公开(公告)号：CN113396364A

公开(公告)日：2021-09-14

申请号：CN202080012809.X

申请日：2020-03-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  白载烈

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3的定义与详细说明中所述的相同。

公开(公告)号：CN105884685B

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201511020947.X

申请日：2015-12-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  金润俊 ,  朴裕信 ,  朴惟廷 ,  宋炫知

IPC: C07D215/14 ,  C07C39/12 ,  C07D311/58 ,  C07C39/14 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明公开一种单体、包含所述单体的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。该单体具有改善的耐蚀刻性和溶解性特征，因此适用于旋涂法。

公开(公告)号：CN108431691A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201680072484.8

申请日：2016-09-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  林栽范 ,  许柳美 ,  姜善惠 ,  文秀贤

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  C08G61/10 ,  C08K5/00

Abstract: 本发明揭示一种有机膜组合物及使用所述有机膜组合物形成图案的方法，有机膜组合物包含有包含由化学式1表示的结构单元的聚合物、由化学式2表示的添加剂以及溶剂。化学式1及化学式2与实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN105093833A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510046738.6

申请日：2015-01-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  金润俊 ,  金永珉 ,  文俊怜 ,  朴裕信 ,  宋炫知 ,  尹龙云 ,  李忠宪

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN119472168A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411093299.X

申请日：2024-08-09

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 曺雅罗 ,  崔有廷 ,  白载烈 ,  权纯亨 ,  阵和英 ,  金圣振

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用所述抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。抗蚀剂底层组合物包括聚合物、光酸产生剂及溶剂，所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元或其组合，所述光酸产生剂在空气氛围(空气气体)中在205℃下进行热重分析(TGA)期间从测量时间起3分钟后具有约0％的质量减少率。化学式1及化学式2的定义如说明书中所述。化学式1#imgabs0#化学式2#imgabs1#

公开(公告)号：CN118732423A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202311571205.0

申请日：2023-11-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 成太根 ,  文炯朗 ,  崔有廷 ,  任浣熙 ,  李忠宪 ,  宋大锡 ,  司空峻

IPC: G03F7/32

Abstract: 提供一种含金属光刻胶显影剂组合物以及包括使用所述含金属光刻胶显影剂组合物进行显影的步骤的形成图案的方法，所述含金属光刻胶显影剂组合物包含有机溶剂、酸化合物以及所述酸化合物的共轭碱化合物。

公开(公告)号：CN108431691B

公开(公告)日：2021-09-07

申请号：CN201680072484.8

申请日：2016-09-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  林栽范 ,  许柳美 ,  姜善惠 ,  文秀贤

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  C08G61/10 ,  C08K5/00

Abstract: 本发明揭示一种有机膜组合物及使用所述有机膜组合物形成图案的方法，有机膜组合物包含有包含由化学式1表示的结构单元的聚合物、由化学式2表示的添加剂以及溶剂。化学式1及化学式2与实施方式中所定义相同。本发明的有机膜组合物能够改良间隙填充特征及平面化特征以及抗蚀刻性。

公开(公告)号：CN105093834B

公开(公告)日：2020-03-13

申请号：CN201510136947.X

申请日：2015-03-26

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金美英 ,  朴惟廷 ,  金润俊 ,  金惠廷 ,  文俊怜 ,  宋炫知 ,  李忠宪 ,  崔有廷

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]＊‑A‑B‑＊在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。

公开(公告)号：CN110579943A

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201910501950.5

申请日：2019-06-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵信孝 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  周范俊 ,  崔有廷

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物以及使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，所述抗蚀剂底层组合物包含具有衍生于异氰脲酸酯衍生物的结构单元的聚合物以及溶剂。

公开(公告)号：CN113138532B

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202110056902.7

申请日：2021-01-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  金旼秀 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  安度源

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。