1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理;2)将光学元件安装在夹具后,对光学元件和夹具的表面进行清洁处理,随后放入离子束抛光设备的副腔室内,最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内;3)安装离子源,离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网;4)开启离子束抛光设备,启动离子源,使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流,待离子源运行一定设定时间t稳定后,对光学元件进行离子束抛光。采用该方法,离子束加工后光学元件表面洁净,有效抑制污染,提高加工质量。

    降低离子束抛光光学元件表面污染的方法

    公开(公告)号:CN110712094A

    公开(公告)日:2020-01-21

    申请号:CN201910844111.3

    申请日:2019-09-06

    Abstract: 本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法,1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理;2)将光学元件安装在夹具后,对光学元件和夹具的表面进行清洁处理,随后放入离子束抛光设备的副腔室内,最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内;3)安装离子源,离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网;4)开启离子束抛光设备,启动离子源,使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流,待离子源运行一定设定时间t稳定后,对光学元件进行离子束抛光。采用该方法,离子束加工后光学元件表面洁净,有效抑制污染,提高加工质量。

    用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法

    公开(公告)号:CN109623560A

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201811536305.9

    申请日:2018-12-14

    CPC classification number: B24B13/00 B24B1/002 B24B49/12

    Abstract: 本发明涉及一种用于六轴运动抛光系统的确定离子束抛光工艺参数的方法,本发明以Sigmund溅射理论为基础,利用有限次的法拉第扫描实验来确定比例系数和常数C的值,从而得到去除函数的峰值去除率Rmax和去除函数的半高全宽HR相对于法拉第扫描电流密度分布曲线的相关参数的表达式,因此调节工艺参数后,通过法拉第扫描实验得到法拉第扫描电流密度分布曲线后,利用该曲线的参数即可计算得到去除函数,大大缩短了确定去除函数的时间,从2个小时缩短到5分钟。因此,提高了针对不同的工艺参数进行仿真加工试验的效率,从而能更快速地确定最佳工艺参数。另外,由于该种方法确定去除函数时,不需要对于每种工艺参数都进行刻蚀实验,从而避免了样件的浪费,节约成本。

    一种用于光学元件面形检测的立式干涉仪标准镜装夹装置和方法

    公开(公告)号:CN109581609A

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201811556828.X

    申请日:2018-12-19

    Abstract: 本发明涉及一种用于光学元件面形检测的立式干涉仪标准镜装夹装置和方法,立式干涉仪标准镜装夹装置包括调平机构、辅助支撑件和用于放置标准镜的托盘,所述调平机构的数量至少为三个,并沿托盘的周向方向均匀分布,各所述调平机构包括驱动系统和用于支撑托盘的支承块,所述驱动系统能够驱动支承块沿高度方向移动,支承块能到达的高度最低值记为Hmin,最高值记为Hmax,所述辅助支撑件包括支架和安装在支架上的缓冲垫,该缓冲垫用于支撑托盘,其高度记为h,Hmin、Hmax和h的关系满足:Hmin<h<Hmax。与现有技术相比,本发明的优点在于:能够精密调整标准镜的水平度。

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