公开(公告)号：CN101641459A

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：CN200880008882.9

申请日：2008-03-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田中澄

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/4485 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明涉及的气化器(300)连接有多个块状的气化组件(310)，各气化组件具有：液态原料的喷出口；使从喷出口喷出的液态原料气化、生成原料气体的气化室(370)；贯通与其它气化组件接合的接合面而形成的液态原料流路(320)；和在液态原料流路的途中连通，将在该流路流通的液态原料导入喷出口的喷雾喷嘴，各气化组件利用其接合面与其它气化组件接合，由此各气化组件的液态原料流路全部连通。据此，在要求从小流量到大流量的各种原料气体的流量的情况下，能够不降低气化效率而根据该原料气体流量简单地变更气化器的构成。

公开(公告)号：CN100388434C

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200380110150.8

申请日：2003-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 池田太郎 ,  田中澄 ,  山本薰

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32431 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831 ,  Y10T279/23

Abstract: 半导体处理用的基板保持结构(50)包括配置在处理室(20)内的、放置被处理基板(W)的放置台(51)。在放置台(51)内形成收容作为热交换介质而使用的流体的温度调节空间(507)。为了将高频电力导入放置台(51)而配置导电性传送路径(502)。在传送路径(502)内形成有相对温度调节空间(507)进行热交换介质流体的供给或者排出的流路(505、506)。

公开(公告)号：CN102473670A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080033137.7

申请日：2010-07-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 野村正道 ,  小泉建次郎 ,  河西繁 ,  田中澄

IPC: H01L21/683 ,  C23C14/50 ,  C23C16/458 ,  H01L21/205 ,  H01L21/22 ,  H01L21/26 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/68792

Abstract: 本发明涉及一种处理装置，对被处理体实施规定的处理，其特征在于，包括：能排气的处理容器；配置在所述处理容器内、在上端侧支撑所述被处理体的由非磁性材料构成的旋转浮体；在所述旋转浮体上沿其周方向以规定间隔设置的由磁性材料构成的多个旋转XY用吸附体；在所述旋转浮体上沿其周方向设置的由磁性材料构成的环状的浮起用吸附体；设置在所述处理容器的外侧、在所述浮起用吸附体上向着垂直方向上方作用磁吸引力，调整所述旋转浮体的斜率并使其浮起的浮起用电磁铁组；设置在所述处理容器的外侧使磁吸引力作用在所述旋转XY用吸附体上、在水平方向进行所述浮起的所述旋转浮体的位置调整并使其旋转的旋转XY用电磁铁组；向所述处理容器内供给必要的气体的气体供给单元；对所述被处理体实施规定的处理的处理机构；和对装置整体的动作进行控制的装置控制部。

公开(公告)号：CN101790786A

公开(公告)日：2010-07-28

申请号：CN200880104506.X

申请日：2008-08-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田中澄 ,  川崎裕雄

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67103 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68792

Abstract: 本发明提供一种载置台结构，可以防止在载置台中产生很大的热应力，防止该载置台自身发生破损，并且可以抑制防腐蚀用的吹扫气体的供给量。载置台结构(54)，设于处理装置(20)的处理容器(22)内，用于载置应当处理的被处理体(W)，该载置台结构(54)具备：设有加热机构(64)的由电介质构成的载置台(58)；从上述处理容器的底部侧向上方延伸、可以拆装地支承上述载置台(58)的由电介质构成的圆筒状的支柱(56)。在上述载置台(58)的下面，接合有具有比上述支柱的直径小的直径的由电介质构成的圆筒状的保护管(60)。在上述保护管(60)内插过功能棒体(62)，该功能棒体(62)有具有达到上述载置台(58)的上端。

公开(公告)号：CN101772837A

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：CN200980100058.0

申请日：2009-03-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田中澄 ,  小松智仁 ,  川崎裕雄

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68757 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68792

Abstract: 本发明提供载置台构造以及处理装置，能防止对载置台产生大的热应力，防止该载置台自身破损，并且能抑制防止腐蚀用的吹扫气体的供给量。本发明涉及设置在能够排出内部的气体的处理容器(22)内，用于载置被处理体(W)的载置台构造(54)。该载置台构造(54)具备：载置被处理体(W)，由电介质构成的载置台(58)；设于载置台(58)，加热载置于载置台(58)的被处理体(W)的加热单元(64)；由电介质构成的多个保护支柱管(60)，它们以相对处理容器(22)的底部(44)竖立的方式设置，上端部与载置台(58)的下表面接合来支承载置台(58)。另外，在各保护支柱管(60)内插通有延伸到载置台的功能棒体(62)。

公开(公告)号：CN1742113B

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200480002736.7

申请日：2004-02-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河西繁 ,  河东进 ,  小松智仁 ,  齐藤哲也 ,  田中澄

IPC: C23C16/458 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45521 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明的真空处理装置具有以下部件：具有底部且可真空排气的处理容器；设置在所述处理容器内的载置台；对载置台上的基板进行加热的加热部；向处理容器内供给处理气体的处理气体供给部；包围载置台和处理容器底部之间的空间，使该空间与处理容器内的处理空间隔离的隔离部；向由隔离部包围的空间内供给清洗气体的清洗气体供给部；从由隔离部包围的空间内对清洗气体进行排气的清洗气体排气部；应调整由隔离部包围的空间内的压力，控制清洗气体供给部及/或清洗气体排气部的控制部；和贯通处理容器底部，插入由所述隔离部包围的空间内，并具有与载置台接触的前端部的温度检测部，隔离部具有与处理容器底部面接触的下端部，控制部将被隔离部包围的空间内的压力调整到比处理容器内的处理空间内的压力高。

公开(公告)号：CN101689486A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880022566.7

申请日：2008-06-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田中澄 ,  川崎裕雄

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/02 ,  H01L21/22 ,  H01L21/324 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68792

Abstract: 本发明提供一种载置台构造和热处理装置，该载置台构造包括：载置台，其具有由在分割成同心圆状的多个加热区域的每个分别配置的多个加热器部构成的加热单元，并且用于将作为热处理对象的被处理体载置在其上；在上述多个加热区域分别设置的多个温度测定单元；和用于立起并支承上述载置台的中空的支柱。上述支柱的直径从其下端部侧向上端部逐渐扩大，上述支柱的上端部与上述载置台的背面接合。各温度测定单元的测定单元主体插通上述中空的支柱内或在上述支柱的侧壁设置的插通路内。

公开(公告)号：CN100413024C

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200480030636.5

申请日：2004-08-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  住友电气工业株式会社

Inventor： 田中澄 ,  斋藤哲也 ,  夏原益宏 ,  仲田博彦

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68792 ,  H01L21/67103

Abstract: 本发明的目的在于，在保持被处理基板的基板保持构件中，抑制由基板保持台的热应力所造成的破损。在支柱末端部设有基板保持台的基板保持台构件中，在上述支柱和上述基板保持台的接合部形成有由内周面和外周面区划成的凸缘部，此时由上述凸缘部的内径向着上述基板保持台的下表面连续地增大的倾斜面形成上述内周面，而且在上述凸缘部所结合的上述基板保持台的下表面上，与上述凸缘部的外周面对应地形成U字型槽。

公开(公告)号：CN100349262C

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200480000855.9

申请日：2004-08-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田中澄 ,  釜石贵之 ,  铃木公贵

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/455

CPC classification number: H01L21/67017 ,  C23C16/45521 ,  C23C16/4584 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明的目的在于，防止处理气体侵入载置台下方的空间，在支柱(56)的上端部的内周部分设置支撑载置台(58)的下面的支撑面(62)，在支撑面(62)的外侧的支柱(56)的上端部的中间周向部分，形成沿着周向延伸的净化气体槽(64)。在与净化气体槽(64)的外侧的支柱(56)的上端部的外周部分对应的位置，设置狭窄流路(68)。从净化气体供给部件(66)提供给净化气体槽(64)内的净化气体，沿周向扩散到净化气体槽(64)内，从狭窄流路(68)向外侧流出，通过这样的净化气体的流动，可防止处理气体侵入净化气体槽(64)和载置台的下方的空间(S1)中。

公开(公告)号：CN101010792A

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200580028801.8

申请日：2005-10-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田中澄 ,  铃木公贵

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68792 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明提供一种为了大幅降低颗粒的产生量而进行改良后的基板旋转装置、以及具备该基板旋转装置的基板处理装置。基板旋转装置包括：直接或者间接地连接在基板支承体上的从动旋转体、例如从动环；和在与可动部件接触的状态下，进行旋转从而旋转驱动上述从动旋转体的驱动旋转体、例如，驱动转子。从动旋转体和驱动旋转体，由JIS R1607标准规定的破坏韧性的值以及/或者JIS R1601标准规定的三点弯曲强度的值不同的陶瓷材料构成。