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公开(公告)号:CN110079781B
公开(公告)日:2020-06-19
申请号:CN201910289447.8
申请日:2019-04-11
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本发明实施例公开了一种冷却腔室、ALN缓冲层生长工艺设备和采用冷却腔室进行冷却处理的方法,其中的冷却腔室包括:腔室本体、设置在腔室本体内的水冷盘、托盘和调节机构;托盘用于承载晶片,水冷盘用于对托盘进行降温;调节机构用于调节托盘与水冷盘之间的距离。本发明的冷却腔室、设备以及冷却处理方法,能够提高托盘和晶片冷却的温度均匀性,保证工艺结果的稳定性和一致性,可以将托盘在不破碎的情况下冷却至较低温度;可以再更少的时间内达到目标温度,提高设备的产能。
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公开(公告)号:CN111128847A
公开(公告)日:2020-05-08
申请号:CN201911347255.4
申请日:2019-12-24
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本申请实施例提供了一种承载装置及半导体加工设备。该承载装置设置于工艺腔室内,包括:基座及多个支撑组件;多个支撑组件均设置于基座上,且多个支撑组件相互配合以支撑托盘;支撑组件包括检测部,用于检测支撑组件上受到的压力值。本申请实施例实现了通过支撑组件可以直接对托盘进行检测,可以使得承载装置实现了能够及时发现托盘异常情况,对于无盘、倾斜及碎盘现象均可以通过支撑组件进行检测,从而可以避免承载装置上的托盘发生异常情况。
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公开(公告)号:CN110911320A
公开(公告)日:2020-03-24
申请号:CN201911251679.0
申请日:2019-12-09
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种冷却装置及其控制方法、半导体加工设备。冷却装置用于对托盘进行冷却,其包括腔室以及设置于腔室内的驱动单元、冷却单元及加热单元;所述驱动单元用于驱动所述托盘移动,以带动所述托盘选择性位于第一位置或第二位置;所述冷却单元用于对所述托盘进行冷却,当所述托盘位于第一位置时以第一速率对所述托盘降温,当所述托盘位于第二位置时以第二速率对所述托盘降温,且所述第二速率大于所述第一速率;所述加热单元用于选择性对所述托盘进行加热,以调整所述冷却单元对所述托盘冷却的速率。本申请实施例实现了稳定托盘的冷却速度,从而可以有效提高冷却效率,进而使得托盘的冷却不再成为影响产能的瓶颈。
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公开(公告)号:CN110299314A
公开(公告)日:2019-10-01
申请号:CN201910600492.0
申请日:2019-07-04
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供的加热系统及半导体加工设备,用于对托盘进行加热,加热系统包括加热器和反射屏,反射屏用于将加热器辐射的热量反射至托盘,其中,反射屏包括凹槽形状的反射部,加热器设置在反射部中。反射部在反射加热器辐射的热量时,能够将加热器径向辐射的热量更多地反射至托盘,从而提高热量的利用效率。
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公开(公告)号:CN208478303U
公开(公告)日:2019-02-05
申请号:CN201821184808.X
申请日:2018-07-25
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种半导体设备,包括腔室和真空泵,还包括柔性密封管和真空泵支架,其中,所述柔性密封管连接在所述腔室的出口和所述真空泵的入口之间,以减小所述真空泵传递给所述腔室的震动;所述真空泵支架用于支撑所述真空泵。本实用新型将腔室与真空泵之间通过柔性密封管进行连接,并通过真空泵支架单独支撑真空泵,使得真空泵产生的震动和力不会传到腔室,避免了由于真空泵本身的震动引起的腔室震动,增加了半导体设备的稳定性。
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公开(公告)号:CN222734927U
公开(公告)日:2025-04-08
申请号:CN202420658533.8
申请日:2024-04-01
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本申请公开了一种法拉第筒组件及工艺腔室,法拉第筒组件包括:第一筒件,设置于所述工艺腔室内的上部;第二筒件,设置于所述工艺腔室内的下部,并与所述第一筒件间隔设置,以至少暴露所述线圈的一部分。本申请的法拉第筒组件通过采用第一筒件和第二筒件分体式设计,可以避免对线圈的磁场产生屏蔽,削弱ICP放电,导致在提高ICP放电的功率到极限值时依然无法起辉的问题。此外,通过第一筒件和第二筒件可以加强对工艺腔室内的颗粒的吸附,避免陶瓷筒完全暴露于等离子体环境中需要更频繁的清洗的问题。
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公开(公告)号:CN219653110U
公开(公告)日:2023-09-08
申请号:CN202320413860.2
申请日:2023-02-28
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: C23C14/35 , H01L21/67 , H01L21/203 , H01J37/32
Abstract: 本申请公开一种半导体工艺设备,所述半导体工艺设备包括腔室(100)、磁控管组件(200)和磁体组件(300),所述磁控管组件(200)设于所述腔室(100)的顶部,所述磁体组件(300)环绕设置在所述腔室(100)之外,以使所述磁控管组件(200)与所述磁体组件(300)配合形成偏置磁场,所述磁体组件(300)与所述腔室(100)转动配合,以通过转动所述磁体组件(300)改变所述磁控管组件(200)与所述磁体组件(300)之间的偏置磁场。上述方案能解决相关技术的半导体工艺设备在调整靶材的过程中存在操作工作量较大的问题。
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公开(公告)号:CN211315024U
公开(公告)日:2020-08-21
申请号:CN201922052849.4
申请日:2019-11-25
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor: 杨依龙 , 武学伟 , 董博宇 , 李新颖 , 武树波 , 郭冰亮 , 宋玲彦 , 杨建 , 赵晨光 , 马迎功 , 刘玉杰 , 张家昊 , 陈玉静 , 张璐 , 翟洪涛 , 甄梓杨 , 孙鲁阳
Abstract: 本申请实施例提供了一种减振结构、丝杠升降机构及半导体加工设备。该减振结构设置于丝杠升降机构的丝杠螺母及升降套筒组件之间,用于对升降套筒组件减振。减振结构包括:第一连接件、第二连接件及减振组件;第一连接件及第二连接件平行且间隔设置,第一连接件与丝杠螺母连接,第二连接件与升降套筒连接;第一连接件及第二连接件左右两侧均设置有减振组件,并且减振组件的两端分别第一连接件及第二连接件的侧面连接,第二连接件能相对于第一连接件沿前后方向移动。本申请实施例可以有效提高丝杠升降组件的安全性及稳定性,进而有效提高了工艺的安全性,可以有效提高经济效益。
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公开(公告)号:CN222729880U
公开(公告)日:2025-04-08
申请号:CN202421395142.8
申请日:2024-06-18
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本申请提供了一种上电极装置及磁控溅射设备,上电极装置包括磁控部件、冷却腔、套筒组件、空心轴以及驱动机构,冷却腔的底部固定设置有靶材组件,磁控部件设置在冷却腔中;空心轴部分穿入冷却腔中,空心轴内部设有介质通道,介质通道用于向冷却腔内输送冷却液;套筒组件套设在空心轴的外周,空心轴和套筒组件中的一者固定设置,另一者与磁控部件相连,并连接驱动机构,用于带动磁控部件绕空心轴转动。冷却液由介质通道输送入冷却腔中。磁控部件绕空心轴转动,带动冷却液流动,使冷却液在冷却腔内均匀扩散,提高冷却液的流动路径,进而提高靶材组件降温效率。另外,冷却液在冷却腔内可分布得更加均匀,提高了靶材组件降温的均匀性。
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公开(公告)号:CN219190236U
公开(公告)日:2023-06-16
申请号:CN202223547151.8
申请日:2022-12-27
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本申请提供一种机械手,用于托起晶圆,包括托手和多个支撑部;多个支撑部在托手的第一表面上沿预设圆周分布,用于支撑晶圆的边缘,支撑部远离托手的一端具有用于支撑晶圆支撑面,各个支撑部的支撑面与第一表面之间形成让位空间。在机械手托起翘曲的晶圆时,支撑部的支撑面贴合并支撑晶圆,翘曲的晶圆的最低点处于让位空间中,避免晶圆与托手接触,进而避免转运晶圆的过程中,机械手将晶圆划伤。
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