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公开(公告)号：CN113396364A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202080012809.X
申请日：2020-03-23
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。
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公开(公告)号：CN105575775A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510426921.9
申请日：2015-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金旼秀 , 宋炫知 , 姜善惠 , 金成旻 , 金瑆焕 , 金永珉 , 金润俊 , 金惠廷 , 南沇希 , 白载烈 , 尹星莉 , 尹龙云 , 李忠宪 , 郑瑟基 , 赵妍熹 , 洪承希 , 黄善民 , 黄元宗 , 李松世 , 金命九 , 刘奈莉
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F1/46 , G03F1/76 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
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公开(公告)号：CN104730861A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201410384366.3
申请日：2014-08-06
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供了正型光敏树脂组合物、利用其制备的光敏树脂膜以及显示装置。本发明公开了一种正型光敏树脂组合物，包括(A)碱溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；(C)交联剂；(D)热生酸剂；(E)苯酚类化合物；和(F)有机溶剂，其中以1∶50至50∶1的重量比包含交联剂和热生酸剂。
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公开(公告)号：CN119472168A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411093299.X
申请日：2024-08-09
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括聚合物、光酸产生剂及溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元或其组合，所述光酸产生剂在空气氛围(空气气体)中在205℃下进行热重分析(TGA)期间从测量时间起3分钟后具有约0％的质量减少率。化学式1及化学式2的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#
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公开(公告)号：CN117148672A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202310071780.8
申请日：2023-02-07
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种包含由化学式1表示的有机金属化合物和溶剂的半导体光刻胶组合物以及一种使用其形成图案的方法。化学式1的具体细节如说明书中所定义。[化学式1][R1L1SnO(R2L2C(＝O)O)]6。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106610567B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN104730861B
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201410384366.3
申请日：2014-08-06
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供了正型光敏树脂组合物、利用其制备的光敏树脂膜以及显示装置。本发明公开了一种正型光敏树脂组合物，包括(A)碱溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；(C)交联剂；(D)热生酸剂；(E)苯酚类化合物；和(F)有机溶剂，其中以1∶50至50∶1的重量比包含交联剂和热生酸剂。
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公开(公告)号：CN106226997B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201610182871.9
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。
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公开(公告)号：CN105575775B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201510426921.9
申请日：2015-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金旼秀 , 宋炫知 , 姜善惠 , 金成旻 , 金瑆焕 , 金永珉 , 金润俊 , 金惠廷 , 南沇希 , 白载烈 , 尹星莉 , 尹龙云 , 李忠宪 , 郑瑟基 , 赵妍熹 , 洪承希 , 黄善民 , 黄元宗 , 李松世 , 金命九 , 刘奈莉
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F1/46 , G03F1/76 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
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