形成图案的方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116482935A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202211535262.9

    申请日:2022-12-02

    Abstract: 本发明涉及一种形成图案的方法。该方法包括:在基板上涂覆含金属的抗蚀剂组合物,沿着基板的边缘顺序地涂覆两种类型的用于去除边缘珠粒的组合物,执行包括干燥和加热的热处理以在基板上形成含金属的抗蚀剂膜,以及对该含金属的抗蚀剂膜进行曝光和显影以形成抗蚀剂图案;或在基板上涂覆含金属的抗蚀剂组合物,沿着基板的边缘涂覆用于去除边缘珠粒的组合物,执行包括干燥和加热的热处理以在基板上形成含金属的抗蚀剂膜,曝光含金属的抗蚀剂膜,以及用显影液组合物显影以形成抗蚀剂图案,其中,两种类型的用于去除边缘珠粒的组合物和显影液组合物的细节如说明书中所述。

    化学机械研磨浆料组合物的用途及用于研磨有机膜的方法

    公开(公告)号:CN107636110B

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN201680027986.9

    申请日:2016-05-09

    Abstract: 本发明揭示用于研磨碳含量为约50原子%至约99原子%的有机膜的化学机械研磨(CMP)浆料组合物的用途及用于研磨有机膜的方法。CMP浆料组合物包含:极性溶剂及非极性溶剂中的至少一者;金属氧化物磨蚀剂;氧化剂;以及分子量为3500克/摩尔或小于3500克/摩尔的聚丙烯酸。CMP浆料组合物在研磨具有高碳含量、高膜密度以及高硬度的有机膜时提供优良效应,在研磨有机膜时具有比在研磨无机膜时更佳的研磨速率,在研磨有机膜之后在经研磨表面上提供良好平坦性,以及通过容易自研磨停止膜移除残余有机膜材料而使得研磨更均一。

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