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公开(公告)号：CN110726378B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN201911100142.4
申请日：2019-11-12
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明涉及一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置及方法，在利用本发明的一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置对样品表面参数进行测量时，开启激光光源并对X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器进行校正之后，将测端球沿被测样品的表面接触扫描；测端球通过测针以及中心连接部带动四棱锥反射镜产生位置变化，从而使得四棱锥反射镜的三个反射面反射至X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器上的光斑产生偏移量；根据光斑所产生的偏移量可以得出测端球与样品表面接触点的X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的坐标参数。
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公开(公告)号：CN110160464B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN201910490623.4
申请日：2019-06-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法，利用本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置对被测工件的被测内孔进行检测时，通过第一检测杆、第二检测杆和第三检测杆在不同测量截面检测得出测量值并计算出被测内孔在测量截面上的圆度误差，并根据每个测量截面处第一检测杆、第二检测杆、第三检测杆以及倾角传感器的测量值计算得出被测内孔中心线的直线度误差，根据所得出的各测量截面上的圆度误差及被测内孔中心线的直线度误差就能够计算得出被测内孔的圆柱度误差。由此可见，本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法能够方便地对工件的内孔参数进行检测。
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公开(公告)号：CN111487441A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN202010451028.2
申请日：2020-05-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明涉及一种基于原子力显微镜的测量装置及台阶面测量方法，原子力显微镜扫描头固定设置，在测量过程中静止不动，原子力显微镜扫描头扫描测量被测物体表面的轮廓面参数并生成检测信号，原子力显微镜信号调理装置将检测信号调理之后传递给平台控制器，平台控制器根据检测信号控制定位平台相对原子力显微镜扫描头运动而使原子力显微镜扫描头沿着被测物体表面扫描检测，计算机对检测信号进行处理而得出被测物体表面轮廓的参数。由此可见，本发明的一种基于原子力显微镜的测量装置及台阶面测量方法，能够方便地进行测量，测量过程中，原子力显微镜扫描头保持静止，避免了振动导致的测量误差，提高了测量准确性。
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公开(公告)号：CN110160464A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201910490623.4
申请日：2019-06-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法，利用本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置对被测工件的被测内孔进行检测时，通过第一检测杆、第二检测杆和第三检测杆在不同测量截面检测得出测量值并计算出被测内孔在测量截面上的圆度误差，并根据每个测量截面处第一检测杆、第二检测杆、第三检测杆以及倾角传感器的测量值计算得出被测内孔中心线的直线度误差，根据所得出的各测量截面上的圆度误差及被测内孔中心线的直线度误差就能够计算得出被测内孔的圆柱度误差。由此可见，本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法能够方便地对工件的内孔参数进行检测。
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公开(公告)号：CN103075952A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201210557870.X
申请日：2012-12-20
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种用于微纳米尺度二维尺寸测量的微触觉测头，其特征在于：所述的微触觉测头由圆形基底、电容式传感器阵列、悬梁、测针、悬挂弹簧及限位结构组成；圆形基底用于固定传感器阵列及悬梁；电容式传感器阵列作为敏感单元，用以感知位移变化；悬梁用于连接测针及传感器阵列；测针直接与被测物接触，以探测并传递位移量；悬挂弹簧起悬挂、调平悬梁的作用，并可调节测量力；限位结构用来限制悬梁及测针运动的自由度，使其只能以悬梁顶端的小球球心为原点旋转，从而消除了测针和悬梁的整体偏移，保证了横向位移测量的精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101793499B
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201010136223.2
申请日：2010-03-30
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种用于微纳米坐标测量的多测头测量方法与装置。将微纳米多测头系统安装在三维高精度位移平台上，Z向平移台上安装载物台，载物台下面有俯仰和偏摆微调机构。多测头系统的测量装置放置在隔离腔中，测量装置的控制信号和多测头系统的传感信号与隔离腔外的DAQ卡，控制箱和计算机相连。将一个测头中心作为坐标系的原点，把其他几个测头所在位置坐标依次匹配到坐标系中。对多测头系统进行校准，对各测头在统一坐标系中的位置坐标进行校准。测量时，由与被测点最近的测头进行测量。将各被测点对应的三维位移平台的位移量，转换为各被测点在坐标系中的坐标，计算出被测尺寸。本发明方法具有工作效率高、测量精度高的优点。
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公开(公告)号：CN101504374B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200910056934.6
申请日：2009-03-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01N21/84
Abstract: 本发明为激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法。通过对具有多种材料表面的被测样品进行预先多次标定，在扫描过程中通过自动或手动设置FES信号线性拟合系数，对具有多种材料表面的被测样品进行焦平面位置修正。本发明在不改变原有测量系统硬件结构的基础上，克服激光聚焦方法在测量对象和分辨力上的缺陷，拓展了该方法的应用领域。
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公开(公告)号：CN101504374A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200910056934.6
申请日：2009-03-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01N21/84
Abstract: 本发明为激光聚焦式测头应用于特殊结构测量中的标定和扫描方法。通过对具有多种材料表面的被测样品进行预先多次标定，在扫描过程中通过自动或手动设置FES信号线性拟合系数，对具有多种材料表面的被测样品进行焦平面位置修正。本发明在不改变原有测量系统硬件结构的基础上，克服激光聚焦方法在测量对象和分辨力上的缺陷，拓展了该方法的应用领域。
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公开(公告)号：CN209116974U
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201821794604.8
申请日：2018-11-01
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型为一种测量SiO2薄膜厚度用的等效物理结构模型，其特征在于：所述测量SiO2薄膜厚度是基于椭偏法采用微纳米薄膜厚度标准样片结合等效物理结构模型进行测量的，所述的等效物理结构模型是根据Si/SiO2薄膜的实际多层膜物理结构模型建立的简化等效物理结构模型，实际多层膜物理结构模型顺序包括表面粗糙层、SiO2薄膜层、中间混合层及Si基底，其中所述的中间混合层为Si基底与SiO2薄膜层之间反应产生的SixOy产物膜层。本实用新型可保证不同厂家、型号的椭偏仪建立薄膜物理结构模型的统一性与结果的一致性，为建立和完善微纳米薄膜量值溯源体系奠定基础。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN212379431U
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN202020895038.0
申请日：2020-05-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本实用新型涉及一种基于原子力显微镜的测量装置，原子力显微镜扫描头固定设置，在测量过程中静止不动，原子力显微镜扫描头扫描测量被测物体表面的轮廓面参数并生成检测信号，原子力显微镜信号调理装置将检测信号调理之后传递给平台控制器，平台控制器根据检测信号控制定位平台相对原子力显微镜扫描头运动而使原子力显微镜扫描头沿着被测物体表面扫描检测，计算机对检测信号进行处理而得出被测物体表面轮廓的参数。由此可见，本实用新型的一种基于原子力显微镜的测量装置，能够方便地进行测量，测量过程中，原子力显微镜扫描头保持静止，避免了振动导致的测量误差，提高了测量准确性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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