一种金属离子源发射装置
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111668080B

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN202010363614.1

    申请日:2020-04-30

    Abstract: 本发明公开一种金属离子源发射装置,包括密封连接的陶瓷筒、引出电极室和三个并排设置的阴极,触发电极固定在陶瓷绝缘电极上,阴极靶材固定在间接冷却通道上,限位电极固定在固定电极上,固定电极通过螺扣将间接冷却通道固定在阴极冷却管上,阴极冷却管固定在阴极法兰上,触发接线柱通过导线和触发电极相连;引出电极室中位于阴极正下方设置有引出电极和加速电极,加速电极和引出电极上均设置有引出缝隙。该金属离子源发射装置,能够在一个阳极的情况下,同时让3个阴极进行工作,增大了离子源的照射面积,提高了工作效率、能源利用率;发射源更加紧凑,处理面积更大。

    一种制备高遮挡基体涂层的装置

    公开(公告)号:CN111663106A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010644519.9

    申请日:2020-07-07

    Abstract: 本发明公开一种制备高遮挡基体涂层的装置,涉及镀膜装置技术领域,主要结构包括真空室,所述真空室水平方向的中部后侧设置有第一法兰孔,待加工工件通过所述第一法兰孔进入所述真空室内;所述真空室还连通有气体离子源系统、沉积系统和分子泵;所述真空室上设置有进气口;通过气体离子源系统对待加工工件进行表面气体离子源清洗;然后通入氮气进行表面氮化,提高基体抗疲劳特性,再进行循环多层涂层的制备;工件在真空腔室内进行自转。该单元涂层内每层均为氮化物、氧化物纳米晶的混合体,能够释放沉积时产生的内应力,同时膜层内Al,Cr的氧化物具备较好的抗高温性能。

    一种刀具涂层及其沉积方法

    公开(公告)号:CN111621744A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010198939.9

    申请日:2020-03-20

    Abstract: 本发明公开了一种微型刀具涂层的沉积方法,包括以下步骤:在惰性气体中,在刀具基体上沉积金属离子形成金属过渡层;在金属过渡层上依次沉积金属离子、金属碳化物、碳离子形成单元涂层;循环步骤2S若干次;在所述单元循环涂层表层沉积SP3键渐变的碳离子形成渐变碳膜层。本发明的在微型刀具上沉积超厚碳膜的沉积方法对沉积工艺进行优化,在刀具表面沉积金属过渡层、单元循环沉积、sp3键不断升高的渐变碳膜层,涂层与刀具结合力大于30N,膜层厚度可高至15微米,硬度大于50Gpa。

    一种防潮高透明度的类金刚石涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN109097735A

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201811008088.6

    申请日:2018-08-31

    Abstract: 本发明公开了在核探测晶体表面的一种防潮高透明度的类金刚石(DLC)涂层的制备方法,包括以下步骤:1S:利用重金属和气体混合等离子体对基体表面进行高低能交替清洗;2S:以碳靶为阴极,利用双T异面型磁过滤沉积方法在基体上进行高致密DLC涂层的沉积;3S:利用低能气体离子源对DLC进行纳米结构刻蚀形成3-5nm的无定形增透层。该方法基于双T异面型磁过滤沉积方法,在沉积过程中可自形成超致密、高透光率DLC,能够方便解决核探测器中如NaI、CsI晶体易潮解,同时需要高的可见光透光率的需求,能够大幅延伸易潮解核探测晶体的使用环境和范围。

    一种极端压力驱动下的WC基陶瓷自润滑层填充方法

    公开(公告)号:CN119775011A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411968138.0

    申请日:2024-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种极端压力驱动下的WC基陶瓷自润滑层填充方法,属于无机非金属材料制备技术领域。方法包括:首先,将CBN或金刚石粉末与WC粉末混合均匀,预压成型,并用金属包裹体包裹;然后,高温高压烧结包裹样品后,去除样品外金属包裹体,制备出WC基孔隙陶瓷;接着,将加工成型的WC基孔隙陶瓷外包裹一层自润滑粉末,再用金属包裹体进行包裹;随后,将包裹样品进行高温高压或高压处理后,去除金属包裹体及残余自润滑块体,得到包含润滑层的WC基自润滑陶瓷。采用本发明方法制得的WC基自润滑陶瓷与非润滑陶瓷的力学性能相同;耐磨性较非润滑层显著提升。

    一种氩液化系统
    28.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115388615B

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202210411852.4

    申请日:2022-04-19

    Abstract: 本发明公开一种氩液化系统,涉及探测器相关技术领域;包括密封设置的冷箱,所述冷箱侧壁通过真空管路连通有真空系统;所述冷箱顶部固定设置有制冷机,所述制冷机下方的制冷机冷头位于所述冷箱内,所述制冷机冷头一侧连接有回热换热器,所述回热换热器底部连接有氩气管,所述制冷机冷头底部连接有液氩管,所述氩气管和液氩管末端分别穿过所述冷箱顶部后连接有探测器容器,探测器容器上用于安装探测器。本发明提供的氩液化系统,制冷效果好,能够为探测器提供持续稳定的低温环境。

    一种柔性高熵合金涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116855888A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202310915367.5

    申请日:2023-07-25

    Abstract: 本发明提供了一种柔性高熵合金涂层及其制备方法和应用,属于高熵合金技术领域。本发明通过磁过滤阴极真空弧沉积,改变真空室的空间布局以及电势分布,提高等离子体密度,使高熵合金中元素成分可调及含量可调,制备的高熵涂层具备良好摩擦学、腐蚀学及抗氧化性能;磁过滤后沉积粒子的离化率接近为100%,没有大颗粒,形成的薄膜致密、平整光滑,抗腐蚀性能好,且与机体的结合良好;能够制备多种元素薄膜;能够控制膜厚在纳米量级得到纳米多层膜;结合对一元金属涂层、二元金属涂层、四元金属涂层和高熵涂层的设计,避免了传统技术制备的高熵涂层内应力大,很难实现柔性的问题。

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