公开(公告)号：CN118963076A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202410593379.5

申请日：2024-05-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郭泽秀 ,  朴时均 ,  文炯朗 ,  扈锺必 ,  朴庆熏 ,  宋明洙 ,  裵鎭希 ,  金旼秀 ,  韩承 ,  金兑镐 ,  朴景铃

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/16

Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物以及一种包括使用所述组合物来移除边珠的步骤的形成图案的方法及形成图案的系统。所述用于移除边珠的组合物包括：添加剂，包含选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的至少一者；羧酸类化合物；以及有机溶剂，其中选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的所述至少一者对羧酸类化合物的混合重量比为约9:1到约1.2:1。

公开(公告)号：CN117795049A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280055024.X

申请日：2022-07-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  李旻映 ,  许伦旼 ,  具滋旼 ,  李东炯 ,  韩多顺 ,  金旼秀 ,  金宰贤

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/36 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  G03F7/42 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40

Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组成物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组成物来去除边珠的步骤，且所述组成物包括有机溶剂以及具有大于或等于30平方埃的AlogP3的化合物。

公开(公告)号：CN116482935A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202211535262.9

申请日：2022-12-02

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  金荣权 ,  许伦旼 ,  李旻映 ,  金旼秀 ,  李圭原 ,  崔正敏 ,  朴哲弘 ,  高武铉 ,  裴相元 ,  金贞儿

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明涉及一种形成图案的方法。该方法包括：在基板上涂覆含金属的抗蚀剂组合物，沿着基板的边缘顺序地涂覆两种类型的用于去除边缘珠粒的组合物，执行包括干燥和加热的热处理以在基板上形成含金属的抗蚀剂膜，以及对该含金属的抗蚀剂膜进行曝光和显影以形成抗蚀剂图案；或在基板上涂覆含金属的抗蚀剂组合物，沿着基板的边缘涂覆用于去除边缘珠粒的组合物，执行包括干燥和加热的热处理以在基板上形成含金属的抗蚀剂膜，曝光含金属的抗蚀剂膜，以及用显影液组合物显影以形成抗蚀剂图案，其中，两种类型的用于去除边缘珠粒的组合物和显影液组合物的细节如说明书中所述。

公开(公告)号：CN116057471A

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202180054499.2

申请日：2021-11-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  金圣振 ,  白载烈 ,  阵和英 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  千玟基

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明有关于一种光阻底层组成物以及使用所述光阻底层组成物形成图案的方法，所述光阻底层组成物包括：具有在环中包含两个或更多个氮原子的环骨架的聚合物、由化学式1表示的化合物及溶剂。化学式1的定义如说明书中所述。[化学式1]

公开(公告)号：CN115598939A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210793674.6

申请日：2022-07-07

Applicant: 三星SDI株式会社(KR) ,  三星电子株式会社(KR)

Inventor： 许伦旼 ,  文炯朗 ,  李旻映 ,  金旼秀 ,  金荣权 ,  金宰贤 ,  禹昌秀 ,  崔正敏 ,  高武铉 ,  金贞儿 ,  都星安 ,  裵相元 ,  韩勋 ,  洪锡九

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供了一种含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，以及包括使用其进行显影步骤的形成图案的方法。该含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物包含有机溶剂和被至少一个羟基(‑OH)取代的七角环化合物，其中七角环化合物在环中具有至少两个双键。

公开(公告)号：CN109478015A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201680087729.4

申请日：2016-10-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  姜善惠 ,  金瑆焕 ,  郑瑟基 ,  金旼秀 ,  文秀贤

IPC: G03F7/004 ,  H01L21/033 ,  H01L21/027 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02 ,  C08L65/00

Abstract: 本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基或腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。

公开(公告)号：CN106610567A

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：CN201610860457.9

申请日：2016-09-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑瑟基 ,  金旼秀 ,  金瑆焕 ,  宋炫知 ,  姜善惠 ,  金永珉 ,  金有那 ,  金眞亨 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  尹星莉 ,  李忠宪 ,  洪承希 ,  黄善民

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。