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公开(公告)号:CN119932523A
公开(公告)日:2025-05-06
申请号:CN202510113669.X
申请日:2025-01-24
Abstract: 本发明公开了一种高n/γ抑制比的六方氮化硼中子闪烁屏,其制备方法包括以下步骤:将SiC单晶衬底放入CVD炉内,炉体抽真空,加热衬底升温至反应温度,将原料气体BCl3和NH3、或BF3和NH3和载气N2通入炉内,同时加入少量含碳气体进行掺杂使氮化硼膜具有高效发光性能,保温生长,断电冷却,从衬底上剥离后得到六方氮化硼中子闪烁屏。该闪烁屏均由小原子质量的元素组成,具有高的n/γ分辨能力。本发明提供了一种具有高n/γ抑制比的中子闪烁屏‑碳掺杂六方氮化硼(h‑BN:C),本发明在h‑BN膜生长过程中引入碳源对h‑BN进行掺杂使得h‑BN膜显示300~800nm的宽谱发射。
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公开(公告)号:CN119775052A
公开(公告)日:2025-04-08
申请号:CN202411967765.2
申请日:2024-12-30
Applicant: 北京师范大学珠海校区
Abstract: 本发明公开了一种极端压力驱动下的脱钴PDC陶瓷自润滑层填充方法,属于无机非金属材料制备技术领域。方法包括:将加工成型的脱钴PDC外部包裹一层自润滑粉末,再用金属包裹体包裹;高温高压处理金属包裹体或高压处理金属包裹体;将处理后的样品取出,去除样品外的金属包裹体及残余自润滑块体,得到包含润滑层的脱钴PDC自润滑陶瓷。采用本发明方法制得的PDC自润滑陶瓷与脱钴PDC陶瓷的力学性能相同,耐磨性较非润滑层显著提升。
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公开(公告)号:CN117269265A
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202311195817.4
申请日:2023-09-15
Applicant: 北京师范大学
IPC: G01N27/28 , B01J19/08 , G01N21/3577 , G01N21/03
Abstract: 本发明公开了一种用于原位红外光谱测试的电化学池装置,涉及电化学技术领域,本体的一侧开口并与侧盖连接,本体与侧盖之间形成容置槽,容置槽的上端开口并通过顶盖封闭,本体和侧盖之间、本体与顶盖之间、以及侧盖与顶盖之间均通过密封圈密封,顶盖上设有安装孔和通气孔,安装孔和通气孔均能够连通容置槽和外界,本体上靠近侧盖的一侧,以及侧盖上靠近本体的一侧均设有一窗口通道,窗口通道能够连通容置槽和外界,两个窗口通道同轴设置,两个窗口通道之间用于放置待测样品,垫片位于窗口通道和待测样品之间,基底位于两个窗口通道之间并用于与工作电极杆连接。本发明安装简单、灵活性好、易于清洗、密封性好。
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公开(公告)号:CN115946976A
公开(公告)日:2023-04-11
申请号:CN202310115503.2
申请日:2023-02-08
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明公开一种探测器容器,涉及探测器相关技术领域;包括内容器和外容器,所述内容器固定悬设于所述外容器内,所述内容器上连接有液氩进口管和氩气出口管,所述液氩进口管和氩气出口管末端分别与氩液化冷箱连接;所述外容器顶部设置有外容器真空抽口和内容器真空抽口,所述外容器真空抽口和内容器真空抽口一端分别通过真空管路连接有抽真空系统,所述外容器真空抽口另一端与所述外容器和内容器之间的空间连通,所述内容器真空抽口另一端与所述内容器内部连通;所述外容器顶部安装有与所述内容器连通的探测器。本发明提供的探测器容器,制冷时间长,制冷效果好。
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公开(公告)号:CN111485208B
公开(公告)日:2021-07-13
申请号:CN202010198940.1
申请日:2020-03-20
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明公开了一种气浮电机润滑涂层制备方法,包括以下步骤:S1:利用气体离子源对基体表面进行高低能交替清洗;S2:利用BN加热器在真空度1×10‑2‑1×10‑3Pa下对清洗后的基体进行加温至第一预定温度,保温1‑5h;S3:将温度降至第二预定温度,利用磁过滤沉积技术,同时在基体上施加高功率脉冲偏压复合直流偏压进行类石墨涂层的沉积;然后将温度升至第三预定温度;S4:利用激光器对所述类石墨涂层进行表面刻蚀。该方法沉积速率高,成本低,能实现批量化生产。采用该方法制备的类金刚石涂层为硬度和氢含量循环交替变化的类石墨层状碳结构;且具备高耐腐蚀性,高抗裂纹扩展特性,高抗磨能力,同时具有高导电性,并且膜层致密性好。
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公开(公告)号:CN111607771A
公开(公告)日:2020-09-01
申请号:CN202010610104.X
申请日:2020-06-29
Applicant: 北京师范大学
IPC: C23C14/35 , C23C14/10 , C23C14/30 , C23C14/08 , C23C14/32 , C23C14/20 , C23C14/02 , C08J7/06 , C08L79/08
Abstract: 本发明公开了一种耐原子氧聚合物膜层材料及其制备方法,属于航空航天材料技术领域。所述膜层材料为五层复合结构,基体层为聚合物薄膜,中间过渡层依次为连接层、阻氧层和活性金属层,表层为阻氧层;其中,连接层为利用射频磁控溅射沉积的SiO2层;阻氧层为利用电子束蒸发技术制备的氧化铝或氧化锆层;活性金属层为利用磁过滤沉积的Mg、Al或Zn层。本发明选用电子束蒸发和磁过滤/射频磁控等方法的耦合制备耐原子氧聚合物膜层材料,以解决结合强度、热穿透和氧穿透的问题,不仅制备工艺简便,而且所制得的耐原子氧聚合物薄膜具有结构致密、无开裂的优点,以最终达到良好的原子氧防护效果。
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公开(公告)号:CN111575669A
公开(公告)日:2020-08-25
申请号:CN202010417649.9
申请日:2020-05-18
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明涉及一种防高速冲击涂层方法,包括:对基体进行表面初步离子清洗;在表面清洗后的基体进行激光亚表面微结构化;对结构化表面深度清洗后进行离子注入,并退火形成伪扩散层;在所述伪扩散层之上,利用蒸发法沉积聚合物吸能膜层;利用高能离子注入对聚合物层进行金属化;利用磁过滤沉积设备在金属化层上沉积超硬金刚石涂层;循环制备聚合物层、金属化层以及超硬类金刚石层3-5次。本发明实施例提供的方法,通过基体微结构、离子注入和沉积镀膜的相结合的方式,明显提高了基体的抗高速运动物体的冲击能力。因其方法简单、易操作,且成本低、效率高,非常适合批量化生产。
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公开(公告)号:CN118812285A
公开(公告)日:2024-10-22
申请号:CN202410864789.9
申请日:2024-07-01
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明提供了一种陶瓷复合材料及其制备方法和应用,属于复合材料领域。本发明在陶瓷基体和纳米晶层的中间设置陶瓷/金属混合层,可以增强陶瓷基体与纳米晶层的结合强度,同时陶瓷/金属混合层能在陶瓷基体亚表面形成压应力,提高陶瓷复合材料的疲劳强度;纳米晶层中的金属碳化物熔点高,在高温下稳定性好,并且本发明采用耐磨性能优异的非晶碳膜包裹纳米晶,既可以增强高温稳定性和耐磨性能,又可以提高纳米晶层与非晶碳膜包裹纳米晶的结构层之间的结合强度;陶瓷复合材料的疲劳强度、各层之间的结合强度、耐磨性能和高温稳定性的提高延长了其作为打印机的陶瓷条的使用寿命。
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公开(公告)号:CN118712394A
公开(公告)日:2024-09-27
申请号:CN202410831254.1
申请日:2024-06-26
Applicant: 北京师范大学
IPC: H01M4/88 , C25B1/04 , C25B11/052 , C25B11/089 , H01M4/90 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供了一种在质子交换膜上原位制备高熵合金催化剂的制备方法、高熵合金催化剂及其应用,涉及催化材料技术领域。本发明提供的制备方法,包括以下步骤:对质子交换膜进行气体离子源处理,得到处理后质子交换膜;利用多个离子束通道,采用多通道离子束技术在所述处理后质子交换膜表面制备3~4元合金纳米颗粒;在所述3~4元合金纳米颗粒中注入稀土元素,得到高熵合金催化剂。相比于传统的化学沉积方法,本发明的制备方法简便,制备效率高,更适宜批量生产。本发明采用高熵合金作为催化剂,相比于传统的贵金属,成本更低。
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公开(公告)号:CN116904924A
公开(公告)日:2023-10-20
申请号:CN202310887505.3
申请日:2023-07-19
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明公开了一种采用双脉冲技术制备的超厚类金刚石膜,所述方法包括以下步骤:在样品表面沉积碳原子过程中采用脉冲磁场和脉冲电场处理形成非晶碳膜。本发明所述方法制备的非晶碳膜实现保持高硬度的同时,可以降低内应力,使得膜层在大厚度下不发生脱落。
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